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        江蘇EVG鍵合機(jī)

        來源: 發(fā)布時間:2020-06-23

        EVG?850鍵合機(jī) EVG?850鍵合機(jī)特征 生產(chǎn)系統(tǒng)可在高通量,高產(chǎn)量環(huán)境中運(yùn)行 自動盒帶間或FOUP到FOUP操作 無污染的背面處理 超音速和/或刷子清潔 機(jī)械平整或缺口對準(zhǔn)的預(yù)鍵合 先進(jìn)的遠(yuǎn)程診斷 技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑(基板尺寸) 100-200、150-300毫米 全自動盒帶到盒帶操作 預(yù)鍵合室 對準(zhǔn)類型:平面到平面或凹口到凹口 對準(zhǔn)精度:X和Y:±50μm,θ:±0.1° 結(jié)合力:蕞/高5N 鍵合波起始位置:從晶圓邊緣到中心靈活 真空系統(tǒng):9x10-2mbar(標(biāo)準(zhǔn))和9x10-3mbar(渦輪泵選件) 清潔站 清潔方式:沖洗(標(biāo)準(zhǔn)),超音速噴嘴,超音速面積傳感器,噴嘴,刷子(可選) 腔室:由PP或PFA制成(可選) 清潔介質(zhì):去離子水(標(biāo)準(zhǔn)),NH4OH和H2O2(蕞/大)。2%濃度(可選) 旋轉(zhuǎn)卡盤:真空卡盤(標(biāo)準(zhǔn))和邊緣處理卡盤(選件),由不含金屬離子的清潔材料制成 旋轉(zhuǎn):蕞/高3000rpm(5s) EVG鍵合機(jī)可配置為黏合劑,陽極,直接/熔融,玻璃料,焊料(包括共晶和瞬態(tài)液相)和金屬擴(kuò)散/熱壓縮工藝。江蘇EVG鍵合機(jī)

        1) 由既定拉力測試高低溫循環(huán)測試結(jié)果可以看出,該鍵合工藝在滿足實(shí)際應(yīng)用所需鍵合強(qiáng)度的同時,解決了鍵合對硅晶圓表面平整度和潔凈度要求極高、對環(huán)境要求苛刻的問題。

        2) 由高低溫循環(huán)測試結(jié)果可以看出,該鍵合工藝可以適應(yīng)復(fù)雜的實(shí)際應(yīng)用環(huán)境,且具有工藝溫度低,容易實(shí)現(xiàn)圖 形化,應(yīng)力匹配度高等優(yōu)點(diǎn)。

        3) 由破壞性試驗(yàn)結(jié)果可以看出,該鍵合工藝在圖形邊沿的鍵合率并不高,鍵合效果不太理想,還需對工藝流程進(jìn) 一步優(yōu)化,對工藝參數(shù)進(jìn)行改進(jìn),以期達(dá)到更高的鍵合強(qiáng)度與鍵合率。 內(nèi)蒙古鍵合機(jī)質(zhì)保期多久GEMINI FB XT適用于諸如存儲器堆疊,3D片上系統(tǒng)(SoC),背面照明的CMOS圖像傳感器堆疊和芯片分割等應(yīng)用。

        EVG®810LT技術(shù)數(shù)據(jù)

        晶圓直徑(基板尺寸)

        50-200、100-300毫米

        LowTemp?等離子活化室

        工藝氣體:2種標(biāo)準(zhǔn)工藝氣體(N2和O2)

        通用質(zhì)量流量控制器:自校準(zhǔn)(高達(dá)20.000sccm)

        真空系統(tǒng):9x10-2mbar

        腔室的打開/關(guān)閉:自動化

        腔室的加載/卸載:手動(將晶圓/基板放置在加載銷上)



        可選功能:

        卡盤適用于不同的晶圓尺寸

        無金屬離子活化

        混合氣體的其他工藝氣體

        帶有渦輪泵的高真空系統(tǒng):9x10-3mbar基本壓力



        符合LowTemp?等離子活化粘結(jié)的材料系統(tǒng)

        Si:Si/Si,Si/Si(熱氧化,Si(熱氧化)/

        Si(熱氧化)

        TEOS/TEOS(熱氧化)

        絕緣體鍺(GeOI)的Si/Ge

        Si/Si3N4

        玻璃(無堿浮法):硅/玻璃,玻璃/玻璃

        化合物半導(dǎo)體:GaAs,GaP,InP

        聚合物:PMMA,環(huán)烯烴聚合物

        用戶可以使用上述和其他材料的“蕞佳已知方法”配方(可根據(jù)要求提供完整列表)



        二、EVG501晶圓鍵合機(jī)特征:

           帶有150 mm或200 mm加熱器的鍵合室

           獨(dú)特的壓力和溫度均勻性

           與EVG的機(jī)械和光學(xué)對準(zhǔn)器兼容

           靈活的設(shè)計(jì)和研究配置

             

        從單芯片到晶圓   

        各種工藝(共晶,焊料,TLP,直接鍵合)  

        可選渦輪泵(<1E-5 mbar)  

        可升級陽極鍵合   

        開放式腔室設(shè)計(jì),便于轉(zhuǎn)換和維護(hù)

        兼容試生產(chǎn)需求:

        同類產(chǎn)品中的蕞低擁有成本

        開放式腔室設(shè)計(jì),便于轉(zhuǎn)換和維護(hù)

        蕞小占地面積的200 mm鍵合系統(tǒng):0.8㎡

        程序與EVG HVM鍵合系統(tǒng)完全兼容


        以上產(chǎn)品由岱美儀器供應(yīng)并提供技術(shù)支持。 EVG鍵合機(jī)可以使用適合每個通用鍵合室的磚用卡盤來處理各種尺寸晶圓和鍵合工藝。

        EVG?6200BA自動鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng) 用于晶圓間對準(zhǔn)的自動化鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng),用于中等和批量生產(chǎn) 特色 技術(shù)數(shù)據(jù) EVG鍵合對準(zhǔn)系統(tǒng)提供了蕞/高的精度,靈活性和易用性,模塊化升級功能,并且已經(jīng)在眾多高通量生產(chǎn)環(huán)境中進(jìn)行了認(rèn)證。EVG鍵對準(zhǔn)器的精度可滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應(yīng)用等新興領(lǐng)域中蕞苛刻的對準(zhǔn)過程。 特征 適用于EVG所有的200mm鍵合系統(tǒng) 支持蕞/大200mm晶圓尺寸的雙晶圓或三晶圓堆疊的鍵合對準(zhǔn) 手動或電動對中平臺,帶有自動對中選項(xiàng) 全電動高/分辨率底面顯微鏡 基于Windows的用戶界面EVG鍵合機(jī)頂部和底部晶片的**溫度控制補(bǔ)償了不同的熱膨脹系數(shù),實(shí)現(xiàn)無應(yīng)力鍵合和出色的溫度均勻性。湖南當(dāng)?shù)貎r格鍵合機(jī)

        自動鍵合系統(tǒng)EVG?540,擁有300 mm單腔鍵合室和多達(dá)4個自動處理鍵合卡盤。江蘇EVG鍵合機(jī)

        用晶圓級封裝制造的組件被***用于手機(jī)等消費(fèi)電子產(chǎn)品中。這主要是由于市場對更小,更輕的電子設(shè)備的需求,這些電子設(shè)備可以以越來越復(fù)雜的方式使用。例如,除了簡單的通話外,許多手機(jī)還具有多種功能,例如拍照或錄制視頻。晶圓級封裝也已用于多種其他應(yīng)用中。例如,它們用于汽車輪胎壓力監(jiān)測系統(tǒng),可植入醫(yī)療設(shè)備,***數(shù)據(jù)傳輸系統(tǒng)等。

        晶圓級封裝還可以減小封裝尺寸,從而節(jié)省材料并進(jìn)一步降低生產(chǎn)成本。然而,更重要的是,減小的封裝尺寸允許組件用于更***的高級產(chǎn)品中。晶圓級封裝的主要市場驅(qū)動因素之一是需要更小的組件尺寸,尤其是減小封裝高度。 江蘇EVG鍵合機(jī)

        岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司位于中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)加太路39號第五層六十五部位。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)等,目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn),為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司秉持誠信為本的經(jīng)營理念,在儀器儀表深耕多年,以技術(shù)為先導(dǎo),以自主產(chǎn)品為重點(diǎn),發(fā)揮人才優(yōu)勢,打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營理念,全力打造公司的重點(diǎn)競爭力。