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                        來源：
                        發(fā)布時間：2025-05-20
                    
        
                    
        
                        
        
	吉田半導體 JT-3001 厚板光刻膠：歐盟 RoHS 認證，PCB 電路板制造 

        

        
	憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性，吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料。
        
吉田半導體推出的 JT-3001 厚板光刻膠，分辨率達 1.5μm，抗深蝕刻速率 > 500nm/min，適用于高密度電路板制造。產(chǎn)品通過歐盟 RoHS 認證，采用無鹵無鉛配方，符合環(huán)保要求。其優(yōu)異的感光度與留膜率，確保復雜線路圖形的成型，已應用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。公司提供從材料選型到工藝優(yōu)化的全流程支持，助力客戶提升生產(chǎn)效率與良率。

        自研自產(chǎn)的光刻膠廠家。浙江PCB光刻膠多少錢
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	LCD 正性光刻膠（YK-200）應用場景：LCD 面板的電極圖案化（如 TFT-LCD 的柵極、源漏極）、彩色濾光片制造。特點：高感光度與均勻涂布性，確保顯示面板的高對比度和色彩還原度。
        
厚膜光刻膠（JT-3001）應用場景：Mini LED/Micro LED 顯示基板的巨量轉移技術，以及 OLED 面板的封裝工藝。特點：膜厚可控（可達數(shù)十微米），滿足高密度像素陣列的精細加工需求。
        
PCB 光刻膠（如 SU-3 負性光刻膠）應用場景：高多層 PCB、HDI（高密度互連）板的線路成像，以及 IC 載板的精細線路制作。特點：抗電鍍性能優(yōu)異，支持細至 50μm 以下的線寬 / 線距，適應 5G 通信、服務器等 PCB 需求。
常州紫外光刻膠工廠正性光刻膠生產(chǎn)廠家。
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	廣東吉田半導體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負性、正性、納米壓印及光刻膠等類別，以滿足不同領域的需求。
        
         

        

        
	UV 納米壓印光刻膠：JT-2000 型號，耐強酸強堿，耐高溫達 250°C，長期可靠性高，粘接強度高，重量 100g。適用于需要在特殊化學和高溫環(huán)境下進行納米壓印光刻的工藝，如半導體器件制造。

        

        
	其他光刻膠 

        

          
	
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		水油光刻膠 JT-2001：屬于水油兩用光刻膠，具有工廠研發(fā)、可定制、使用、品質保障、性能穩(wěn)定的特點，重量 1L。
	
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		水油光刻膠 SR-3308：同樣為水油兩用光刻膠，重量 5L，具備上述通用優(yōu)勢，應用場景。
	
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	 感光機制 

        

        
	
        
         

        

        
	? 重氮型（雙液型）：需混合光敏劑（如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉），曝光后通過交聯(lián)反應固化，適用于精細圖案（如PCB電路線寬≤0.15mm）。 

        

        
	
        
         

        

        
	? SBQ型（單液型）：預混光敏劑，無需調配，感光度高（曝光時間縮短30%），適合快速制版（如服裝印花）。 

        

        
	
        
         

        

        
	? 環(huán)保型：采用無鉻配方（如CN10243143A），通過多元固化體系（熱固化+光固化）實現(xiàn)12-15mJ/cm2快速曝光，分辨率達2μm，符合歐盟REACH標準。 

        

        
	
        
         

        

        
	 功能細分 

        

        
	
        
         

        

        
	? 耐溶劑型：如日本村上AD20，耐酒精、甲苯等溶劑，適用于電子油墨印刷。 

        

        
	
        
         

        

        
	? 耐水型：如瑞士科特1711，抗水性強，適合紡織品水性漿料。 

        

        
	
        
         

        

        
	? 厚版型：如德國K?ppen厚版膠，單次涂布可達50μm，用于立體印刷。 

        

        
	
        

        

        
	
        
         

        

        
	典型應用場景： 

        

        
	
        
         

        

        
	? PCB制造：使用360目尼龍網(wǎng)+重氮感光膠，配合LED曝光（405nm波長），實現(xiàn)0.15mm線寬，耐酸性蝕刻液。 

        

        
	
        
         

        

        
	? 紡織印花：圓網(wǎng)制版采用9806A型感光膠，涂布厚度20μm，耐堿性染料色漿，耐印率超10萬次。 

        

        
	
        
         

        

        
	? 包裝印刷：柔版制版選用杜邦賽麗® Lightning LFH版材，UV-LED曝光+無溶劑工藝，碳排放降低40%。 

        光刻膠技術突破加速，對芯片制造行業(yè)有哪些影響？
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	光刻膠的納米級性能要求

        

        
	
        
        

        

        
	 超高分辨率：需承受電子束（10keV以上）或EUV（13.5nm波長）的轟擊，避免散射導致的邊緣模糊，目前商用EUV膠分辨率已達13nm（3nm制程）。

        

        
	
        
        

        

        
	 低缺陷率：納米級結構對膠層中的顆?；蚧瘜W不均性極其敏感，需通過化學增幅型配方（如酸催化交聯(lián)）提升對比度和抗刻蝕性。

        

        
	
        
        

        

        
	 多功能性：兼容多種基底（柔性聚合物、陶瓷）和后處理工藝（干法刻蝕、原子層沉積），例如用于柔性電子的可拉伸光刻膠。

        

        
	技術挑戰(zhàn)與前沿方向

        

        
	
        
        

        

        
	? EUV光刻膠優(yōu)化：解決曝光后酸擴散導致的線寬波動，開發(fā)含氟聚合物或金屬有機材料以提高靈敏度。

        

        
	
        
        

        

        
	? 無掩膜光刻：結合機器學習優(yōu)化電子束掃描路徑，直接寫入復雜納米圖案（如神經(jīng)網(wǎng)絡芯片的突觸陣列），縮短制備周期。

        

        
	
        
        

        

        
	? 生物基光刻膠：開發(fā)可降解、低毒性的天然高分子光刻膠，用于生物芯片或環(huán)保型納米制造。

        

        
	
        

        廣東光刻膠廠家哪家好？常州紫外光刻膠工廠
        吉田半導體材料的綠色環(huán)保與可持續(xù)發(fā)展。浙江PCB光刻膠多少錢
        
	LCD顯示

        

        
	
        
        

        

        
	? 彩色濾光片（CF）：

        

        
	
        
        

        

        
	? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm，透光率<0.1%。

        

        
	
        
        

        

        
	? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性。

        

        
	
        
        

        

        
	? 陣列基板（Array）：

        

        
	
        
        

        

        
	? 柵極絕緣層光刻膠：用于TFT-LCD的柵極圖案化，分辨率≤3μm。

        

        
	
        
        

        

        
	 OLED顯示（柔性/剛性）

        

        
	
        
        

        

        
	? 像素定義層（PDL）光刻膠：在基板上形成有機發(fā)光材料的 confinement 結構，線寬精度±1μm，需耐溶劑侵蝕（適應蒸鍍工藝）。

        

        
	
        
        

        

        
	? 觸控電極（如ITO/PET）：通過光刻膠圖形化實現(xiàn)透明導電線路，線寬≤5μm。

        

        
	
        
        

        

        
	 Mini/Micro LED

        

        
	
        
        

        

        
	? 巨量轉移前的芯片制備：使用高分辨率光刻膠（分辨率≤5μm）定義微米級LED陣列，良率要求>99.99%。

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