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常在印刷電路板，液晶顯示面板，半導(dǎo)體集成電路等工藝制造過程中，需要通過多次圖形掩膜照射曝光及蝕刻等工序在硅晶圓或玻璃基片上形成多層精密的微電路，形成微電路之后，進一步用剝離液將涂覆在微電路保護區(qū)域上作為掩膜的光刻膠除去。比如光電TFT-LCD生產(chǎn)工...

在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本申請實施例提供的剝離液機臺的種結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為本申請實施例提供的剝離液機臺的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本申請實施例提供的剝離液機臺的第三種結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本申請實施例提供的剝離...

但現(xiàn)有的回收裝置普遍存在如下問題：剝離廢液利用水洗裝置水洗過濾出光刻膠樹脂成分，回收率低。為了解決這一問題，現(xiàn)有技術(shù)通常再向剝離廢液中加入沉淀劑繼續(xù)反應(yīng)，而后沉淀過濾出光刻膠樹脂成分，但所得到的光刻膠樹脂成分品質(zhì)不宜再用于光刻膠原料，只能用于其他要求較...

所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器，所述道包括多個子管道，每一所述子管道與一子過濾器連通，且所述多個子管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲箱連通。在一些實施例中，所述第二管道包括公共子管道及多個第二子管道，每一所述第二子管道與一子過濾器連通，每一所述第二子管道...

所述的鏈胺為乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、異丙醇胺、甲基二乙醇胺、amp-95中的任意一種或多種。技術(shù)方案中，所述的環(huán)胺為氨乙基哌嗪、羥乙基哌嗪、氨乙基嗎啉中的任意一種或多種。技術(shù)方案中，所述的緩蝕劑為三唑類物質(zhì)。的技術(shù)方案中，所述的緩蝕劑為苯...

本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法第二實施例，用于半導(dǎo)體制造工藝中，可應(yīng)用于包括但不限于mos、finfet等所有現(xiàn)有技術(shù)中涉及光刻膠剝離去除的生產(chǎn)步驟，主要包括以下步驟:s1，在半導(dǎo)體襯底上淀積一層二氧化硅薄膜作為介質(zhì)層；s2，旋涂光刻膠并曝光顯影，形成...

需要說明的是，本發(fā)明剝離液中，推薦*由上述成分構(gòu)成，但只要不阻礙本發(fā)明的效果，可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡劑等其它成分。以上說明的本發(fā)明剝離液可以通過將上述成分溶于水中來制備。需要說明的是，本發(fā)明剝離液的ph若為堿性則沒有特別限定，但通常**將上述...

常在印刷電路板，液晶顯示面板，半導(dǎo)體集成電路等工藝制造過程中，需要通過多次圖形掩膜照射曝光及蝕刻等工序在硅晶圓或玻璃基片上形成多層精密的微電路，形成微電路之后，進一步用剝離液將涂覆在微電路保護區(qū)域上作為掩膜的光刻膠除去。比如光電TFT-LCD生產(chǎn)工...

光刻膠又稱光致抗蝕劑，主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種成分組成。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)曝光、顯影、刻蝕、擴散、離子注入、金屬沉積等工藝將所需的微細(xì)圖形從掩模版...

能夠增強親水性，使得剝離液親水性良好，能快速高效地剝離溶解光刻膠。潤濕劑含有羥基，為聚乙二醇、甘油中的任意一種。下面通過具體實施例對本申請作進一步詳細(xì)說明。以下實施例對本申請進行進一步說明，不應(yīng)理解為對本申請的限制。表一：兩種不同組分的剝離液配方一和配...

以往的光刻膠剝離液對金屬的腐蝕較大，可能進入疊層內(nèi)部造成線路減薄，藥液殘留，影響產(chǎn)品的質(zhì)量。因此有必要開發(fā)一種不會對疊層晶圓產(chǎn)生過腐蝕的光刻膠剝離液。技術(shù)實現(xiàn)要素：本發(fā)明的主要目的在于提供一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液，既具有較高的光刻膠剝離效率，又不會對晶圓...

圖2為本申請實施例提供的剝離液機臺的第二種結(jié)構(gòu)示意圖。圖3為本申請實施例提供的剝離液機臺的第三種結(jié)構(gòu)示意圖。圖4為本申請實施例提供的剝離液機臺的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。圖5為本申請實施例提供的剝離液機臺的工作方法的流程示意圖。具體實施方式目前剝離液機臺在工作...

光刻膠殘留大，殘留分布不均勻，并且產(chǎn)生邊緣聚集殘留。為了能夠進一步地表示配方一和配方二之間的光刻膠殘留量對比，圖2中將多張單張檢測圖進行疊加，可以更加清楚地看出兩者之間的區(qū)別，能夠明顯地看出使用配方一的剝離液，高世代面板邊緣光刻膠殘留量大。下面列舉更多...

該方法包括：步驟110、將多級腔室順序排列，按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級向剝離基板提供剝離液；步驟120、將來自于當(dāng)前級腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲于當(dāng)前級腔室相應(yīng)的存儲箱中，所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑；步驟130、使用當(dāng)前級腔室相應(yīng)...

利用提升泵將一級過濾罐中濾液抽取到攪拌釜內(nèi)；再向攪拌釜中輸入沉淀劑，如酸性溶液，與前述濾液充分?jǐn)嚢杌旌显俅挝龀龀恋砦?，即二級線性酚醛樹脂，打開二級過濾罐進料管路上的電磁閥，帶有沉淀物的混合液進入二級過濾罐中，由其中的過濾筒過濾得到二級線性酚醛樹脂，廢液...

但現(xiàn)有的回收裝置普遍存在如下問題：剝離廢液利用水洗裝置水洗過濾出光刻膠樹脂成分，回收率低。為了解決這一問題，現(xiàn)有技術(shù)通常再向剝離廢液中加入沉淀劑繼續(xù)反應(yīng)，而后沉淀過濾出光刻膠樹脂成分，但所得到的光刻膠樹脂成分品質(zhì)不宜再用于光刻膠原料，只能用于其他要求較...

每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通，所述公共子管道501與所述下一級腔室102連通。其中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一子管道301上。在一些實施例中，閥門開關(guān)60設(shè)置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實施例中，閥...

本發(fā)明涉及化學(xué)制劑技術(shù)領(lǐng)域：，特別涉及一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液。背景技術(shù)：：隨著半導(dǎo)體制造技術(shù)以及立體封裝技術(shù)的不斷發(fā)展，電子器件和電子產(chǎn)品對多功能化和微型化的要求越來越高。在這種小型化趨勢的推動下，要求芯片的封裝尺寸不斷減小。3d疊層粉妝技術(shù)的封裝體積...

隨著電子元器件制作要求的提高，相關(guān)行業(yè)應(yīng)用對濕電子化學(xué)品純度的要求也不斷提高。為了適應(yīng)電子信息產(chǎn)業(yè)微處理工藝技術(shù)水平不斷提高的趨勢，并規(guī)范世界超凈高純試劑的標(biāo)準(zhǔn)，國際半導(dǎo)體設(shè)備與材料組織（SEMI）將濕電子化學(xué)品按金屬雜質(zhì)、控制粒徑、顆粒個數(shù)和應(yīng)用...

隨著國內(nèi)電子制造產(chǎn)業(yè)和光電產(chǎn)業(yè)的迅速發(fā)展，光刻膠剝離液等電子化學(xué)品的使用量也大為増加。特別是縱觀近幾年度的光電行業(yè)，風(fēng)靡全球的智能手持設(shè)備、移動終端等簡直成為了光電行業(yè)的風(fēng)向標(biāo)：與之相關(guān)的光電領(lǐng)域得到了飛速的發(fā)展，鏡頭模組、濾光片、LTPS液晶顯示...

根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心發(fā)布的《2020-2024年中國剝離液行業(yè)市場供需現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢預(yù)測報告》顯示，剝離液屬于濕電子化學(xué)品的重要品類，近幾年受新能源、汽車電子等產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，我國濕電子化學(xué)品市場規(guī)模持續(xù)擴增，2019年我國濕電子化學(xué)品市場規(guī)模達...

可選擇的，旋涂光刻膠厚度范圍為1000?！?0000埃。s3，執(zhí)行離子注入：可選擇的，離子注入劑量范圍為1×1013cm-2～1×1016cm-2。s4，采用氮氫混合氣體執(zhí)行等離子刻蝕，對光刻膠進行干法剝離；如背景技術(shù)中所述，經(jīng)過高劑量或大分子量的源種...

所述功能切換口外部并聯(lián)有高純水輸入管線和沉淀劑輸入管線，所述二級過濾罐的底部設(shè)有廢液出口，所述一級過濾罐和二級過濾罐內(nèi)部均懸設(shè)有攔截固體成分的過濾筒。上述的光刻膠廢剝離液回收裝置，所述一級過濾罐和二級過濾罐的結(jié)構(gòu)相同，均由外殼、懸設(shè)于外殼內(nèi)的過濾筒、扣...

能夠除去抗蝕劑。用本發(fā)明剝離液處理施加有抗蝕劑的基材的條件沒有特別限定，例如，可以舉出在設(shè)為10～80℃的本發(fā)明剝離液中浸漬基材1～60分鐘左右的條件、將設(shè)為10～80℃的本發(fā)明剝離液向基材噴霧1～60分鐘左右的條件。需要說明的是，浸漬時，可以搖動基材，或?qū)Ρ?..

所述過濾器包括多個并列排布的子過濾器，所述道包括多個子管道，每一所述子管道與一子過濾器連通，且所述多個子管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲箱連通。在一些實施例中，所述第二管道包括公共子管道及多個第二子管道，每一所述第二子管道與一子過濾器連通，每一所述第二子管道...

本技術(shù)通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)上述目的：一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置，包括主支撐架、橫向支架、伺服變頻電機、電機減速箱、印刷品放置箱、表面印刷結(jié)構(gòu)、膠面剝離結(jié)構(gòu)，所述主支撐架上方設(shè)置有所述橫向支架，所述橫向支架上方設(shè)置有所述伺服變頻電機，所述伺服變頻電機上方設(shè)...

本技術(shù)通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)上述目的：一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置，包括主支撐架、橫向支架、伺服變頻電機、電機減速箱、印刷品放置箱、表面印刷結(jié)構(gòu)、膠面剝離結(jié)構(gòu)，所述主支撐架上方設(shè)置有所述橫向支架，所述橫向支架上方設(shè)置有所述伺服變頻電機，所述伺服變頻電機上方設(shè)...

以往的光刻膠剝離液對金屬的腐蝕較大，可能進入疊層內(nèi)部造成線路減薄，藥液殘留，影響產(chǎn)品的質(zhì)量。因此有必要開發(fā)一種不會對疊層晶圓產(chǎn)生過腐蝕的光刻膠剝離液。技術(shù)實現(xiàn)要素：本發(fā)明的主要目的在于提供一種用于疊層晶圓的光刻膠剝離液，既具有較高的光刻膠剝離效率，又不會對晶圓...

本實用新型涉及光刻膠生產(chǎn)設(shè)備，具體是一種光刻膠廢剝離液回收裝置。背景技術(shù)：光刻膠是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料之一，其是由溶劑、感光樹脂、光引發(fā)劑和添加劑四種成分組成的對光敏感的混合液體。在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下，進行光化...

利用提升泵將一級過濾罐中濾液抽取到攪拌釜內(nèi)；再向攪拌釜中輸入沉淀劑，如酸性溶液，與前述濾液充分?jǐn)嚢杌旌显俅挝龀龀恋砦?，即二級線性酚醛樹脂，打開二級過濾罐進料管路上的電磁閥，帶有沉淀物的混合液進入二級過濾罐中，由其中的過濾筒過濾得到二級線性酚醛樹脂，廢液...