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銦錫氧化物膜厚儀**F10-ARc: 走在前端 以較低的價(jià)格現(xiàn)在可以很容易地測(cè)量曲面樣品，包括眼鏡和其他光學(xué)鏡片的防反射涂層, *需其他設(shè)備一小部分的的價(jià)格就能在幾秒內(nèi)得到精確的色彩讀值和反射率測(cè)量. 您也可選擇升級(jí)薄膜厚度測(cè)量軟件, 操作上并不需要嚴(yán)格的訓(xùn)練, 您甚至...
2020-10-24 -
德國(guó)隔振臺(tái)質(zhì)保期多久
1.更換SEM側(cè)面板（如有必要）。檢查隔離系統(tǒng)和SEM的所有電纜是否松動(dòng)連接。 檢查并確保沒(méi)有將SEM耦合到地面或其他振動(dòng)源。 2.將電源線插入控制器背面。 翻轉(zhuǎn)前面板上的“ ON”開(kāi)關(guān)。 按紅色按鈕啟用活動(dòng)隔離。 3.幾秒鐘后，使能LE...
2020-10-24 -
薄膜測(cè)試儀膜厚儀原理
非晶態(tài)多晶硅硅元素以非晶和晶體兩種形式存在, 在兩級(jí)之間是部分結(jié)晶硅。部分結(jié)晶硅又被叫做多晶硅。 非晶硅和多晶硅的光學(xué)常數(shù)(n和k)對(duì)不同沉積條件是獨(dú)特的，必須有精確的厚度測(cè)量。 測(cè)量厚度時(shí)還必須考慮粗糙度和硅薄膜結(jié)晶可能的風(fēng)化。 Fi...
2020-10-23 -
蔡司電子顯微鏡隔振臺(tái)時(shí)頻系統(tǒng)防震臺(tái)應(yīng)用
傳感器位置 傳感器可以移動(dòng)到任何期望的位置。 它可能位于負(fù)載下方或外部，但必須位于支持AVI元素的同一表面上。 制作后連接時(shí)，傳感器與AVI單元的方向必須保持不變。 支撐面的剛性 支撐表面的剛性很重要。 水平傳感器無(wú)法區(qū)分在水平加...
2020-10-22 -
江蘇光刻機(jī)推薦型號(hào)
EVG120特征2： 先進(jìn)且經(jīng)過(guò)現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證的機(jī)器人具有雙末端執(zhí)行器功能，可確保連續(xù)的高產(chǎn)量； 工藝技術(shù)卓/越和開(kāi)發(fā)服務(wù)： 多用戶概念（無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問(wèn)權(quán)限，不同的用戶界面語(yǔ)言） 智能過(guò)程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Fra...
2020-10-22 -
云南納米壓印技術(shù)支持
IQ Aligner UV-NIL 自動(dòng)化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng) 應(yīng)用：用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng) IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝，非常適合高...
2020-10-21 -
掩模對(duì)準(zhǔn)膜厚儀試用
軟件升級(jí)提供專門用途的軟件。UPG-RT-to-Thickness升級(jí)的厚度求解軟件，需要UPG-Spec-to-RT。UPG-Thickness-to-n&k升級(jí)的折射率求解軟件，需要UPG-RT-to-Thickness。UPG-F10-AR-...
2020-10-21 -
光干涉膜厚儀服務(wù)為先
F40 系列 包含的內(nèi)容：集成光譜儀/光源裝置FILMeasure 8 軟件FILMeasure **軟件 (用于遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)分析)MA-Cmount 安裝轉(zhuǎn)接器 顯微鏡轉(zhuǎn)接器光纖連接線BK7 參考材料TS-Focus-SiO2-4-10000 厚度標(biāo)準(zhǔn)...
2020-10-20 -
膜厚儀膜厚儀技術(shù)服務(wù)
濾光片整平光譜響應(yīng)。 ND#0.5 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見(jiàn)光光譜均勻度 + ND#0.5 衰減整平濾波器. ND#1 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見(jiàn)光光譜均勻度 + ND#1 衰減整平濾波器. ND#2 衰...
2020-10-19 -
NanoX-8000輪廓儀輪廓測(cè)量應(yīng)用
輪廓儀的性能 測(cè)量模式 移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI） 樣 品 臺(tái) 150mm/200mm/300mm 樣品臺(tái)（可選配） XY 平移：±25mm/150mm/200mm/300m...
2020-10-19 -
進(jìn)口納米壓印售后服務(wù)
EVG ? 510 HE熱壓印系統(tǒng) 應(yīng)用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn) EVG510 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比...
2020-10-18 -
原子力顯微鏡AFM隔振臺(tái)供應(yīng)商家
支撐面測(cè)試 在系統(tǒng)運(yùn)行時(shí)，推動(dòng)支撐表面。 燈不亮，除了可能會(huì)大力推動(dòng)。 如果可以輕松使燈點(diǎn)亮，則支撐表面剛度不足以獲得充分的性能。 確定支撐表面是否起反應(yīng)對(duì)水平或垂直力施加更大的作用，并嘗試適當(dāng)?shù)厥菇Y(jié)構(gòu)變硬。請(qǐng)注意，該系統(tǒng)將在任何支撐表面上運(yùn)行，但會(huì)...
2020-10-18 -
西藏鍵合機(jī)學(xué)校會(huì)用嗎
半導(dǎo)體器件的垂直堆疊已經(jīng)成為使器件密度和性能不斷提高的日益可行的方法。晶圓間鍵合是實(shí)現(xiàn)3D堆疊設(shè)備的重要工藝步驟。然而，需要晶片之間的緊密對(duì)準(zhǔn)和覆蓋精度以在鍵合晶片上的互連器件之間實(shí)現(xiàn)良好的電接觸，并*小化鍵合界面處的互連面積，從而可以在晶片上騰出更多...
2020-10-17 -
EVG620鍵合機(jī)保修期多久
業(yè)內(nèi)主流鍵合工藝為：黏合劑，陽(yáng)極，直接/熔融，玻璃料，焊料（包括共晶和瞬態(tài)液相）和金屬擴(kuò)散/熱壓縮。采用哪種黏合工藝取決于應(yīng)用。EVG500系列可靈活配置選擇以上的所有工藝。 奧地利的EVG擁有超過(guò)25年的晶圓鍵合機(jī)制造經(jīng)驗(yàn)，擁有2000多擁有多年晶...
2020-10-17 -
河北光刻機(jī)服務(wù)為先
EVG120光刻膠自動(dòng)處理系統(tǒng)： 智能過(guò)程控制和數(shù)據(jù)分析功能（框架軟件平臺(tái)） 用于過(guò)程和機(jī)器控制的集成分析功能 并行任務(wù)/排隊(duì)任務(wù)處理功能 設(shè)備和過(guò)程性能跟/蹤功能 智能處理功能： 事/故和警報(bào)分析/智能維護(hù)管理和跟/蹤...
2020-10-17 -
中國(guó)香港進(jìn)口光刻機(jī)
EVG6200 NT特征： 晶圓/基板尺寸從小到200 mm /8'' 系統(tǒng)設(shè)計(jì)支持光刻工藝的多功能性 在第/一次光刻模式下的吞吐量高達(dá)180 WPH，在自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)模式下的吞吐量高達(dá)140 WPH 易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，...
2020-10-17 -
遼寧鍵合機(jī)售后服務(wù)
一旦認(rèn)為模具有缺陷，墨水標(biāo)記就會(huì)滲出模具，以便于視覺(jué)隔離。典型的目標(biāo)是在100萬(wàn)個(gè)管芯中，少于6個(gè)管芯將是有缺陷的。還需要考慮其他因素，因此可以優(yōu)化芯片恢復(fù)率。 質(zhì)量體系確保模具的回收率很高。晶圓邊緣上的裸片經(jīng)常會(huì)部分丟失。芯...
2020-10-17 -
掃描隧道顯微鏡隔振臺(tái)免稅價(jià)格
LFS-3傳感器在三個(gè)軸上測(cè)量水平和垂直加速度，頻率約為0.2Hz。該傳感器直接放置在地板上，與標(biāo)準(zhǔn)AVI/LP系統(tǒng)結(jié)合使用在前饋回路中，以提高極低頻時(shí)的隔振性能。LFS-3可以被復(fù)裝到現(xiàn)有的AVI/LP系統(tǒng)中。下面的圖顯示了在AVI/LP系統(tǒng)上測(cè)量的垂直...
2021-12-02 -
河北美元報(bào)價(jià)鍵合機(jī)
該技術(shù)用于封裝敏感的電子組件，以保護(hù)它們免受損壞，污染，濕氣和氧化或其他不良化學(xué)反應(yīng)。陽(yáng)極鍵合尤其與微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）行業(yè)相關(guān)聯(lián)，在該行業(yè)中，陽(yáng)極鍵合用于保護(hù)諸如微傳感器的設(shè)備。陽(yáng)極鍵合的主要優(yōu)點(diǎn)是，它可以產(chǎn)生牢固而持久的鍵合，而無(wú)需粘合劑或過(guò)高的溫度...
2020-10-16 -
原裝進(jìn)口膜厚儀**測(cè)試樣品
濾光片整平光譜響應(yīng)。 ND#0.5 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見(jiàn)光光譜均勻度 + ND#0.5 衰減整平濾波器. ND#1 衰減整平濾波器.單倍整平濾波器用于改善可見(jiàn)光光譜均勻度 + ND#1 衰減整平濾波器. ND#2 衰...
2020-10-16 -
上海掩模對(duì)準(zhǔn)膜厚儀
測(cè)量眼科設(shè)備涂層厚度光譜反射率可用于測(cè)量眼鏡片減反射 (AR) 光譜和殘余顏色，以及硬涂層和疏水層的厚度。 減反涂層減反涂層用來(lái)減少眩光以及無(wú)涂層鏡片導(dǎo)致的眼睛疲勞。 減反鏡片的藍(lán)綠色彩也吸引了眾多消費(fèi)者。 因此，測(cè)量和控制減反涂層及其色彩就...
2020-10-16 -
北京納米壓印質(zhì)保期多久
EVG ? 720特征： 體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度 專有SmartNIL ?技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù) 集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造 盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式 可選的頂部對(duì)準(zhǔn) 可選的...
2020-10-16 -
云南光刻機(jī)化合物半導(dǎo)體應(yīng)用
此外，EVG光刻機(jī)不斷關(guān)注未來(lái)的市場(chǎng)趨勢(shì) - 例如光學(xué)3D傳感和光子學(xué) - 并為這些應(yīng)用開(kāi)發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案，以滿足客戶不斷變化的需求。我們用持續(xù)的技術(shù)和市場(chǎng)地位證明了這一點(diǎn)，包括EVG在使用各種非標(biāo)準(zhǔn)抗蝕劑方面的****的經(jīng)驗(yàn)，這些抗蝕劑針對(duì)獨(dú)特...
2020-10-16 -
干涉儀隔振臺(tái)國(guó)內(nèi)代理
Herz Low Frequency Sensor (LFS-3)低頻感應(yīng)器 LFS-3性能 LFS-3感應(yīng)器測(cè)試水平和垂直方向加速度3軸的頻率低到0.2Hz. 感應(yīng)器直接放到地板上和AVI系列產(chǎn)品連在組成一個(gè)正向...
2020-10-15 -
Filmetrics膜厚儀售后服務(wù)
F3-CS： Filmetrics的F3-CS 專門為了微小視野及微小樣品測(cè)量設(shè)計(jì), 任何人從**操作到研&發(fā)人員都可以此簡(jiǎn)易USB供電系統(tǒng)在數(shù)秒鐘內(nèi)測(cè)量如聚對(duì)二甲苯和真空鍍膜層厚度. 我們具專利的自動(dòng)校正功能大幅縮短測(cè)量設(shè)置並可自動(dòng)調(diào)節(jié)儀器的...
2020-10-15 -
研究所輪廓儀有誰(shuí)在用
輪廓儀的物鏡知多少? 白光干涉輪廓儀是基于白光干涉原理，以三維非接觸時(shí)方法測(cè)量分析樣片表面形貌的關(guān)鍵參數(shù)和尺寸，典型結(jié)果包括： 表面形貌（粗糙度，平面度，平行度，臺(tái)階高度，錐角等） 幾何特征（關(guān)鍵孔徑尺寸，曲率半徑，特征區(qū)域的面積和集...
2020-10-15 -
盒厚膜厚儀原產(chǎn)地
生物醫(yī)療器械應(yīng)用中的涂層生物醫(yī)療器械的制造和準(zhǔn)備方面會(huì)用到許多類型的涂層。 有些涂層是為了保護(hù)設(shè)備免受腐蝕，而其他的則是為了預(yù)防組 織損傷、***或者是排異反應(yīng)。 藥 物傳輸涂層也變得日益普通。 其它生物醫(yī)學(xué)器械，如血管成型球囊，具有**的隔膜，必須具有均...
2020-10-15 -
高精密儀器膜厚儀美元價(jià)格
F3-CS： Filmetrics的F3-CS 專門為了微小視野及微小樣品測(cè)量設(shè)計(jì), 任何人從**操作到研&發(fā)人員都可以此簡(jiǎn)易USB供電系統(tǒng)在數(shù)秒鐘內(nèi)測(cè)量如聚對(duì)二甲苯和真空鍍膜層厚度. 我們具專利的自動(dòng)校正功能大幅縮短測(cè)量設(shè)置並可自動(dòng)調(diào)節(jié)儀器的...
2020-10-15 -
CMOS鍵合機(jī)優(yōu)惠價(jià)格
EVG?301技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑（基板尺寸）：200和100-300毫米 清潔系統(tǒng) 開(kāi)室，旋轉(zhuǎn)器和清潔臂 腔室：由PP或PFA制成（可選） 清潔介質(zhì)：去離子水（標(biāo)準(zhǔn)），其他清潔介質(zhì)（可選） 旋轉(zhuǎn)卡盤：真空卡盤（標(biāo)準(zhǔn)）和邊...
2020-10-14 -
浙江EVG850 DB鍵合機(jī)
EVG?850LT的LowTemp?等離子激/活模塊 2種標(biāo)準(zhǔn)工藝氣體：N2和O2以及2種其他工藝氣體：高純度氣體（99.999％），稀有氣體（Ar，He，Ne等）和形成氣體（N2，Ar含量蕞/高為4％的氣體）2） 通用質(zhì)量流量控制器：蕞多可對(duì)4種工藝氣體進(jìn)行...
2020-10-14