-
干涉儀隔振臺(tái)研發(fā)生產(chǎn)主動(dòng)式隔震臺(tái)工作機(jī)理 主動(dòng)防振臺(tái)通過(guò)電氣控制，向傳入振動(dòng)瞬間施加反方向的力，從而消除振動(dòng)。測(cè)振傳感器不斷監(jiān)測(cè)振動(dòng)，制動(dòng)器根據(jù)這些信號(hào)產(chǎn)生反向力，以保持比較好的隔振狀態(tài)。主動(dòng)式防震臺(tái)專門研究10Hz以下低頻范圍的防震。 （1）實(shí)際測(cè)量的振動(dòng)結(jié)果：...
2020-08-02 -
膜厚儀膜厚儀24小時(shí)在線服務(wù)
F50 系列 包含的內(nèi)容：集成光譜儀/光源裝置光纖電纜4", 6" and 200mm 參考晶圓TS-SiO2-4-7200 厚度標(biāo)準(zhǔn)BK7 參考材料整平濾波器 (用于高反射基板)真空泵備用燈 型號(hào) 厚度范圍*波長(zhǎng)范圍 F50：20nm-...
2020-08-01 -
TS-140+40/LP隔振臺(tái)質(zhì)量怎么樣
傳感器LFS-3有一個(gè)單獨(dú)的電源，通過(guò)D-Sub25插座連接到LFS-3控制單元。用D-Sub25電纜將電源連接到傳感器。每個(gè)單獨(dú)的AVI元件必須連接到傳感器后部的D-Sub15插座之一。LFS的實(shí)際位置并不重要，但它當(dāng)然必須放置在支持AVI單元的同一表面...
2020-08-01 -
紫外光納米壓印推薦廠家
EVG ? 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng) 具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，從碎片到比較大150毫米。 該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包...
2020-07-31 -
ITO膜厚儀出廠價(jià)
技術(shù)介紹： 紅外干涉測(cè)量技術(shù), 非接觸式測(cè)量。采用Michaelson干涉方法，紅外波段的激光能更好的穿透被測(cè)物體，準(zhǔn)確的得到測(cè)試結(jié)果。 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：FSM 413EC 紅外干涉測(cè)量設(shè)備 適用于所有可讓紅外線通過(guò)的材料：硅、藍(lán)寶石、...
2020-07-31 -
發(fā)射式電子顯微鏡隔振臺(tái)國(guó)內(nèi)代理
該系統(tǒng)的固有剛度比1 Hz諧振無(wú)源隔離器的固有剛度大25倍，可提供出色的方向和位置穩(wěn)定性。 有源隔離系統(tǒng)的特性通常表現(xiàn)為幾乎沒(méi)有低頻共振，這種共振困擾著所有無(wú)源隔離系統(tǒng)。 該系統(tǒng)的設(shè)計(jì)即使在低至2-3Hz的頻率下也能提供出色的隔離...
2020-07-30 -
EVG510鍵合機(jī)試用
EVG?810LT LowTemp?等離子激/活系統(tǒng) 適用于SOI，MEMS，化合物半導(dǎo)體和先進(jìn)基板鍵合的低溫等離子體活化系統(tǒng) 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) EVG810LTLowTemp?等離子活化系統(tǒng)是具有手動(dòng)操作的單腔**單元。處理室允許進(jìn)行異位處理（晶圓被一一激/活...
2020-07-30 -
減震臺(tái)隔振臺(tái)應(yīng)用
AVI 200-XL AVI 200-XL的基本配置包括兩個(gè)單獨(dú)的承載模塊和一個(gè)控制單元，比較大可承載400公斤重量。通過(guò)增加隔振模塊的數(shù)量，可以輕松承受更大的負(fù)載。為了使AVI200-M適應(yīng)用戶特定的應(yīng)用，可以按特殊順序提供不同長(zhǎng)度的單個(gè)元件。 ...
2020-07-29 -
HERZAN隔振臺(tái)高性價(jià)比選擇
把手輕輕地放在桌面上?？赡軙?huì)有一個(gè)或多個(gè)LED亮起，表示過(guò)載。了解在不造成過(guò)載的情況下可以施加多少力。如果您現(xiàn)在對(duì)桌面施加很大的力，所有過(guò)載指示燈都將亮起，隔離指示燈將閃爍幾秒鐘，表示系統(tǒng)在過(guò)載解除（待機(jī)模式）之前暫時(shí)不再隔離。卸下過(guò)載后，隔離燈應(yīng)再次亮起，系...
2020-07-28 -
**輪廓儀值得買
強(qiáng)大的輪廓儀光電一體軟件 美國(guó)硅谷研發(fā)、中英文自由切換 光機(jī)電一體化軟硬件集成 三維分析處理迅速，結(jié)果實(shí)時(shí)更新 縮放、定位、平移、旋轉(zhuǎn)等三維圖像處理 自主設(shè)定測(cè)量閾值，三維處理自動(dòng)標(biāo)注 ...
2020-07-28 -
半導(dǎo)體設(shè)備光刻機(jī)免稅價(jià)格
HERCULES? ■ 全自動(dòng)光刻跟/蹤系統(tǒng)，模塊化設(shè)計(jì)，用于掩模和曝光，集成了預(yù)處理和后處理能力 ■ 高產(chǎn)量的晶圓加工 ■ **多8個(gè)濕法處理模塊以及多達(dá)24個(gè)額外烘烤，冷卻和蒸汽填料板 ■ 基于EVG的IQ Ali...
2020-07-27 -
Filmetrics Profilm3D膜厚儀推薦型號(hào)
F10-AR 無(wú)須處理涂層背面我們探頭設(shè)計(jì)能抑 制 1.5mm 厚基板 98% 的背面反射，使用更厚的鏡頭抑 制的更多。 就像我們所有的臺(tái)式儀器一樣，F(xiàn)10-AR 需要連接到您裝有 Windows 計(jì)算機(jī)的 USB 端口上并在數(shù)分鐘內(nèi)即可完成設(shè)...
2020-07-27 -
低溫鍵合機(jī)中芯在用嗎
EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng)，可處理從單芯片到150 mm（200 mm鍵合室的情況下為200 mm）的基片。該工具支持所有常見(jiàn)的晶圓鍵合工藝，如陽(yáng)極，玻璃料，焊料，共晶，瞬態(tài)液相和直接鍵合。易于操作的鍵合室和工具設(shè)計(jì)，讓用戶能快速，輕松地重新裝配...
2020-07-26 -
晶圓片納米壓印優(yōu)惠價(jià)格
曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用，例如仿生學(xué)、柔性電子學(xué)和光學(xué)器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板，可以實(shí)現(xiàn)亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無(wú)法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu)。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無(wú)外界提供壓力下與曲面保形...
2020-07-26 -
福建光刻機(jī)測(cè)樣
光刻機(jī)處理結(jié)果:EVG在光刻技術(shù)方面的核心競(jìng)爭(zhēng)力在于其掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)（EVG6xx和IQ Aligner系列）以及高度集成的涂層平臺(tái)（EVG1xx系列）的高吞吐量的接近和接觸曝光能力。EVG的所有光刻設(shè)備平臺(tái)均為300mm，可完全集成到HERCULES光刻軌...
2020-07-26 -
高校光刻機(jī)輪廓測(cè)量應(yīng)用
EVG ? 150光刻膠處理系統(tǒng)分配選項(xiàng)： 各種光刻膠分配泵，可覆蓋高達(dá)52000 cP的粘度 液體底漆/預(yù)濕/洗盤(pán) 去除邊緣珠（EBR）/背面沖洗（BSR） 恒壓分配系統(tǒng)/注射器分配系統(tǒng) 電阻分配泵具有流量監(jiān)控功能 可...
2020-07-26 -
中芯國(guó)際隔振臺(tái)供應(yīng)商家
把手輕輕地放在桌面上。可能會(huì)有一個(gè)或多個(gè)LED亮起，表示過(guò)載。了解在不造成過(guò)載的情況下可以施加多少力。如果您現(xiàn)在對(duì)桌面施加很大的力，所有過(guò)載指示燈都將亮起，隔離指示燈將閃爍幾秒鐘，表示系統(tǒng)在過(guò)載解除（待機(jī)模式）之前暫時(shí)不再隔離。卸下過(guò)載后，隔離燈應(yīng)再次亮起，系...
2020-07-26 -
湖南光刻機(jī)微流控應(yīng)用
EVG的光刻機(jī)技術(shù)：EVG在光刻技術(shù)上的關(guān)鍵能力在于其掩模對(duì)準(zhǔn)器的高產(chǎn)能，接觸和接近曝光功能以及其光刻膠處理系統(tǒng)的內(nèi)部處理的相關(guān)知識(shí)。EVG的所有光刻設(shè)備平臺(tái)均支持300毫米的晶圓，可以完全集成到其HERCULES光刻軌道系統(tǒng)中，并配有用于從上到下的側(cè)面對(duì)...
2020-07-25 -
襯底膜厚儀研發(fā)可以用嗎
銦錫氧化物與透明導(dǎo)電氧化物液晶顯示器，有機(jī)發(fā)光二極管變異體，以及絕大多數(shù)平面顯示器技術(shù)都依靠透明導(dǎo)電氧化物 (TCO) 來(lái)傳輸電流，并作每個(gè)發(fā)光元素的陽(yáng)極。 和任何薄膜工藝一樣，了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關(guān)重要。 對(duì)于液晶顯示器而言，就需要有測(cè)量聚酰亞...
2020-07-25 -
四川碳化硅隔振臺(tái)
AVI 200-XL AVI 200-XL的基本配置包括兩個(gè)單獨(dú)的承載模塊和一個(gè)控制單元，比較大可承載400公斤重量。通過(guò)增加隔振模塊的數(shù)量，可以輕松承受更大的負(fù)載。為了使AVI200-M適應(yīng)用戶特定的應(yīng)用，可以按特殊順序提供不同長(zhǎng)度的單個(gè)元件。 ...
2020-07-25 -
三維輪廓儀報(bào)價(jià)
強(qiáng)大的輪廓儀光電一體軟件 美國(guó)硅谷研發(fā)、中英文自由切換 光機(jī)電一體化軟硬件集成 三維分析處理迅速，結(jié)果實(shí)時(shí)更新 縮放、定位、平移、旋轉(zhuǎn)等三維圖像處理 自主設(shè)定測(cè)量閾值，三維處理自動(dòng)標(biāo)注 ...
2020-07-25 -
隔震臺(tái)隔振臺(tái)競(jìng)爭(zhēng)力怎么樣
1、使用2 mm內(nèi)六角扳手（包括在內(nèi)）拆下模塊端板。 2、根據(jù)掃描電鏡的重量調(diào)整模塊。 在每個(gè)中心柱上的橫梁上方和下方應(yīng)該有一個(gè)間隙，允許每側(cè)大約有2mm的行程。 B、使用M6活動(dòng)扳手（包括）轉(zhuǎn)動(dòng)位于支撐彈簧頂部的調(diào)整螺母。向右轉(zhuǎn)動(dòng)扳手可...
2020-07-25 -
優(yōu)惠價(jià)格鍵合機(jī)實(shí)際價(jià)格
一旦將晶片粘合在一起，就必須測(cè)試粘合表面，看該工藝是否成功。通常，將批處理過(guò)程中產(chǎn)生的一部分產(chǎn)量留給破壞性和非破壞性測(cè)試方法使用。破壞性測(cè)試方法用于測(cè)試成品的整體剪切強(qiáng)度。非破壞性方法用于評(píng)估粘合過(guò)程中是否出現(xiàn)了裂紋或異常，從而有助于確保成品沒(méi)有缺陷。 ...
2021-11-15 -
青海納米壓印售后服務(wù)
HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。 EVG的HERCULES ? NIL產(chǎn)品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫...
2021-11-15 -
本地納米壓印實(shí)際價(jià)格
通過(guò)中心提供的試驗(yàn)生產(chǎn)線基礎(chǔ)設(shè)施，WaveOptics將超越其客戶對(duì)下個(gè)季度的預(yù)期需求，并有一條可靠的途徑將大批量生產(chǎn)工藝和設(shè)備轉(zhuǎn)移至能夠大規(guī)模生產(chǎn)波導(dǎo)的指定設(shè)施適用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics與EVG的合...
2021-11-14 -
湖北膜厚儀
濾光片整平光譜響應(yīng)。 ND#0.5 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見(jiàn)光光譜均勻度 + ND#0.5 衰減整平濾波器. ND#1 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見(jiàn)光光譜均勻度 + ND#1 衰減整平濾波器. ND#2 衰...
2021-11-14 -
云南光刻機(jī)學(xué)校會(huì)用嗎
EVG鍵合機(jī)掩模對(duì)準(zhǔn)系列產(chǎn)品，使用**/先進(jìn)的工程技術(shù)。 用戶對(duì)接近式對(duì)準(zhǔn)器的主要需求由幾個(gè)關(guān)鍵參數(shù)決定。亞微米對(duì)準(zhǔn)精度，掩模和晶片之間受控的均勻接近間隙，以及對(duì)應(yīng)于抗蝕劑靈敏度的已經(jīng)明確定義且易于控制的曝光光譜是**重要的標(biāo)準(zhǔn)。此外，整個(gè)晶圓表面的高光...
2021-11-13 -
粗糙度儀輪廓儀國(guó)內(nèi)代理
filmOnline查film3D圖像並與其互動(dòng).請(qǐng)參考我們新型光學(xué)輪廓儀!film3D使得光學(xué)輪廓測(cè)量更易負(fù)擔(dān)***，表面粗糙度和表面形貌測(cè)量可以用比探針式輪廓儀成本更低的儀器來(lái)進(jìn)行。film3D具有3倍於于其成本儀器的次納米級(jí)垂直分辨率,film3...
2021-11-13 -
日本隔振臺(tái)售后服務(wù)
AVI400-S AVI 400-S的基本配置包括兩個(gè)緊湊型單元和一個(gè)控制單元，比較大負(fù)載為800公斤。通過(guò)增加緊湊型模塊的數(shù)量，可以輕松實(shí)現(xiàn)對(duì)更高負(fù)載的支持。為了使AVI400-S適應(yīng)用戶特定的應(yīng)用，可以使用不同長(zhǎng)度的緊湊型裝置。 AVI 4...
2021-11-12 -
掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)美元價(jià)格
我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。 我們的掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于從掩模對(duì)準(zhǔn)到鍵合對(duì)準(zhǔn)的快速簡(jiǎn)便轉(zhuǎn)換。此外，可以使用用于壓印光刻的可選工具集，例如UV-納米壓印光刻，熱壓印或微接觸印刷。所有系統(tǒng)均支持原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證軟件，以提高手動(dòng)操作系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)...
2021-11-12