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將hno3、四甲基氫氧化銨、h2o2分別投入對(duì)應(yīng)的原料罐,備用;第三步:根據(jù)混酸配制表算出各個(gè)原料的添加量,按照純水→亞氨基二乙酸→氫氟酸→hno3→四甲基氫氧化銨→乙醇酸的順序依次將原料加入調(diào)配罐,將上述混料充分?jǐn)嚢瑁瑪嚢钑r(shí)間為3~5h;第四步:在第...
每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通,所述公共子管道501與所述下一級(jí)腔室102連通。其中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一子管道301上。在一些實(shí)施例中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實(shí)施例中,閥...
該方法包括:步驟110、將多級(jí)腔室順序排列,按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級(jí)向剝離基板提供剝離液;步驟120、將來自于當(dāng)前級(jí)腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲(chǔ)于當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)的存儲(chǔ)箱中,所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑;步驟130、使用當(dāng)前級(jí)腔室相應(yīng)...
參考圖7),這種殘余物在覆蓋一系列柵極堆棧薄膜之后會(huì)被增強(qiáng)呈現(xiàn),傳遞到柵極成型工序時(shí)會(huì)對(duì)柵極圖形產(chǎn)生嚴(yán)重的影響,即在柵極曝光圖形成型之后形成埋層缺陷,在柵極刻蝕圖形成型之后造成柵極斷開或橋接,直接降低了產(chǎn)品良率。另外,在氧氣灰化階段,由于等離子氧可以穿...
若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān);取出被阻塞的所述過濾器。在一些實(shí)施例中,所述若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān)包括:若所述過濾器包括多個(gè)并列排布的子過濾器,則關(guān)...
可用于銀鎳合金、銀銅合金以及純銀的蝕刻,蝕刻后板面平整光滑。劑對(duì)油墨沒有影響,可用于花紋蝕刻處理。三、使用方法:1、原液使用,不須加水,操作溫度可以是25℃-60℃,溫度越高,速度越快。2、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中。用軟毛刷來回輕輕刷動(dòng),使藥水與銀充分均勻反應(yīng);...
一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法技術(shù)領(lǐng)域1.本技術(shù)涉及化學(xué)蝕刻技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種ito蝕刻液及其制備方法、應(yīng)用方法。背景技術(shù):2.目前,電子器件的基板表面(例如顯示器件的陣列基板)通常帶有一定圖案的氧化銦錫(ito)膜,以便后續(xù)給電子器件可控通電。該...
所述硫醚系化合物推薦為選自由甲硫氨酸、乙硫氨酸及3-(甲硫基)丙酸所組成的群組中的至少一種。本發(fā)明的蝕刻液推薦進(jìn)一步含有α-羥基羧酸和/或其鹽。所述α-羥基羧酸推薦為選自由酒石酸、蘋果酸、檸檬酸、乳酸及甘油酸所組成的群組中的至少一種。推薦為,所述酸的濃...
所述裝置主體的內(nèi)部底部中間部位固定連接有常閉式密封電磁閥,所述連接構(gòu)件的內(nèi)側(cè)固定連接有過濾部件,所述裝置主體的內(nèi)部底端另一側(cè)固定連接有收集倉,所述收集倉的另一側(cè)底部固定連接有密封閥門,所述過濾部件的頂端兩側(cè)活動(dòng)連接有滑動(dòng)蓋,所述過濾部件的內(nèi)部中間兩側(cè)固...
使硝酸鉀儲(chǔ)罐21和其它儲(chǔ)罐的內(nèi)部形成一個(gè)密閉的空間,避免環(huán)境外部的雜質(zhì)進(jìn)入儲(chǔ)罐內(nèi),有效的提高了裝置使用的密封性;緊接著,將磷酸與醋酸在個(gè)攪拌倉23中充分?jǐn)嚢杌旌暇鶆?,然后在第二個(gè)攪拌倉23中與硝酸充分?jǐn)嚢杌旌暇鶆蚝?,再進(jìn)入配料罐中混合,將陰離子表面活性...
所述功能切換口外部并聯(lián)有高純水輸入管線和沉淀劑輸入管線,所述二級(jí)過濾罐的底部設(shè)有廢液出口,所述一級(jí)過濾罐和二級(jí)過濾罐內(nèi)部均懸設(shè)有攔截固體成分的過濾筒。上述的光刻膠廢剝離液回收裝置,所述一級(jí)過濾罐和二級(jí)過濾罐的結(jié)構(gòu)相同,均由外殼、懸設(shè)于外殼內(nèi)的過濾筒、扣...
本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種剝離液機(jī)臺(tái)及其工作方法。背景技術(shù):剝離(lift-off)工藝通常用于薄膜晶體管(thinfilmtransistor)制程中的光罩縮減,lift-off先形成光阻并圖案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同時(shí),沉積...
通過滑動(dòng)蓋24上的凸塊在過濾部件9內(nèi)部頂端內(nèi)壁的滑槽進(jìn)行滑動(dòng),將過濾板26插入過濾部件9內(nèi)部?jī)蓚?cè)的固定槽內(nèi),收縮彈簧管25設(shè)置有四處,分別設(shè)置在兩滑動(dòng)蓋24的內(nèi)側(cè)前面和后面,再通過收縮彈簧管25的彈力將滑動(dòng)蓋24向內(nèi)活動(dòng),使過濾部件9內(nèi)部空間進(jìn)行密封,...
上述硅烷系偶聯(lián)劑的選擇方法的特征在于,選擇上述硅烷系偶聯(lián)劑的反應(yīng)位點(diǎn)(activesite)的數(shù)量除以上述硅烷系偶聯(lián)劑的水解(hydrolysis)形態(tài)的分子量之后乘以。以下,通過實(shí)施例更加詳細(xì)地說明本發(fā)明。但是,以下的實(shí)施例用于更加具體地說明本發(fā)明,...
本技術(shù)通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)上述目的:一種印刷品膠面印刷剝離復(fù)合裝置,包括主支撐架、橫向支架、伺服變頻電機(jī)、電機(jī)減速箱、印刷品放置箱、表面印刷結(jié)構(gòu)、膠面剝離結(jié)構(gòu),所述主支撐架上方設(shè)置有所述橫向支架,所述橫向支架上方設(shè)置有所述伺服變頻電機(jī),所述伺服變頻電機(jī)上方設(shè)...
圖7:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)運(yùn)作局部放大圖。圖8:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的擋液板結(jié)構(gòu)結(jié)合風(fēng)刀裝置示意圖。圖9:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其一較佳實(shí)施例的宣泄孔的表面張力局部放大圖。圖10:本實(shí)用新型蝕刻設(shè)備其二較佳實(shí)施例的擋液板...
光刻膠又稱光致抗蝕劑,主要由感光樹脂、增感劑和溶劑三種成分組成。感光樹脂經(jīng)光照后,在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固化反應(yīng),使得這種材料的物理性能,特別是溶解性、親合性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)曝光、顯影、刻蝕、擴(kuò)散、離子注入、金屬沉積等工藝將所需的微細(xì)圖形從掩模版...
本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)::印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中,伴隨微細(xì)布線化而使用胺系的剝離液。然而,以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題,而避免其使用...
本發(fā)明涉及能夠從施加有抗蝕劑的基材剝離抗蝕劑的抗蝕劑的剝離液。背景技術(shù)::印刷布線板的制造、主要是半加成法中使用的干膜抗蝕劑等抗蝕劑的剝離液中,伴隨微細(xì)布線化而使用胺系的剝離液。然而,以往的胺系的抗蝕劑的剝離液有廢液處理性難、海外的法規(guī)制度的問題,而避免其使用...
本發(fā)明涉及銅蝕刻液技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種酸性銅蝕刻液的生產(chǎn)工藝。背景技術(shù):高精細(xì)芯片和顯示集成電路主要采用銅制程,其光刻工藝中形成銅膜層結(jié)構(gòu)所需用的銅刻蝕液中主要的為過氧化氫系銅刻蝕液。過氧化氫系銅蝕刻液較其他銅刻蝕液體系(如三氯化鐵體系,過硫酸銨體系...
內(nèi)嵌觀察窗402通過觀察窗翻折滾輪401內(nèi)嵌入裝置內(nèi)部,工作人員可通過內(nèi)嵌的透明窗對(duì)內(nèi)部的制備狀況進(jìn)行實(shí)時(shí)查看,從而很好的體現(xiàn)了該裝置的實(shí)時(shí)性。推薦的,鹽酸裝罐7的頂端嵌入連接有熱水流入漏斗9,在進(jìn)行制備時(shí)需要向鹽酸裝罐7內(nèi)倒入一定比例的熱水進(jìn)行均勻調(diào)...
將裝置主體1內(nèi)部的蝕刻液進(jìn)行清洗,具有很好的清理作用。工作原理:對(duì)于這類的回收處理裝置,首先將蝕刻液倒入進(jìn)液漏斗6并由過濾網(wǎng)7過濾到進(jìn)液管8中,之后蝕刻液流入到承載板3上的電解池4中時(shí),啟動(dòng)液壓缸11帶動(dòng)伸縮桿12向上移動(dòng),從而通過圓環(huán)塊13配合連接桿...
影響ITO堿性氯化銅蝕刻液蝕刻速率的因素:1、Cu2+離子濃度的影響:Cu2+是氧化劑,所以Cu2+的濃度是影響蝕刻速率的主要因素。研究銅濃度與蝕刻速率的關(guān)系表明:在0~82g/L時(shí),蝕刻時(shí)間長;在82~120g/L時(shí),蝕刻速率較低,且溶液控制困難;在135~...
也很難保證拖車在地磅頂部不移動(dòng)。在地磅的頂部平臺(tái)中設(shè)置有兩條卡塊40,卡塊與平臺(tái)之間形成一插槽,在地磅的頂部設(shè)置有包括氣缸50和壓緊塊60的氣動(dòng)夾緊機(jī)構(gòu),壓緊塊位于插槽中,氣缸的伸縮桿與壓緊塊固連。拖車的邊緣沿插槽插入后,氣缸帶動(dòng)壓緊塊下行將拖車緊緊壓...
可用于銀鎳合金、銀銅合金以及純銀的蝕刻,蝕刻后板面平整光滑。劑對(duì)油墨沒有影響,可用于花紋蝕刻處理。三、使用方法:1、原液使用,不須加水,操作溫度可以是25℃-60℃,溫度越高,速度越快。2、將銀板浸泡在銀蝕刻劑中。用軟毛刷來回輕輕刷動(dòng),使藥水與銀充分均勻反應(yīng);...
本實(shí)用新型涉及資源回收再利用領(lǐng)域,特別是涉及含銅蝕刻液氣液分離裝置。背景技術(shù):線路板生產(chǎn)工業(yè)中,會(huì)對(duì)已經(jīng)使用于蝕刻線路板的含銅蝕刻廢液進(jìn)行回收利用,在回收過程中,廢液在加熱器中通過蒸汽進(jìn)行換熱,換熱完的廢液在高溫狀態(tài)下進(jìn)入分離器,會(huì)在分離器中發(fā)生閃蒸,...
通過滑動(dòng)蓋24上的凸塊在過濾部件9內(nèi)部頂端內(nèi)壁的滑槽進(jìn)行滑動(dòng),將過濾板26插入過濾部件9內(nèi)部?jī)蓚?cè)的固定槽內(nèi),收縮彈簧管25設(shè)置有四處,分別設(shè)置在兩滑動(dòng)蓋24的內(nèi)側(cè)前面和后面,再通過收縮彈簧管25的彈力將滑動(dòng)蓋24向內(nèi)活動(dòng),使過濾部件9內(nèi)部空間進(jìn)行密封,...
制備裝置主體1的內(nèi)部中間部位活動(dòng)連接有高效攪拌裝置2,制備裝置主體1的一側(cè)中間部位嵌入連接有翻折觀察板4,制備裝置主體1的底端固定連接有裝置底座5,裝置底座5的內(nèi)部底部固定連接有成品罐6,裝置底座5的頂端一側(cè)固定連接有鹽酸裝罐7,裝置底座5的頂端另一側(cè)...
也不能在回收結(jié)束后對(duì)裝置內(nèi)部進(jìn)行清理的問題。為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種廢銅蝕刻液的回收處理裝置,包括裝置主體,所述裝置主體內(nèi)部中間位置固定安裝有分隔板,所述分隔板左端表面靠近中間位置固定安裝有承載板,所述承載板上端表面放置有電解池,所...
該擋液板結(jié)構(gòu)10包括有一***擋板11、一與該***擋板11接合的第二擋板12,以及一與該第二擋板12接合的第三擋板13,其主要特征在于:該第二擋板12具有復(fù)數(shù)個(gè)貫穿該第二擋板12且錯(cuò)位設(shè)置的宣泄孔121。該***擋板11與該第二擋板12呈正交設(shè)置,且...