在光學(xué)鏡片研磨這一精細入微的工藝里，溫濕度波動無疑是如影隨形的 “大敵”，對鏡片質(zhì)量的影響堪稱致命。就研磨設(shè)備而言，即便是零點幾攝氏度的細微溫度變化，也會迅速讓研磨盤與鏡片材料的熱膨脹系數(shù)差異暴露無遺。這一差異會直接導(dǎo)致鏡片在研磨過程中受力不均，研磨效果參差不齊，鏡片的曲率精度因此大打折扣，進而嚴重影響其光學(xué)性能。而當處于高濕度環(huán)境時，空氣中彌漫的水汽就像隱匿的破壞者，極易在鏡片表面悄然凝結(jié)成水漬。這些水漬會在后續(xù)鍍膜工藝中成為棘手難題，極大地干擾鍍膜均勻性，致使鏡片的透過率和抗反射能力雙雙下滑，成品鏡片根本無法契合光學(xué)儀器所要求的嚴苛標準。提供詳細的培訓(xùn)服務(wù)，讓用戶熟練掌握設(shè)備操作與維護要點。0.002℃環(huán)境實驗箱

我司憑借深厚的技術(shù)積累，自主研發(fā)出高精密控溫技術(shù)，精度高達 0.1% 的控制輸出。溫度波動值可實現(xiàn)±0.1℃、±0.05℃、±0.01℃、±0.005℃、±0.002℃等精密環(huán)境控制。該系統(tǒng)潔凈度可實現(xiàn)百級、十級、一級。關(guān)鍵區(qū)域 ±5mK（靜態(tài)）的溫度穩(wěn)定性，以及均勻性小于 16mK/m 的內(nèi)部溫度規(guī)格，為諸如芯片研發(fā)這類對溫度極度敏感的項目，打造了近乎完美的溫場環(huán)境，保障實驗數(shù)據(jù)不受溫度干擾。同時，設(shè)備內(nèi)部濕度穩(wěn)定性可達±0.5%@8h，壓力穩(wěn)定性可達+/-3Pa，長達 144h 的連續(xù)穩(wěn)定工作更是讓長時間實驗和制造無后顧之憂。在潔凈度方面，實現(xiàn)百級以上潔凈度控制，工作區(qū)潔凈度優(yōu)于 ISO class3，確保實驗結(jié)果的準確性與可靠性，也保障了精密儀器的正常工作和使用壽命。廣東環(huán)境存儲柜制冷單元內(nèi)部采用高效隔音材質(zhì)，進一步降低設(shè)備噪音，噪音<45dB。

電池芯片制造工藝的復(fù)雜性與精細度與日俱增，對生產(chǎn)環(huán)境的潔凈度和濕度控制提出了極其嚴苛的要求。濕度一旦超出允許范圍，哪怕有細微波動，都極有可能致使電池芯片內(nèi)部的電路結(jié)構(gòu)發(fā)生短路現(xiàn)象，或者嚴重影響芯片的整體性能，大幅降低其充放電效率與使用壽命。精密環(huán)控柜憑借其技術(shù)實力，實現(xiàn)了對濕度的調(diào)控，將濕度穩(wěn)定性牢牢控制在極小的區(qū)間內(nèi)。同時，其配備的空氣過濾系統(tǒng)，能夠高效攔截空氣中的各類塵埃、顆粒及微生物，確保生產(chǎn)環(huán)境達到超高潔凈度標準。針對新能源電子領(lǐng)域千變?nèi)f化的特殊生產(chǎn)工藝需求，精密環(huán)控柜還能提供定制化服務(wù)，從內(nèi)部布局到各項環(huán)境參數(shù)的設(shè)定，都能滿足該領(lǐng)域獨特的環(huán)境要求。

電子顯微鏡用于觀察微觀世界，其內(nèi)部的電子束對環(huán)境要求極高。環(huán)境中的塵埃顆?？赡芪皆陔娮邮窂缴系牟考砻妫绊懗上褓|(zhì)量。精密環(huán)控柜的超高水準潔凈度控制，將空氣中塵埃過濾干凈，為電子顯微鏡提供超潔凈空間。同時，其具備的抗微震功能，能有效隔絕外界震動干擾，確保電子顯微鏡穩(wěn)定成像，讓科研人員清晰觀察微觀結(jié)構(gòu)。對于光學(xué)顯微鏡，溫度和濕度變化會影響鏡片的光學(xué)性能。濕度不穩(wěn)定可能導(dǎo)致鏡片表面產(chǎn)生水汽凝結(jié)，降低光線透過率。精密環(huán)控柜通過溫濕度控制，為光學(xué)顯微鏡提供穩(wěn)定環(huán)境，保證其光學(xué)性能穩(wěn)定，成像清晰。精密環(huán)境控制設(shè)備依托自主研發(fā)的高精密控溫技術(shù)，實現(xiàn)了 0.1% 的超高輸出精度。

設(shè)備運行靜音高效是精密環(huán)控柜的又一優(yōu)勢。采用的 EC 風機，具備更高效、更強大、更安靜的運行特點。相比傳統(tǒng)風機，EC 風機能夠在提供充足風量的同時，有效降低能耗，提高能源利用效率。制冷單元內(nèi)部采用高效隔音材質(zhì)，進一步降低設(shè)備噪音，使其運行噪音小于 45dB 。噪音作為一種能量對于生產(chǎn)過程存在難以忽視的影響，極低的噪音恰恰能防止設(shè)備收到干擾，影響生產(chǎn)環(huán)境。高效的運行則保證了設(shè)備能夠快速、穩(wěn)定地調(diào)節(jié)溫濕度和潔凈度，滿足各類精密實驗和生產(chǎn)的需求。設(shè)備采用EC 風機，運行時更加靜音，高效。0.002℃環(huán)境實驗箱

精密環(huán)控柜可滿足可實現(xiàn)潔凈度百級、十級、一級等不同潔凈度要求。0.002℃環(huán)境實驗箱

在芯片這一高科技產(chǎn)品的復(fù)雜生產(chǎn)流程里，眾多環(huán)節(jié)對溫濕度的波動展現(xiàn)出了近乎苛刻的精密度要求。光刻過程中，利用高精度的光刻設(shè)備，將預(yù)先設(shè)計好的復(fù)雜電路圖案轉(zhuǎn)移至硅片表面。溫度的穩(wěn)定性起著決定性作用，哪怕有零點幾攝氏度的微小波動，都會使光刻膠內(nèi)部的化學(xué)反應(yīng)速率產(chǎn)生偏差。光刻膠作為一種對光敏感的高分子材料，其反應(yīng)速率的改變將直接作用于光刻成像效果，致使圖案邊緣模糊、線條粗細不均，進而讓芯片上的線路出現(xiàn)偏差，甚至引發(fā)短路故障，讓前期投入的大量人力、物力和時間付諸東流。與此同時，濕度因素同樣不可小覷。光刻車間若濕度偏高，水汽極易滲透至光刻膠內(nèi)部，使其含水量上升，感光度隨之降低，如同給精密的 “光刻鏡頭” 蒙上一層霧靄，嚴重影響光刻精度，導(dǎo)致芯片良品率大打折扣，大幅增加生產(chǎn)成本。0.002℃環(huán)境實驗箱