F40 系列 包含的內(nèi)容:集成光譜儀/光源裝置FILMeasure 8 軟件FILMeasure **軟件 (用于遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)分析)MA-Cmount 安裝轉(zhuǎn)接器 顯微鏡轉(zhuǎn)接器光纖連接線BK7 參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000 厚度標(biāo)準(zhǔn)...
傳感器LFS-3有一個(gè)單獨(dú)的電源,通過D-Sub25插座連接到LFS-3控制單元。用D-Sub25電纜將電源連接到傳感器。每個(gè)單獨(dú)的AVI元件必須連接到傳感器后部的D-Sub15插座之一。LFS的實(shí)際位置并不重要,但它當(dāng)然必須放置在支持AVI單元的同一表面...
NanoX-8000輪廓儀的自動(dòng)化系統(tǒng)主要配置 : ? XY比較大行程650*650mm ? 支持415*510mm/510*610mm兩種尺寸 ? XY光柵分辨率 0.1um,定位精度 5um,重復(fù)精度 1um ? XY 平...
Smart View NT鍵合機(jī)特征 適合于自動(dòng)化和集成EVG鍵合系統(tǒng)(EVG560?,GEMINI ? 200和300mm配置) 用于3D互連,晶圓級(jí)封裝和大批量MEMS器件的晶圓堆疊 通用鍵合對(duì)準(zhǔn)器(面對(duì)面,背面,紅外和透明對(duì)準(zhǔn)) 無需Z軸運(yùn)動(dòng),也無需重新...
參考材料 備用 BK7 和二氧化硅參考材料。 BG-Microscope顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)取背景反射的小型抗反光鏡 BG-F10-RT平臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)獲取背景反射的抗反光鏡 REF-Al-1mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準(zhǔn) ...
輪廓儀的**團(tuán)隊(duì) 夏勇博士,江蘇省雙創(chuàng)人才 15年ADE,KAL-Tencor半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備公司研發(fā)、項(xiàng)目管理經(jīng)驗(yàn) SuperSight Inc. CEO/共同創(chuàng)始人,太陽能在線檢測(cè)設(shè)備 唐壽鴻博士,國家千人****...
GEMINI?FB特征: 新的SmartView?NT3面-面結(jié)合對(duì)準(zhǔn)具有亞50納米晶片到晶片的對(duì)準(zhǔn)精度 多達(dá)六個(gè)預(yù)處理模塊,例如: 清潔模塊 LowTemp?等離子基活模塊 對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證模塊 解鍵合模塊 XT框架概念...
表面三維輪廓儀對(duì)精密加工的作用: 一、從根源保障物件成品的準(zhǔn)確性: 通過光學(xué)表面三維輪廓儀的掃描檢測(cè),得出物件的誤差和超差參數(shù),**提高物件在生產(chǎn)加工時(shí)的精確度。杜絕因上游的微小誤差形成“蝴蝶效應(yīng)”,造成下游生產(chǎn)加工的更大偏離,**終導(dǎo)致整個(gè)生...
輪廓儀在集成電路的應(yīng)用 封**ump測(cè)量 視場(chǎng):72*96(um)物鏡:干涉50X 檢測(cè)位置:樣品局部 面減薄表面粗糙度分析 封裝:300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析 面粗糙度分析:2D, 3D顯示;線粗糙度分析:Ra, R...
AVI主動(dòng)隔震臺(tái) AVI應(yīng)用于掃描電鏡 1、如有可能,拆下掃描電鏡柱的側(cè)板。 2、使用掃描電鏡找平腳將立柱抬離地面至少6“。如有必要,在水平尺下放置木塊以增加高度。 3、拆下主銷后傾角和主銷后傾角螺栓(如有必要)。 4、將第 ...
IQ Aligner?NT曝光設(shè)定:硬接觸/軟接觸/接近模式/柔性模式 楔形補(bǔ)償:全自動(dòng)軟件控制;非接觸式 IQ Aligner?NT曝光選項(xiàng):間隔曝光/洪水曝光 先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能:自動(dòng)對(duì)準(zhǔn) 暗場(chǎng)對(duì)準(zhǔn)功能/完整的明場(chǎng)掩模移動(dòng)(...
長久鍵合系統(tǒng) EVG晶圓鍵合方法的引入將鍵合對(duì)準(zhǔn)與鍵合步驟分離開來,立即在業(yè)內(nèi)掀起了市場(chǎng)**。利用高溫和受控氣體環(huán)境下的高接觸力,這種新穎的方法已成為當(dāng)今的工藝標(biāo)準(zhǔn),EVG的鍵合機(jī)設(shè)備占據(jù)了半自動(dòng)和全自動(dòng)晶圓鍵合機(jī)的主要市場(chǎng)份額,并且安裝的機(jī)臺(tái)已經(jīng)超過1500...
1.5. 系統(tǒng)培訓(xùn)的注意事項(xiàng) 如何使用電子書閱讀軟件和軟、硬件的操作手冊(cè); 數(shù)據(jù)采集功能的講解:通訊端口、連接計(jì)算器、等待時(shí)間等參數(shù)的解釋和參數(shù)設(shè)置; 實(shí)際演示一一講解; 如何做好備份和恢復(fù)備份資料;...
EVG?850TB 自動(dòng)化臨時(shí)鍵合系統(tǒng) 全自動(dòng)將臨時(shí)晶圓晶圓鍵合到剛性載體上 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) 全自動(dòng)的臨時(shí)鍵合系統(tǒng)可在一個(gè)自動(dòng)化工具中實(shí)現(xiàn)整個(gè)臨時(shí)鍵合過程-從臨時(shí)鍵合劑的施加,烘焙,將設(shè)備晶圓與載體晶圓的對(duì)準(zhǔn)和鍵合開始。與所有EVG的全自動(dòng)工具一樣,設(shè)備布局是...
輪廓儀對(duì)所測(cè)樣品的尺寸有何要求? 答:輪廓儀對(duì)載物臺(tái)xy行程為140*110mm(可擴(kuò)展),Z向測(cè)量范圍比較大可達(dá)10mm,但由于白光干涉儀單次測(cè)量區(qū)域比較?。ㄒ?0X鏡頭為例,在1mm左右),因而在測(cè)量大尺寸的樣品時(shí),全檢的方式需要進(jìn)行拼接測(cè)量,檢...
接觸探頭測(cè)量彎曲和難測(cè)的表面 CP-1-1.3測(cè)量平面或球形樣品,結(jié)實(shí)耐用的不銹鋼單線圈。 CP-1-AR-1.3可以抑 制背面反射,對(duì) 1.5mm 厚的基板可抑 制 96%。 鋼制單線圈外加PVC涂層,比較大可測(cè)厚度 15um。 CP-...
納米壓印設(shè)備哪個(gè)好?預(yù)墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術(shù)用于表面化學(xué)的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。 納米壓印設(shè)備可以進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。 將聚合物片或旋涂聚合物加...
鏡頭組件Filmetrics 提供幾十種不同鏡頭配置。訂制專門用途 的鏡片一般在幾天之內(nèi)可以完成。 LA-GL25-25-30-EXR用于 60-1000mm 工作距離的直徑 1" 鏡頭組件,30mm 焦距鏡頭。KM-GL25用于直徑 1" 鏡頭的簡...
超納輪廓儀的主設(shè)計(jì)簡介: 中組部第十一批“****”****,美國KLA-Tencor(集成電路行業(yè)檢測(cè)設(shè)備市場(chǎng)的**企業(yè))***研發(fā)總監(jiān),干涉測(cè)量技術(shù)**美國上市公司ADE-Phaseift的總研發(fā)工程師,創(chuàng)造多項(xiàng)干涉測(cè)量數(shù)字化所需的關(guān)鍵算...
EVG ? 150--光刻膠自動(dòng)處理系統(tǒng) EVG ? 150是全自動(dòng)化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達(dá)300毫米。 EVG150設(shè)計(jì)為完全模塊化的平臺(tái),可實(shí)現(xiàn)自動(dòng)噴涂/旋轉(zhuǎn)/顯影過程和高通量性能。EVG150可確保涂層高度均...
針對(duì)表面帶有微結(jié)構(gòu)硅晶圓的封裝展開研究,以采用 Ti / Au 作為金屬過渡層的硅—硅共晶鍵合為對(duì)象,提出一種表面帶有微結(jié)構(gòu)的硅—硅共晶鍵合工藝,以親水濕法表面活化處理降低硅片表面雜質(zhì)含量,以微裝配平臺(tái)與鍵合機(jī)控制鍵合環(huán)境及溫度來保證鍵合精度與鍵合強(qiáng)度,使用恒...
硬涂層厚度測(cè)量Filmetrics 系統(tǒng)在汽車和航空工業(yè)得到廣泛應(yīng)用,用于測(cè)量硬涂層和其他保護(hù)性薄膜的厚度。F10-HC 是為彎曲表面和多層薄膜 (例如, 底涂/硬涂層) 而專門設(shè)計(jì)的。 汽車前燈在汽車前燈組件的制造中需要進(jìn)行多點(diǎn)測(cè)量,因?yàn)橥繉雍穸葘?duì)...
接觸探頭測(cè)量彎曲和難測(cè)的表面 CP-1-1.3測(cè)量平面或球形樣品,結(jié)實(shí)耐用的不銹鋼單線圈。 CP-1-AR-1.3可以抑 制背面反射,對(duì) 1.5mm 厚的基板可抑 制 96%。 鋼制單線圈外加PVC涂層,比較大可測(cè)厚度 15um。 CP-...
EVG ? 620 NT特征: 頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力 高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) 自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列 電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持 多用...
輪廓儀是一種兩坐標(biāo)測(cè)量儀器,儀器傳感器相對(duì)被測(cè)工件表而作勻速滑行,傳感器的觸針感受到被測(cè)表而的幾何變化,在X和Z方向分別采樣,并轉(zhuǎn)換成電信號(hào),該電信號(hào)經(jīng)放大和處理,再轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號(hào)儲(chǔ)存在計(jì)算機(jī)系統(tǒng)的存儲(chǔ)器中,計(jì)算機(jī)對(duì)原始表而輪廓進(jìn)行數(shù)字濾波,分離掉表而粗糙...
EVG ? 150特征2: 先進(jìn)且經(jīng)過現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的機(jī)器人具有雙末端執(zhí)行器功能,可確保連續(xù)的高產(chǎn)量 處理厚或超薄,易碎,彎曲或小直徑的晶圓 用于旋涂和噴涂,顯影,烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應(yīng)用領(lǐng)域提供了巨大的機(jī)會(huì) EFEM...
FSM膜厚儀簡單介紹: FSM 128 厚度以及TSV和翹曲變形測(cè)試設(shè)備: 美國Frontier Semiconductor(FSM)成立于1988年,總部位于圣何塞,多年來為半導(dǎo)體行業(yè)等高新行業(yè)提供各式精密的測(cè)量設(shè)備,客戶遍布全世界, 主要產(chǎn)...
EVG的光刻機(jī)技術(shù):EVG在光刻技術(shù)上的關(guān)鍵能力在于其掩模對(duì)準(zhǔn)器的高產(chǎn)能,接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關(guān)知識(shí)。EVG的所有光刻設(shè)備平臺(tái)均支持300毫米的晶圓,可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中,并配有用于從上到下的側(cè)面對(duì)...
NanoX-2000/3000 系列 3D 光學(xué)干涉輪廓儀建立在移相干涉測(cè)量(PSI)、白光垂直掃描干涉測(cè)量(VSI)和單色光 垂直掃描干涉測(cè)量(CSI)等技術(shù)的基礎(chǔ)上,以其納米級(jí)測(cè)量準(zhǔn)確度和重復(fù)性(穩(wěn)定性)定量地反映出被測(cè)件的表面粗 糙...
F10-ARc 獲得**精確的測(cè)量.自動(dòng)基準(zhǔn)功能**增加基準(zhǔn)間隔時(shí)間, 量測(cè)準(zhǔn)確性優(yōu)於其他光纖探頭反射測(cè)量系統(tǒng)5倍可選擇UPG - F10-AR - HC軟件升級(jí) 測(cè)量0.25-15μm硬涂層的厚度. 即使在防反射涂層存在時(shí)仍可測(cè)量硬涂層厚度我們獨(dú) ...