唯恒塬環(huán)保科技（蘇州）有限公司2025-09-10

水基真空清洗機(jī)為電子半導(dǎo)體行業(yè)定制清洗方案，需圍繞 “超潔凈 + 無損傷 + 低污染” 主要要求，適配半導(dǎo)體部件（如晶圓載具、芯片支架）的精密結(jié)構(gòu)與材質(zhì)特性，符合 SEMI 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)。首先，針對(duì)晶圓載具（如石英舟、碳化硅載具），污染以光刻膠殘留、拋光液、金屬離子為主，方案主要是 “超純清洗 + 離子控制”：選用電子級(jí)超純水基清洗劑（電阻率≥18MΩ?cm），不含金屬離子（Na、K、Fe 等≤0.01ppb）、顆粒（粒徑≥0.1μm≤1 個(gè) /mL），通過 SEMI C12 認(rèn)證；清洗溫度控制在 40-45℃，避免高溫導(dǎo)致載具變形；超聲波頻率 80-100kHz（高頻低功率，80-100W/L），減少對(duì)載具表面的沖擊；清洗時(shí)間 15-20 分鐘，配合 “真空 - 破真空” 循環(huán) 3 次，確保載具縫隙內(nèi)光刻膠徹底去除。漂洗用超純水（電阻率≥18.2MΩ?cm），漂洗 4-5 次，每次 10 分鐘，一次漂洗后用氮?dú)獯蹈杀砻鏆埩羲郑缓娓呻A段通入超純氮?dú)猓兌取?9.9999%），溫度 55-60℃，真空度 - 0.098MPa，時(shí)間 25-30 分鐘，確保載具表面金屬離子≤0.001ppb，顆?！?.1μm≤1 個(gè) /cm2。其次，針對(duì)芯片支架（如銅合金引線框架），污染以沖壓油、指紋、氧化層為主，方案主要是 “無殘留 + 防氧化”：清洗劑選用低離子水基清洗劑（電導(dǎo)率≤10μS/cm），含輕微除銹成分（如檸檬酸，濃度 0.5%），去除氧化層同時(shí)不腐蝕銅合金；清洗溫度 35-40℃，超聲波頻率 60-80kHz，功率 100-120W/L，清洗 12-15 分鐘；漂洗用超純水，漂洗 3 次，每次 8 分鐘；烘干后立即進(jìn)行鈍化處理（浸泡在苯并三氮唑溶液中 5 分鐘），防止銅合金氧化。另外，方案需滿足行業(yè)合規(guī)要求：設(shè)備安裝在 Class 100 潔凈室（ISO 5 級(jí)），清洗槽、管道采用 316L 不銹鋼電解拋光處理（Ra≤0.1μm）；配備在線顆粒計(jì)數(shù)器、離子色譜儀，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)清洗液純度；清洗數(shù)據(jù)與半導(dǎo)體工廠 MES 系統(tǒng)對(duì)接，實(shí)現(xiàn)全程追溯；廢水處理采用 “超濾 + 反滲透 + EDI” 工藝，達(dá)標(biāo)后回用（回用率≥70%），滿足電子半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)超潔凈、低污染的嚴(yán)苛要求。

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