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EVG ? 720自動(dòng)SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng) 自動(dòng)全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米，設(shè)有EVG's專(zhuān)有SmartNIL ?技術(shù) EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專(zhuān)業(yè)知識(shí)，能夠大規(guī)模...

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果： 新應(yīng)用程序的開(kāi)發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL?壓印上的單個(gè)像素的1....

厚度測(cè)量產(chǎn)品：我們的膜厚測(cè)量產(chǎn)品可適用于各種應(yīng)用。我們大部分的產(chǎn)品皆備有庫(kù)存以便快速交貨。請(qǐng)瀏覽本公司網(wǎng)頁(yè)產(chǎn)品資訊或聯(lián)系我們的應(yīng)用工程師針對(duì)您的厚度測(cè)量需求提供立即協(xié)助。 單點(diǎn)厚度測(cè)量： 一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺(tái)式測(cè)量系統(tǒng)。 測(cè)量 ...

1.5. 系統(tǒng)培訓(xùn)的注意事項(xiàng) 如何使用電子書(shū)閱讀軟件和軟、硬件的操作手冊(cè)； 數(shù)據(jù)采集功能的講解：通訊端口、連接計(jì)算器、等待時(shí)間等參數(shù)的解釋和參數(shù)設(shè)置； 實(shí)際演示一一講解； 如何做好備份和恢復(fù)備份資料；...

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的...

輪廓儀的性能 測(cè)量模式 移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI） 樣 品 臺(tái) 150mm/200mm/300mm 樣品臺(tái)（可選配） XY 平移：±25mm/150mm/200mm/300m...

TS-140 TS-140結(jié)合了久經(jīng)考驗(yàn)的技術(shù)特點(diǎn)與優(yōu)雅且對(duì)用戶(hù)友好的設(shè)計(jì) 這種中型動(dòng)態(tài)隔振系統(tǒng)非常適合所有需要頂板上空間比TS-150更大的應(yīng)用。 在公制（M6 x 25mm）或非公制網(wǎng)格上鉆孔的頂板可將各種設(shè)備安裝在隔離的桌面上。 ...

TS-C TS-C系列是緊湊的動(dòng)態(tài)防振系統(tǒng)，可隔離所有六個(gè)平移和旋轉(zhuǎn)振動(dòng)模式。 這些價(jià)格適中的動(dòng)態(tài)振動(dòng)隔離系統(tǒng)在體積上卻比比較大，**昂貴的無(wú)源系統(tǒng)更好地實(shí)現(xiàn)了隔離。使用壓電力馬達(dá)的慣性反饋不僅可以隔離建筑物的振動(dòng)，還可以隔離放置在系統(tǒng)本身上的振...

參考材料 備用 BK7 和二氧化硅參考材料。 BG-Microscope顯微鏡系統(tǒng)內(nèi)取背景反射的小型抗反光鏡 BG-F10-RT平臺(tái)系統(tǒng)內(nèi)獲取背景反射的抗反光鏡 REF-Al-1mmSubstrate基底 - 高反射率鋁基準(zhǔn) ...

光刻膠處理系統(tǒng) EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質(zhì)量和靈活性方面的新標(biāo)準(zhǔn)。EVG100系列的設(shè)計(jì)旨在提供**廣/泛的工藝變革，其模塊化功能可提供旋涂和噴涂，顯影，烘烤和冷卻模塊，以滿(mǎn)足個(gè)性化生產(chǎn)需求。這些系統(tǒng)可處理各種材料...

厚度測(cè)量產(chǎn)品：我們的膜厚測(cè)量產(chǎn)品可適用于各種應(yīng)用。我們大部分的產(chǎn)品皆備有庫(kù)存以便快速交貨。請(qǐng)瀏覽本公司網(wǎng)頁(yè)產(chǎn)品資訊或聯(lián)系我們的應(yīng)用工程師針對(duì)您的厚度測(cè)量需求提供立即協(xié)助。 單點(diǎn)厚度測(cè)量： 一鍵搞定的薄膜厚度和折射率臺(tái)式測(cè)量系統(tǒng)。 測(cè)量 ...

平臺(tái)和平臺(tái)附件標(biāo)準(zhǔn)和**平臺(tái)。 CS-1可升級(jí)接觸式SS-3樣品臺(tái)，可測(cè)波長(zhǎng)范圍190-1700nm SS-36“×6” 樣品平臺(tái)，F(xiàn)20 系統(tǒng)的標(biāo)準(zhǔn)配置。 可調(diào)節(jié)鏡頭高度，103 mm 進(jìn)深。 適用所有波長(zhǎng)范圍。 SS-3-88“×8”...

LFS-3傳感器在三個(gè)軸上測(cè)量水平和垂直加速度，頻率約為0.2Hz。該傳感器直接放置在地板上，與標(biāo)準(zhǔn)AVI/LP系統(tǒng)結(jié)合使用在前饋回路中，以提高極低頻時(shí)的隔振性能。LFS-3可以被復(fù)裝到現(xiàn)有的AVI/LP系統(tǒng)中。下面的圖顯示了在AVI/LP系統(tǒng)上測(cè)量的垂直...

HERCULES 光刻軌道系統(tǒng) 所述HERCULES ?是一個(gè)高容量的平臺(tái)整合整個(gè)光刻工藝流在一個(gè)系統(tǒng)中，縮小處理工序和操作者支持。 HERCULES基于模塊化平臺(tái)，將EVG建立的光學(xué)掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)與集成的晶圓清洗，光刻膠涂層，烘烤和光刻...

銦錫氧化物與透明導(dǎo)電氧化物液晶顯示器，有機(jī)發(fā)光二極管變異體，以及絕大多數(shù)平面顯示器技術(shù)都依靠透明導(dǎo)電氧化物 (TCO) 來(lái)傳輸電流，并作每個(gè)發(fā)光元素的陽(yáng)極。 和任何薄膜工藝一樣，了解組成顯示器各層物質(zhì)的厚度至關(guān)重要。 對(duì)于液晶顯示器而言，就需要有測(cè)量聚酰亞...

AVI-600系列（負(fù)載：1200kg） 型號(hào)：AVI-600SLP，AVI-600MLP，AVI-600XLP 形狀：控制器與防振單元分離型 主動(dòng)控制范圍：被動(dòng)隔振范圍200Hz以上 確認(rèn)防振狀態(tài)：使用控制器背面的BNC連接器，外...

EV集團(tuán)（EVG）是面向MEMS，納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)的晶圓鍵合機(jī)和光刻設(shè)備的**供應(yīng)商，***宣布已收到其制造設(shè)備和服務(wù)的***組合產(chǎn)品組合的多個(gè)訂單，這些產(chǎn)品和服務(wù)旨在滿(mǎn)足對(duì)晶圓的新興需求，水平光學(xué)（WLO）和3D感應(yīng)。市場(chǎng)**的產(chǎn)品組合...

TS主動(dòng)隔振臺(tái)在3D空間的6個(gè)自由度中主動(dòng)式隔振 從0.7 Hz 到100 Hz 在21世紀(jì)納米技術(shù)(即先進(jìn)的半導(dǎo)體**相關(guān)的信息技術(shù),基因療法等生命科學(xué)相關(guān)技術(shù),原子或分子處理如MEMS和工程技術(shù)等新材料生產(chǎn)), 振動(dòng)、噪聲、電磁領(lǐng)域、熱、濕度...

關(guān)鍵詞：主動(dòng)式隔震臺(tái)、主動(dòng)式隔振臺(tái)、主動(dòng)式防振臺(tái)、防振臺(tái)、AVI、Herz、Tablestable、 ·AVI系列振動(dòng)傳遞率 橫坐標(biāo)為頻率，縱坐標(biāo)為傳遞率的數(shù)據(jù)，在10hz頻率以上時(shí)，傳遞率的數(shù)據(jù)小于0.02，很好地起到了隔振作...

EVG501晶圓鍵合機(jī)，先進(jìn)封裝，TSV，微流控加工。基本功能：用于學(xué)術(shù)和工業(yè)研究的多功能手動(dòng)晶圓鍵合系統(tǒng)。適用于：微流體芯片，半導(dǎo)體器件處理，MEMS制造，TSV制作，晶圓先進(jìn)封裝等。 一、簡(jiǎn)介： EVG501是一種高度靈活的晶圓鍵合系統(tǒng)，可...

IQ Aligner? 自動(dòng)化掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 特色：EVG ? IQ定位儀?平臺(tái)用于自動(dòng)非接觸近距離處理而優(yōu)化的用于晶片尺寸高達(dá)200毫米。 技術(shù)數(shù)據(jù)：IQ Aligner是具有高度自動(dòng)化程度的非接觸式接近光刻平臺(tái)，可滿(mǎn)足將生產(chǎn)線中的掩模污染降至...

其可測(cè)量薄膜厚度在1nm到1mm之間，測(cè)量精度高達(dá)1埃，測(cè)量穩(wěn)定性高達(dá)，測(cè)量時(shí)間只需一到二秒,并有手動(dòng)及自動(dòng)機(jī)型可選?？蓱?yīng)用領(lǐng)域包括：生物醫(yī)學(xué)（Biomedical）,液晶顯示(Displays),硬涂層(Hardcoats),金屬膜(Metal),眼...

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù)，可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的...

新型光學(xué)輪廓儀!film3D使得光學(xué)輪廓測(cè)量更易負(fù)擔(dān)*后，表面粗糙度和表面形貌測(cè)量可以用比探針式輪廓儀成本更低的儀器來(lái)進(jìn)行。film3D具有3倍於于其成本儀器的次納米級(jí)垂直分辨率,film3D同樣使用了現(xiàn)今*高 分辨率之光學(xué)輪廓儀的測(cè)量技術(shù)包含垂直掃描...

EVG?520IS晶圓鍵合系統(tǒng)■擁有EVG?501和EVG?510鍵合機(jī)的所有功能■200mm的單個(gè)或者雙腔自動(dòng)化系統(tǒng)■自動(dòng)晶圓鍵合流程和晶圓替代轉(zhuǎn)移■集成冷卻站，實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量EVG?540自動(dòng)鍵合系統(tǒng)■300mm單腔鍵合室■自動(dòng)處理多達(dá)4個(gè)鍵合卡盤(pán)■模塊化鍵合...

EVG320技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸） 200、100-300毫米 清潔系統(tǒng) 開(kāi)室，旋轉(zhuǎn)器和清潔臂 腔室：由PP或PFA制成（可選） 清潔介質(zhì)：去離子水（標(biāo)準(zhǔn)），其他清潔介質(zhì)（可選） 旋轉(zhuǎn)卡盤(pán)：真空卡盤(pán)（標(biāo)準(zhǔn)）...

EVG ? 510 HE是EVG500系列的熱壓印系統(tǒng) EV Group的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場(chǎng)**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù)，對(duì)于尺寸...

EVG620 NT特征2： 自動(dòng)原點(diǎn)功能，用于對(duì)準(zhǔn)鍵的精確居中 具有實(shí)時(shí)偏移校正功能的動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)功能 支持**/新的UV-LED技術(shù) 返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng) 自動(dòng)化系統(tǒng)上的手動(dòng)基板裝載功能 可以從半自動(dòng)版本升級(jí)到全...

我們的輪廓儀有什么優(yōu)勢(shì)呢 世界先進(jìn)水平的產(chǎn)品技術(shù) 合理的產(chǎn)品價(jià)格 24小時(shí)到現(xiàn)場(chǎng)的本地化售后服務(wù) 無(wú)償產(chǎn)品技術(shù)培訓(xùn)和應(yīng)用技術(shù)支持 個(gè)性化的應(yīng)用軟件服務(wù)支持 合理的保質(zhì)期后產(chǎn)品服務(wù) 更佳的產(chǎn)品性?xún)r(jià)比和更優(yōu)解決方案 ...

EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用 自動(dòng)化壓花工藝 EVG專(zhuān)有的**對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執(zhí)行 閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng) 外部浮雕和冷卻站 E...