如果GATE相對于BACKGATE反向偏置，空穴被吸引到表面，channel形成了，因此PMOS管的閾值電壓是負(fù)值。由于NMOS管的閾值電壓是正的，PMOS的閾值電壓是負(fù)的，所以工程師們通常會(huì)去掉閾值電壓前面的符號，一個(gè)工程師可能說，"PMOS Vt從0.6V上升到0.7V"， 實(shí)際上PMOS的Vt是從-0.6V下降到-0.7V。場效應(yīng)管通過投影一個(gè)電場在一個(gè)絕緣層上來影響流過晶體管的電流。事實(shí)上沒有電流流過這個(gè)絕緣體，所以FET管的GATE電流非常小。較普通的FET用一薄層二氧化硅來作為GATE極下的絕緣體。這種晶體管稱為金屬氧化物半導(dǎo)體(MOS)晶體管，或,金屬氧化物半導(dǎo)體場效應(yīng)管（MOSFET）。因?yàn)镸OS管更小更省電，所以他們已經(jīng)在很多應(yīng)用場合取代了雙極型晶體管。場效應(yīng)管具有放大作用，能將較小的輸入信號放大成較大的輸出信號，普遍應(yīng)用于音頻放大器、射頻放大器等。源極場效應(yīng)管測量方法

導(dǎo)通電阻（R_DS(on)）：場效應(yīng)管導(dǎo)通時(shí)的漏極與源極之間的電阻。它決定了電流通過器件時(shí)的壓降和功耗，較小的導(dǎo)通電阻意味著較低的功耗和較高的電流驅(qū)動(dòng)能力。較大漏極電流（I_D(max)）：場效應(yīng)管能夠承受的較大電流，超過這個(gè)電流值可能會(huì)導(dǎo)致器件過熱、性能退化甚至長久損壞。較大漏極-源極電壓（V_DS(max)）：場效應(yīng)管能夠承受的較大電壓。超過這個(gè)電壓值可能會(huì)導(dǎo)致場效應(yīng)管的擊穿、熱損傷或其他形式的損壞。柵極電容（C_iss）：柵極與漏極之間的輸入電容。它影響了信號的傳輸速度和開關(guān)過程中的電荷存儲(chǔ)。源極場效應(yīng)管測量方法場效應(yīng)管在新能源汽車、物聯(lián)網(wǎng)、5G通信等新興領(lǐng)域具有巨大的創(chuàng)新應(yīng)用潛力。

當(dāng)滿足 MOS 管的導(dǎo)通條件時(shí)，MOS 管的 D 極和 S 極會(huì)導(dǎo)通，這個(gè)時(shí)候體二極管是截止?fàn)顟B(tài)。因?yàn)?MOS 管導(dǎo)通內(nèi)阻很小，不足以使寄生二極管導(dǎo)通。MOS管的導(dǎo)通條件，PMOS增強(qiáng)型管：UG-US<0 , 且 |UG-US|>|UGSTH| ， UGSTH是開啟電壓；NMOS增強(qiáng)型管：UG-US>0，且 |UG-US|>|UGSTH| ，UGSTH是開啟電壓；PMOS導(dǎo)通是在G和S之間加G負(fù)S正電壓。NMOS相反。MOS管工作狀態(tài)，MOSFET 不同于三極管，因?yàn)槟承┬吞柗庋b內(nèi)有并聯(lián)二極管，所以其 D 和 S 極是不能反接的，且 N 管必須由 D 流向 S，P 管必須由 S 流向 D。

多晶硅金場效應(yīng)管在物聯(lián)網(wǎng)芯片中的作用：在物聯(lián)網(wǎng)蓬勃發(fā)展的時(shí)代，海量設(shè)備需要互聯(lián)互通，多晶硅金場效應(yīng)管為物聯(lián)網(wǎng)芯片注入了強(qiáng)大動(dòng)力。物聯(lián)網(wǎng)芯片需要在低功耗的前提下，高效處理大量的數(shù)據(jù)。多晶硅金場效應(yīng)管的穩(wěn)定性與低功耗特性完美契合這一需求。以智能家居傳感器節(jié)點(diǎn)芯片為例，這些節(jié)點(diǎn)分布在家庭的各個(gè)角落，負(fù)責(zé)采集溫濕度、光照、空氣質(zhì)量等環(huán)境數(shù)據(jù)，并將數(shù)據(jù)準(zhǔn)確上傳至云端。多晶硅金場效應(yīng)管能夠穩(wěn)定運(yùn)行數(shù)據(jù)采集與傳輸電路，而且能耗極低，一顆小小的紐扣電池就能維持設(shè)備運(yùn)行數(shù)年之久。這不僅保障了物聯(lián)網(wǎng)設(shè)備長期穩(wěn)定運(yùn)行，減少了更換電池的麻煩，還降低了維護(hù)成本，為構(gòu)建智能、便捷的生活環(huán)境奠定了基礎(chǔ)，讓用戶能夠輕松享受智能家居帶來的舒適與便利。場效應(yīng)管在數(shù)字電子電路中的應(yīng)用日益普遍，可以用于高速通訊、計(jì)算機(jī)處理和控制系統(tǒng)中。

金屬半導(dǎo)體場效應(yīng)管（MESFET），其結(jié)構(gòu)獨(dú)特之處在于利用金屬與半導(dǎo)體接觸形成的肖特基勢壘作為柵極。這種特殊的柵極結(jié)構(gòu)，當(dāng)施加合適的柵源電壓時(shí)，能夠極為精細(xì)地調(diào)控溝道的導(dǎo)電能力。從微觀層面來看，高純度的半導(dǎo)體材料使得電子遷移率極高，電子在其中移動(dòng)時(shí)幾乎不受阻礙，這賦予了 MESFET 極快的信號響應(yīng)速度。在微波通信領(lǐng)域，信號頻率極高且瞬息萬變，例如 5G 基站的射頻前端模塊，每秒要處理數(shù)十億次的高頻信號。MESFET 憑借其優(yōu)良性能，可輕松將微弱的射頻信號高效放大，同時(shí)精細(xì)地完成信號轉(zhuǎn)換，確保基站與終端設(shè)備之間的通信穩(wěn)定且高速。無論是高清視頻的流暢播放，還是云端數(shù)據(jù)的快速下載，MESFET 都為 5G 網(wǎng)絡(luò)低延遲、高帶寬的特性提供了不可或缺的關(guān)鍵支持，推動(dòng)著無線通信技術(shù)邁向新的高度。場效應(yīng)管的發(fā)展趨勢是向著高集成度、低功耗、高可靠性和多功能化方向發(fā)展。中山結(jié)型場效應(yīng)管

使用場效應(yīng)管時(shí)需注意靜電防護(hù)，防止損壞敏感的柵極。源極場效應(yīng)管測量方法

什么是MOSFET，mos管是金屬(metal)、氧化物(oxide)、半導(dǎo)體(semiconductor)場效應(yīng)晶體管，或者稱是金屬—絕緣體(insulator)、半導(dǎo)體。MOS管的source和drain是可以對調(diào)的，他們都是在P型back gate中形成的N型區(qū)。在多數(shù)情況下，這個(gè)兩個(gè)區(qū)是一樣的，即使兩端對調(diào)也不會(huì)影響器件的性能。這樣的器件被認(rèn)為是對稱的。場效應(yīng)管（FET），把輸入電壓的變化轉(zhuǎn)化為輸出電流的變化。FET的增益等于它的跨導(dǎo)， 定義為輸出電流的變化和輸入電壓變化之比。市面上常有的一般為N溝道和P溝道，詳情參考右側(cè)圖片（P溝道耗盡型MOS管）。而P溝道常見的為低壓mos管。源極場效應(yīng)管測量方法