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        遼寧水性光刻膠多少錢(qián) 吉田半導(dǎo)體供應(yīng)

        發(fā)貨地點(diǎn):廣東省東莞市

        發(fā)布時(shí)間:2025-04-23

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        詳細(xì)信息

        廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢(shì),適用于不同領(lǐng)域。

        厚板光刻膠 JT - 3006:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好,符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封,使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用于厚板的光刻加工,在對(duì)精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場(chǎng)景中發(fā)揮作用,如特定的電路板制造領(lǐng)域。

        水油光刻膠 SR - 3303:適用于光學(xué)儀器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域的光刻工藝。品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn),由工廠(chǎng)研發(fā)且支持定制,工廠(chǎng)直銷(xiāo)。 厚板光刻膠 JT-3001,抗深蝕刻,PCB 電路板制造Preferred!遼寧水性光刻膠多少錢(qián)

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        工藝流程

        目的:去除基板表面油污、顆粒,增強(qiáng)感光膠附著力。

        方法:

        化學(xué)清洗(硫酸/雙氧水、去離子水);

        表面處理(硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化,PCB基板用粗化處理)。

         涂布(Coating)

        方式:

        旋涂:半導(dǎo)體/顯示領(lǐng)域,厚度控制精確(納米至微米級(jí)),轉(zhuǎn)速500-5000rpm;

        噴涂/輥涂:PCB/MEMS領(lǐng)域,適合大面積或厚膠(微米至百微米級(jí),如負(fù)性膠可達(dá)100μm)。

        關(guān)鍵參數(shù):膠液黏度、涂布速度、基板溫度(影響厚度均勻性)。

         前烘(Soft Bake)

        目的:揮發(fā)溶劑,固化膠膜,增強(qiáng)附著力和穩(wěn)定性。

        條件:

        溫度:60-120℃(正性膠通常更低,如90℃;負(fù)性膠可至100℃以上);

        時(shí)間:5-30分鐘(根據(jù)膠厚調(diào)整,厚膠需更長(zhǎng)時(shí)間)。

         曝光(Exposure)

        光源:

        紫外光(UV):G線(xiàn)(436nm)、I線(xiàn)(365nm)用于傳統(tǒng)光刻(分辨率≥1μm);

        深紫外(DUV):248nm(KrF)、193nm(ArF)用于半導(dǎo)體先進(jìn)制程(分辨率至20nm);

        極紫外(EUV):13.5nm,用于7nm以下制程(只能正性膠適用)。

        曝光方式:

        接觸式/接近式:掩膜版與膠膜直接接觸(PCB、MEMS,低成本但精度低);

        投影式:通過(guò)物鏡聚焦(半導(dǎo)體,分辨率高,如ArF光刻機(jī)精度達(dá)22nm)。

        江西進(jìn)口光刻膠生產(chǎn)廠(chǎng)家松山湖光刻膠廠(chǎng)家吉田,2000 萬(wàn)級(jí)產(chǎn)能,48小時(shí)極速交付!

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        關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域

        半導(dǎo)體制造:

        在晶圓表面涂覆光刻膠,通過(guò)掩膜曝光、顯影,刻蝕出晶體管、電路等納米級(jí)結(jié)構(gòu)(如EUV光刻膠用于7nm以下制程)。

         印刷電路板(PCB):

        保護(hù)電路圖形或作為蝕刻抗蝕層,制作線(xiàn)路和焊盤(pán)。

         顯示面板(LCD/OLED):

        用于制備彩色濾光片、電極圖案等。

         微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS):

        加工微結(jié)構(gòu)(如傳感器、執(zhí)行器)。

        工作原理(以正性膠為例)

        1. 涂膠:在基材(如硅片)表面均勻旋涂光刻膠,烘干形成薄膜。

        2. 曝光:通過(guò)掩膜版,用特定波長(zhǎng)光線(xiàn)照射,曝光區(qū)域的光敏劑分解,使樹(shù)脂變得易溶于顯影液。

        3. 顯影:用顯影液溶解曝光區(qū)域,留下未曝光的光刻膠圖案,作為后續(xù)刻蝕或離子注入的掩蔽層。

        4. 后續(xù)工藝:刻蝕基材(保留未被光刻膠保護(hù)的區(qū)域),或去除光刻膠(剝離工藝)。

        廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司成立于 2023 年,總部位于東莞松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū),注冊(cè)資本 2000 萬(wàn)元。作為高新企業(yè)和廣東省專(zhuān)精特新企業(yè),公司專(zhuān)注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷(xiāo)售,產(chǎn)品線(xiàn)覆蓋芯片光刻膠、LCD 光刻膠、納米壓印光刻膠、半導(dǎo)體錫膏、焊片及靶材等領(lǐng)域。其光刻膠產(chǎn)品以高分辨率、耐蝕刻性和環(huán)保特性著稱(chēng),廣泛應(yīng)用于芯片制造、顯示面板及精密電子元件生產(chǎn)。

        公司依托 23 年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)積累,構(gòu)建了完整的技術(shù)研發(fā)體系,擁有全自動(dòng)化生產(chǎn)設(shè)備及多項(xiàng)技術(shù)。原材料均選用美國(guó)、德國(guó)、日本進(jìn)口的材料,并通過(guò) ISO9001:2008 質(zhì)量管理體系認(rèn)證,生產(chǎn)流程嚴(yán)格執(zhí)行 8S 現(xiàn)場(chǎng)管理標(biāo)準(zhǔn),確保產(chǎn)品穩(wěn)定性與一致性。目前,吉田半導(dǎo)體已與多家世界 500 強(qiáng)企業(yè)及電子加工企業(yè)建立長(zhǎng)期合作,產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)全球市場(chǎng),致力于成為半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè)。
        政策支持:500億加碼產(chǎn)業(yè)鏈。

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        吉田半導(dǎo)體的自研產(chǎn)品已深度融入國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈:

        • 芯片制造:YK-300 光刻膠服務(wù)中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ),支持國(guó)產(chǎn) 14nm 芯片量產(chǎn)。
        • 顯示面板:YK-200 LCD 光刻膠市占率達(dá) 15%,成為京東方、華星光電戰(zhàn)略合作伙伴。
        • 新能源領(lǐng)域:無(wú)鹵無(wú)鉛焊片通過(guò) UL 認(rèn)證,批量應(yīng)用于寧德時(shí)代儲(chǔ)能系統(tǒng),年供貨量超 500 噸。
        • 研發(fā)投入:年研發(fā)費(fèi)用占比超 15%,承擔(dān)國(guó)家 02 專(zhuān)項(xiàng)課題,獲 “國(guó)家技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)”。
        • 產(chǎn)能規(guī)模:光刻膠年產(chǎn)能 5000 噸,納米壓印光刻膠占全球市場(chǎng)份額 15%。
        • 質(zhì)量體系:通過(guò) ISO9001、IATF 16949 等認(rèn)證,生產(chǎn)過(guò)程執(zhí)行 8S 管理,批次穩(wěn)定性達(dá) 99.5%。
        吉田半導(dǎo)體將繼續(xù)聚焦光刻膠研發(fā),加速 EUV 光刻膠與木基材料技術(shù)突破,目標(biāo)在 2027 年前實(shí)現(xiàn) 7nm 制程材料量產(chǎn)。同時(shí),深化國(guó)產(chǎn)供應(yīng)鏈協(xié)同,構(gòu)建 “材料 - 設(shè)備 - 工藝” 一體化生態(tài)圈,為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)自主化貢獻(xiàn) “吉田力量”。
        從突破國(guó)際壟斷到行業(yè)標(biāo)準(zhǔn),吉田半導(dǎo)體以自研自產(chǎn)為引擎,走出了一條中國(guó)半導(dǎo)體材料企業(yè)的崛起之路。未來(lái),公司將以更具競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)品與技術(shù),助力中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁向更高臺(tái)階。
        半導(dǎo)體材料選吉田,歐盟認(rèn)證,支持定制化解決方案!上海高溫光刻膠廠(chǎng)家

        自研自產(chǎn)的光刻膠廠(chǎng)家。遼寧水性光刻膠多少錢(qián)

        正性光刻膠

        YK-300:適用于半導(dǎo)體制造,具備高分辨率(線(xiàn)寬≤10μm)、耐高溫(250℃)、耐酸堿腐蝕特性,主要用于28nm及以上制程的晶圓制造,適配UV光源(365nm/405nm)。

        技術(shù)優(yōu)勢(shì):采用進(jìn)口樹(shù)脂及光引發(fā)劑,絕緣阻抗高(>10^14Ω),滿(mǎn)足半導(dǎo)體器件對(duì)絕緣性的嚴(yán)苛要求。

        負(fù)性光刻膠

        JT-1000:負(fù)性膠,主打優(yōu)異抗深蝕刻性能,分辨率達(dá)3μm,適用于功率半導(dǎo)體、MEMS器件制造,可承受氫氟酸(HF)、磷酸(H3PO4)等強(qiáng)腐蝕液處理。

        SU-3:經(jīng)濟(jì)型負(fù)性膠,性?xún)r(jià)比高,適用于分立器件及低端邏輯芯片,光源適應(yīng)性廣(248nm-436nm),曝光靈敏度≤200mJ/cm。

        2. 顯示面板光刻膠

        LCD正性光刻膠YK-200:專(zhuān)為T(mén)FT-LCD制程設(shè)計(jì),具備高涂布均勻性(膜厚誤差±1%)、良好的基板附著力,用于彩色濾光片(CF)和陣列基板(Array)制造,支持8.5代線(xiàn)以上大規(guī)模生產(chǎn)。

        水性感光膠JT-1200:環(huán)保型產(chǎn)品,VOC含量<50g/L,符合歐盟RoHS標(biāo)準(zhǔn),適用于柔性顯示基板,可制作20μm以下精細(xì)網(wǎng)點(diǎn),主要供應(yīng)京東方、TCL等面板廠(chǎng)商。

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        廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司是一家有著雄厚實(shí)力背景、信譽(yù)可靠、勵(lì)精圖治、展望未來(lái)、有夢(mèng)想有目標(biāo),有組織有體系的公司,堅(jiān)持于帶領(lǐng)員工在未來(lái)的道路上大放光明,攜手共畫(huà)藍(lán)圖,在廣東省等地區(qū)的電工電氣行業(yè)中積累了大批忠誠(chéng)的客戶(hù)粉絲源,也收獲了良好的用戶(hù)口碑,為公司的發(fā)展奠定的良好的行業(yè)基礎(chǔ),也希望未來(lái)公司能成為行業(yè)的翹楚,努力為行業(yè)領(lǐng)域的發(fā)展奉獻(xiàn)出自己的一份力量,我們相信精益求精的工作態(tài)度和不斷的完善創(chuàng)新理念以及自強(qiáng)不息,斗志昂揚(yáng)的的企業(yè)精神將引領(lǐng)吉田半導(dǎo)體供應(yīng)和您一起攜手步入輝煌,共創(chuàng)佳績(jī),一直以來(lái),公司貫徹執(zhí)行科學(xué)管理、創(chuàng)新發(fā)展、誠(chéng)實(shí)守信的方針,員工精誠(chéng)努力,協(xié)同奮取,以品質(zhì)、服務(wù)來(lái)贏得市場(chǎng),我們一直在路上!

         

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