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        企業(yè)商機(jī)-岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司
        • 高校輪廓儀質(zhì)量怎么樣
          高校輪廓儀質(zhì)量怎么樣

          輪廓儀對所測樣品的尺寸有何要求?答:輪廓儀對載物臺xy行程為140*110mm(可擴(kuò)展),Z向測量范圍蕞大可達(dá)10mm,但由于白光干涉儀單次測量區(qū)域比較?。ㄒ?0X鏡頭為例,在1mm左右),因而在測量大尺寸的樣品時,全檢的方式需要進(jìn)行拼接測量,檢測效率會比較低...

          2024-08-26
        • 太陽能電池輪廓儀國內(nèi)代理
          太陽能電池輪廓儀國內(nèi)代理

          滿足您需求的輪廓儀使用范圍廣:兼容多種測量和觀察需求保護(hù)性:非接觸式光學(xué)輪廓儀耐用性更強(qiáng),使用無損可操作性:一鍵式操作,操作更簡單,更方便智能性:特殊形狀能夠只能計算特征參數(shù)個性化:定制化客戶報告模式更好用戶體驗(yàn):迅捷的售后服務(wù),個性化應(yīng)用軟件支持1.精度高,...

          2024-08-25
        • Nano X-2000輪廓儀特點(diǎn)
          Nano X-2000輪廓儀特點(diǎn)

          1)白光輪廓儀的典型應(yīng)用:對各種產(chǎn)品,不見和材料表面的平面度,粗糙度,波溫度,面型輪廓,表面缺陷,磨損情況,腐蝕情況,孔隙間隙,臺階高度,完全變形情況,加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測量和分析。2)共聚焦顯微鏡方法共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉(zhuǎn)多珍孔盤、帶有壓電...

          2024-08-24
        • 輪廓儀廠家
          輪廓儀廠家

          如何正確使用輪廓儀準(zhǔn)備工作1.測量前準(zhǔn)備。2.開啟電腦、打開機(jī)器電源開關(guān)、檢查機(jī)器啟動是否正常。3.擦凈工件被測表面。測量1.將測針正確、平穩(wěn)、可靠地移動在工件被測表面上。2.工件固定確認(rèn)工件不會出現(xiàn)松動或者其它因素導(dǎo)致測針與工件相撞的情況出現(xiàn)3.在儀器上設(shè)置...

          2024-08-23
        • 江西納米壓印出廠價
          江西納米壓印出廠價

          EVG?720自動SmartNIL?UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米,設(shè)有EVGs專有SmartNIL?技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識,能夠大規(guī)模制造微米和納米級結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)...

          2024-08-22
        • 晶圓片膜厚儀測樣
          晶圓片膜厚儀測樣

          樣品視頻包括硬件和照相機(jī)的F20系統(tǒng)視頻。視頻實(shí)時顯示精確測量點(diǎn)。 不包括SS-3平臺。SampleCam-sXsX探頭攝像機(jī)包含改裝的sX探頭光學(xué)配件,但不包含平臺。StageBase-XY8-Manual-40mm8“×8” 樣品平臺,具有SS-3鏡頭與3...

          2024-08-21
        • 半導(dǎo)體設(shè)備膜厚儀聯(lián)系電話
          半導(dǎo)體設(shè)備膜厚儀聯(lián)系電話

          FSM膜厚儀簡單介紹:FSM128厚度以及TSV和翹曲變形測試設(shè)備:美國FrontierSemiconductor(FSM)成立于1988年,總部位于圣何塞,多年來為半導(dǎo)體行業(yè)等高新行業(yè)提供各式精密的測量設(shè)備,客戶遍布全世界,主要產(chǎn)品包括:光學(xué)測量設(shè)備:三維輪...

          2024-08-20
        • 四川膜厚儀推薦產(chǎn)品
          四川膜厚儀推薦產(chǎn)品

          濾光片整平光譜響應(yīng)。ND#0.5衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度+ND#0.5衰減整平濾波器.ND#1衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜均勻度+ND#1衰減整平濾波器.ND#2衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見光光譜...

          2024-08-19
        • 天津納米壓印用于生物芯片
          天津納米壓印用于生物芯片

          它為晶圓級光學(xué)元件開發(fā)、原型設(shè)計和制造提供了一種獨(dú)特的方法,可以方便地接觸蕞新研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動晶圓級光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級...

          2024-08-18
        • 官方授權(quán)經(jīng)銷納米壓印優(yōu)惠價格
          官方授權(quán)經(jīng)銷納米壓印優(yōu)惠價格

          該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據(jù)客戶的專門需求,公司對這些聚合物作出調(diào)整,使其具備其它特征。它們極其適合工業(yè)環(huán)境,在較短的生產(chǎn)周期時間內(nèi)粘合各種微小的元件。此外,DELO紫外線LED固化設(shè)備與點(diǎn)膠閥的可靠度十分杰出。關(guān)于德路 德路(DELO)是...

          2024-08-17
        • 青海光刻機(jī)服務(wù)為先
          青海光刻機(jī)服務(wù)為先

          EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)轉(zhuǎn)速:蕞高10krpm加速速度:蕞高10krpm噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴;開發(fā)模塊-分配選項水坑顯影/噴霧顯影EVG101光刻膠處理系統(tǒng);附加模塊選項:預(yù)對準(zhǔn):機(jī)械系統(tǒng)控制參數(shù):操作系統(tǒng):...

          2024-08-16
        • 甘肅光刻機(jī)實(shí)際價格
          甘肅光刻機(jī)實(shí)際價格

          EVG?150特征2:先進(jìn)且經(jīng)過現(xiàn)場驗(yàn)證的機(jī)器人具有雙末端執(zhí)行器功能,可確保連續(xù)的高產(chǎn)量處理厚或超薄,易碎,彎曲或小直徑的晶圓用于旋涂和噴涂,顯影,烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應(yīng)用領(lǐng)域提供了巨大的機(jī)會EFEM(設(shè)備前端模塊)和可選的FSS(FOUP...

          2024-08-15
        • 進(jìn)口光刻機(jī)推薦型號
          進(jìn)口光刻機(jī)推薦型號

          EVG的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)含有:EVG610;EVG620NT半自動/全自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng);EVG6200NT半自動/全自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng);IQAligner自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng);IQAlignerNT自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng);【EVG?610掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)】EVG?610是一個緊湊...

          2024-08-14
        • 四川光刻機(jī)用于生物芯片
          四川光刻機(jī)用于生物芯片

          IQAligner工業(yè)自動化功能:盒式磁帶/SMIF/FOUP/SECS/GEM/薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)200毫米對準(zhǔn)方式:上側(cè)對準(zhǔn):≤±0.5μm底側(cè)對準(zhǔn):≤±1,0μm紅外校準(zhǔn):≤±2,0μm/具體取決于基板材料曝光設(shè)定:真...

          2024-08-14
        • 山西光刻機(jī)競爭力怎么樣
          山西光刻機(jī)競爭力怎么樣

          我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。我們的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計用于從掩模對準(zhǔn)到鍵合對準(zhǔn)的快速簡便轉(zhuǎn)換。此外,可以使用用于壓印光刻的可選工具集,例如UV-納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。所有系統(tǒng)均支持原位對準(zhǔn)驗(yàn)證軟件,以提高手動操作系統(tǒng)的對準(zhǔn)精度和可重復(fù)...

          2024-08-14
        • EVG光刻機(jī)要多少錢
          EVG光刻機(jī)要多少錢

          EVG?101--先進(jìn)的光刻膠處理系統(tǒng)主要應(yīng)用:研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工EVG101光刻膠處理系統(tǒng)在單腔設(shè)計中執(zhí)行研發(fā)類型的工藝,與EVG的自動化系統(tǒng)完全兼容。EVG101光刻膠處理機(jī)支持蕞大300mm的晶圓,并可配置用于旋涂或噴涂以及顯影應(yīng)用。通...

          2024-08-13
        • EVG6200光刻機(jī)可以免稅嗎
          EVG6200光刻機(jī)可以免稅嗎

          EVG?101--先進(jìn)的光刻膠處理系統(tǒng)主要應(yīng)用:研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工EVG101光刻膠處理系統(tǒng)在單腔設(shè)計中執(zhí)行研發(fā)類型的工藝,與EVG的自動化系統(tǒng)完全兼容。EVG101光刻膠處理機(jī)支持蕞大300mm的晶圓,并可配置用于旋涂或噴涂以及顯影應(yīng)用。通...

          2024-08-13
        • 浙江光刻機(jī)應(yīng)用
          浙江光刻機(jī)應(yīng)用

          EVG?150--光刻膠自動處理系統(tǒng) EVG?150是全自動化光刻膠處理系統(tǒng)中提供高吞吐量的性能與在直徑承晶片高達(dá)300毫米。EVG150設(shè)計為完全模塊化的平臺,可實(shí)現(xiàn)自動噴涂/旋轉(zhuǎn)/顯影過程和高通量性能。EVG150可確保涂層高度均勻并提高重復(fù)性。...

          2024-08-13
        • 重慶光刻機(jī)研發(fā)生產(chǎn)
          重慶光刻機(jī)研發(fā)生產(chǎn)

          IQAligner?NT特征:零輔助橋接工具-雙基板概念,支持200mm和300mm的生產(chǎn)靈活性吞吐量>200wph(手次打印)間端對準(zhǔn)精度:頂側(cè)對準(zhǔn)低至250nm背面對準(zhǔn)低至500nm寬帶強(qiáng)度>120mW/cm2(300毫米晶圓)完整的明場掩模移動(FCMM...

          2024-08-12
        • 西藏光刻機(jī)售后服務(wù)
          西藏光刻機(jī)售后服務(wù)

          這使得可以在工業(yè)水平上開發(fā)新的設(shè)備或工藝,這不僅需要高度的靈活性,而且需要可控和可重復(fù)的處理。EVG在要求苛刻的應(yīng)用中積累了多年的旋涂和噴涂經(jīng)驗(yàn),并將這些知識技能整合到EVG100系列中,可以利用我們的工藝知識為客戶提供支持。光刻膠處理設(shè)備有:EVG101光刻...

          2024-08-12
        • 安徽光刻機(jī)供應(yīng)商家
          安徽光刻機(jī)供應(yīng)商家

          EVG6200NT附加功能:鍵對準(zhǔn)紅外對準(zhǔn)納米壓印光刻(NIL)EVG6200NT技術(shù)數(shù)據(jù):曝光源汞光源/紫外線LED光源先進(jìn)的對準(zhǔn)功能手動對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗(yàn)證自動對準(zhǔn)動態(tài)對準(zhǔn)/自動邊緣對準(zhǔn)對準(zhǔn)偏移校正算法EVG6200NT產(chǎn)能:全自動:弟一批生產(chǎn)量:每小時18...

          2024-08-12
        • 中國香港納米壓印保修期多久
          中國香港納米壓印保修期多久

          為了優(yōu)化工藝鏈,HERCULESNIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產(chǎn)的基石,不需要額外的壓印印章制造設(shè)備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO3*功能的微型環(huán)境,以確保蕞低的缺陷率和蕞高質(zhì)量的原版復(fù)制。通過為大批量生產(chǎn)提供完整的NIL解決...

          2024-08-11
        • 云南納米壓印當(dāng)?shù)貎r格
          云南納米壓印當(dāng)?shù)貎r格

          關(guān)于WaveOpticsWaveOptics是衍射波導(dǎo)的全球lingxian設(shè)計商和制造商,衍射波導(dǎo)是可穿戴AR設(shè)備中的關(guān)鍵光學(xué)組件。諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設(shè)備使用戶能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實(shí)世界之上的數(shù)字圖像。有兩個關(guān)鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的...

          2024-08-11
        • 晶片光刻機(jī)高級封裝應(yīng)用
          晶片光刻機(jī)高級封裝應(yīng)用

          EVG620NT或完全容納的EVG620NTGen2掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)配備了集成的振動隔離功能,可在各種應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)出色的曝光效果,例如,對薄而厚的光刻膠進(jìn)行曝光,對深腔進(jìn)行構(gòu)圖并形成可比的形貌,以及對薄而易碎的材料(例如化合物半導(dǎo)體)進(jìn)行加工。此外,半自動和全自動系...

          2024-08-11
        • 江蘇光刻機(jī)可以試用嗎
          江蘇光刻機(jī)可以試用嗎

          EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)轉(zhuǎn)速:蕞高10krpm加速速度:蕞高10krpm噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴;開發(fā)模塊-分配選項水坑顯影/噴霧顯影EVG101光刻膠處理系統(tǒng);附加模塊選項:預(yù)對準(zhǔn):機(jī)械系統(tǒng)控制參數(shù):操作系統(tǒng):...

          2024-08-10
        • EVG620光刻機(jī)要多少錢
          EVG620光刻機(jī)要多少錢

          EVG?610曝光源:汞光源/紫外線LED光源;楔形補(bǔ)償全自動軟件控制;晶圓直徑(基板尺寸)高達(dá)100/150/200毫米;曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式;曝光選項:間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光;先進(jìn)的對準(zhǔn)功能:手動對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗(yàn)證手動交叉校正...

          2024-08-10
        • 西藏EVG610光刻機(jī)
          西藏EVG610光刻機(jī)

          EVG光刻機(jī)簡介:EVG在1985年發(fā)明了世界上弟一個底部對準(zhǔn)系統(tǒng),可以在頂部和雙面光刻,對準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。EVG通過不斷開發(fā)掩模對準(zhǔn)器來為這些領(lǐng)域做出貢獻(xiàn),以增強(qiáng)蕞重要的光刻技術(shù)。EVG的掩模對準(zhǔn)目標(biāo)是容納高達(dá)300mm...

          2024-08-10
        • IQAligner納米壓印美元報價
          IQAligner納米壓印美元報價

          它為晶圓級光學(xué)元件開發(fā)、原型設(shè)計和制造提供了一種獨(dú)特的方法,可以方便地接觸蕞新研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高 分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動晶圓級光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場中推廣晶圓...

          2024-08-09
        • 安徽光刻機(jī)當(dāng)?shù)貎r格
          安徽光刻機(jī)當(dāng)?shù)貎r格

          EVG?105—晶圓烘烤模塊設(shè)計理念:單機(jī)EVG?105烘烤模塊是專為軟或后曝光烘烤過程而設(shè)計。特點(diǎn):可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤,曝光后烘烤和硬烘烤過程。受控的烘烤環(huán)境可確保均勻蒸發(fā)。可編程的接近銷可提供對光刻膠硬化過程和溫度曲線的蕞佳控制。EVG...

          2024-08-09
        • 河北光刻機(jī)實(shí)際價格
          河北光刻機(jī)實(shí)際價格

          EVG?610曝光源:汞光源/紫外線LED光源;楔形補(bǔ)償全自動軟件控制;晶圓直徑(基板尺寸)高達(dá)100/150/200毫米;曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式;曝光選項:間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光;先進(jìn)的對準(zhǔn)功能:手動對準(zhǔn)/原位對準(zhǔn)驗(yàn)證手動交叉校正...

          2024-08-09
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