企業(yè)定位與資質(zhì) ? 成立背景:深耕半導(dǎo)體材料行業(yè)23年,位于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū),注冊資本2000萬元,是國家高新技術(shù)企業(yè)、廣東省專精特新企業(yè)及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)。 ? 質(zhì)量體系:通過ISO9001:2008認(rèn)證,嚴(yán)格執(zhí)行8S現(xiàn)場管理,原材料源自美國、德國、日本等國,確保產(chǎn)品穩(wěn)定性。 ? 市場布局:產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球,與世界500強(qiáng)企業(yè)及多家電子加工企業(yè)建立長期合作關(guān)系,覆蓋集成電路、顯示面板、先進(jìn)封裝等領(lǐng)域。 半導(dǎo)體材料選吉田,歐盟認(rèn)證,支持定制化解決方案!濟(jì)南阻焊光刻膠價格 企業(yè)優(yōu)勢 ? 研...
技術(shù)優(yōu)勢:23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破 全流程自主化能力 吉田在光刻膠研發(fā)中實現(xiàn)了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如,其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系,實現(xiàn)了3μm的分辨率,適用于MEMS傳感器、光學(xué)器件等領(lǐng)域。 技術(shù)壁壘:公司擁有23年光刻膠研發(fā)經(jīng)驗,掌握光刻膠主要原材料(如樹脂、光酸)的合成技術(shù),部分原材料純度達(dá)PPT級。 細(xì)分領(lǐng)域技術(shù)先進(jìn) ? 納米壓印光刻膠:在納米級圖案化領(lǐng)域(如量子點顯示、生物芯片)實現(xiàn)技術(shù)突破,分辨率達(dá)3μm,填補(bǔ)國內(nèi)空缺。 ? LCD光...
吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等領(lǐng)域,通過差異化技術(shù)(如納米壓印、厚膜工藝)和環(huán)保特性(水性配方),滿足從傳統(tǒng)電子到新興領(lǐng)域(如第三代半導(dǎo)體、Mini LED)的多樣化需求。其產(chǎn)品不僅支持高精度、高可靠性的制造工藝,還通過材料創(chuàng)新推動行業(yè)向綠色化、低成本化方向發(fā)展。吉田半導(dǎo)體光刻膠的優(yōu)勢在于技術(shù)全面性、環(huán)保創(chuàng)新、質(zhì)量穩(wěn)定性及本土化服務(wù),尤其在納米壓印、厚膜工藝及水性膠領(lǐng)域形成差異化競爭力。 吉田半導(dǎo)體:以技術(shù)革新驅(qū)動光刻膠產(chǎn)業(yè)升級。黑龍江網(wǎng)版光刻膠工廠 吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠:歐盟 RoHS 認(rèn)證,PCB 電路板制造 憑借抗深蝕刻性能...
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司以全球化視野布局市場,通過嚴(yán)格的質(zhì)量管控與完善的服務(wù)體系贏得客戶信賴。公司產(chǎn)品不僅通過 ISO9001 認(rèn)證,更以進(jìn)口原材料和精細(xì)化生產(chǎn)流程保障品質(zhì),例如錫膏產(chǎn)品采用無鹵無鉛配方,符合環(huán)保要求,適用于電子產(chǎn)品制造。其銷售網(wǎng)絡(luò)覆蓋全球,與富士康、聯(lián)想等企業(yè)保持長期合作,并在全國重點區(qū)域設(shè)立辦事處,提供本地化技術(shù)支持與售后服務(wù)。 作為廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè),吉田半導(dǎo)體始終將技術(shù)研發(fā)視為核心競爭力。公司投入大量資源開發(fā)新型光刻膠及焊接材料,例如 BGA 助焊膏和針筒錫膏,滿足精密電子組裝的需求。同時,依托東莞 “世界工廠” 的產(chǎn)業(yè)集群優(yōu)勢,公司強(qiáng)化供應(yīng)鏈協(xié)同,縮短...
作為東莞松山湖的企業(yè),吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,良率達(dá) 98% 以上,已通過中芯國際等晶圓廠驗證;JT-2000 突破耐高溫極限,在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性,適用于 EUV 光刻前道工藝。依托進(jìn)口原材料與全自動化生產(chǎn)工藝,產(chǎn)品通過 ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn),遠(yuǎn)銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,加速國產(chǎn)替代進(jìn)程。吉田半導(dǎo)體實現(xiàn)光刻膠技術(shù)突破,為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主化提供材料支撐。杭州油墨光刻膠工廠 光刻膠(如液...
上游原材料: ? 樹脂:彤程新材、鼎龍股份實現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成,金屬雜質(zhì)含量<5ppb(國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb)。 ? 光引發(fā)劑:久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑,累計形成噸級訂單;威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線。 ? 溶劑:怡達(dá)股份電子級PM溶劑全球市占率超40%,與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,技術(shù)指標(biāo)達(dá)SEMI G5標(biāo)準(zhǔn)。 設(shè)備與驗證: ? 上海新陽與上海微電子聯(lián)合開發(fā)光刻機(jī)適配參數(shù),驗證周期較國際廠商縮短6個月;徐州博康實現(xiàn)“單體-樹脂...
作為東莞松山湖的企業(yè),吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年,成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠。YK-300 適用于 45nm 及以上制程,線寬粗糙度(LWR)≤3nm,良率達(dá) 98% 以上,已通過中芯國際等晶圓廠驗證;JT-2000 突破耐高溫極限,在 250℃復(fù)雜環(huán)境下仍保持圖形穩(wěn)定性,適用于 EUV 光刻前道工藝。依托進(jìn)口原材料與全自動化生產(chǎn)工藝,產(chǎn)品通過 ISO9001 認(rèn)證及歐盟 RoHS 標(biāo)準(zhǔn),遠(yuǎn)銷全球并與跨國企業(yè)建立長期合作,加速國產(chǎn)替代進(jìn)程。吉田半導(dǎo)體全系列產(chǎn)品覆蓋,滿足多元化需求。陜西LED光刻膠工廠吉田半導(dǎo)體的光刻膠產(chǎn)品覆蓋芯片制造、...
正性光刻膠(如 YK-300) 應(yīng)用場景:用于芯片的精細(xì)圖案化,如集成電路(IC)、分立器件(二極管、三極管)的制造。 特點:高分辨率(可達(dá)亞微米級),適用于多層光刻工藝,確保芯片電路的高精度與可靠性。 負(fù)性光刻膠(如 JT-1000) 應(yīng)用場景:用于功率半導(dǎo)體(如 MOSFET、IGBT)的制造,以及傳感器(如 MEMS)的微結(jié)構(gòu)成型。 特點:抗蝕刻能力強(qiáng),適合復(fù)雜圖形的轉(zhuǎn)移,尤其在深寬比要求較高的工藝中表現(xiàn)優(yōu)異。 納米壓印光刻膠(JT-2000) 應(yīng)用場景:第三代半導(dǎo)體(GaN、SiC)芯片、量子點器件及微流控芯片的制造...
納米電子器件制造 ? 半導(dǎo)體芯片:在22nm以下制程中,EUV光刻膠(分辨率≤10nm)用于制備晶體管柵極、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),實現(xiàn)芯片集成度提升(如3nm制程的FinFET/GAA晶體管)。 ? 二維材料器件:在石墨烯、二硫化鉬等二維材料表面,通過電子束光刻膠定義納米電極陣列,構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器。 納米光子學(xué)與超材料 ? 光子晶體與波導(dǎo):利用光刻膠制備亞波長周期結(jié)構(gòu)(如光子晶體光纖、納米級波導(dǎo)彎頭),調(diào)控光的傳播路徑,用于集成光路或量子光學(xué)器件。 ? 超材料設(shè)計:在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級“魚網(wǎng)狀...
納米電子器件制造 ? 半導(dǎo)體芯片:在22nm以下制程中,EUV光刻膠(分辨率≤10nm)用于制備晶體管柵極、納米導(dǎo)線等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),實現(xiàn)芯片集成度提升(如3nm制程的FinFET/GAA晶體管)。 ? 二維材料器件:在石墨烯、二硫化鉬等二維材料表面,通過電子束光刻膠定義納米電極陣列,構(gòu)建單原子層晶體管或傳感器。 納米光子學(xué)與超材料 ? 光子晶體與波導(dǎo):利用光刻膠制備亞波長周期結(jié)構(gòu)(如光子晶體光纖、納米級波導(dǎo)彎頭),調(diào)控光的傳播路徑,用于集成光路或量子光學(xué)器件。 ? 超材料設(shè)計:在金屬/介質(zhì)基底上刻蝕納米級“魚網(wǎng)狀...
吉田半導(dǎo)體柯圖泰全系列感光膠:進(jìn)口品牌品質(zhì),本地化服務(wù)支持 柯圖泰全系列感光膠依托進(jìn)口技術(shù),提供高性價比的絲網(wǎng)印刷解決方案。 吉田半導(dǎo)體代理的柯圖泰全系列感光膠(如 PLUS 6000、Autosol 2000),源自美國先進(jìn)配方,分辨率達(dá) 120 線 / 英寸,適用于玻璃、陶瓷等多種基材。產(chǎn)品通過 SGS 認(rèn)證,符合電子行業(yè)有害物質(zhì)限制要求,其高感光度與耐摩擦性,確保絲網(wǎng)印刷的清晰度與耐久性。公司提供技術(shù)參數(shù)匹配、制版工藝指導(dǎo)等本地化服務(wù),幫助客戶優(yōu)化生產(chǎn)流程,降低材料損耗。 吉田半導(dǎo)體:以技術(shù)革新驅(qū)動光刻膠產(chǎn)業(yè)升級?;葜莺衲す饪棠z廠家 研發(fā)投入的“高門檻” 一款KrF光...
在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司憑借 23 年技術(shù)沉淀,已成為國內(nèi)光刻膠行業(yè)的企業(yè)。公司產(chǎn)品線覆蓋正性、負(fù)性、厚膜、納米壓印等多類型光刻膠,廣泛應(yīng)用于芯片制造、LCD 顯示、PCB 電路板等領(lǐng)域。 技術(shù):自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品具備高分辨率(如 JT-3001 厚板光刻膠)、高感光度(如 JT-1000 負(fù)性光刻膠)及抗深蝕刻性能,部分指標(biāo)達(dá)到水平。 嚴(yán)苛品控:生產(chǎn)過程嚴(yán)格遵循 ISO9001 體系,材料進(jìn)口率 100%,并通過 8S 現(xiàn)場管理確保制程穩(wěn)定性。 定制化服務(wù):支持客戶需求定制,例如為特殊工藝開發(fā)光刻膠,滿足多樣化場景需求。 ...
行業(yè)地位與競爭格局 1. 國際對比 ? 技術(shù)定位:聚焦細(xì)分市場(如納米壓印、LCD),而國際巨頭(如JSR、東京應(yīng)化)主導(dǎo)半導(dǎo)體光刻膠(ArF、EUV)。 ? 成本優(yōu)勢:原材料自主化率超80%,成本低20%;國際巨頭依賴進(jìn)口原材料,成本較高。 ? 客戶響應(yīng):48小時內(nèi)提供定制化解決方案,認(rèn)證周期為國際巨頭的1/5。 2. 國內(nèi)競爭 國內(nèi)光刻膠市場仍由日本企業(yè)壟斷(全球市占率超60%),但吉田在納米壓印、LCD光刻膠等領(lǐng)域具備替代進(jìn)口的潛力。與南大光電、晶瑞電材等企業(yè)相比,吉田在細(xì)分市...
吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題,提升行業(yè)生產(chǎn)效率,通過優(yōu)化材料配方與工藝,吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問題,助力客戶降本增效。 針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴(yán)重等問題,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%,密集圖形側(cè)壁垂直度達(dá)標(biāo)率提升 15%。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù),在顯影過程中減少有機(jī)溶劑對有機(jī)半導(dǎo)體的損傷,使芯片良率提升至 99.8%。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本,推動行業(yè)生產(chǎn)效率提升。嚴(yán)苛光刻膠標(biāo)準(zhǔn)品質(zhì),吉田半導(dǎo)體綠色制造創(chuàng)新趨勢。福建阻焊油墨光刻膠 吉田半導(dǎo)體 YK-300 正性光刻膠:半導(dǎo)體芯片制造的材料 YK...
上游原材料: ? 樹脂:彤程新材、鼎龍股份實現(xiàn)KrF/ArF光刻膠樹脂自主合成,金屬雜質(zhì)含量<5ppb(國際標(biāo)準(zhǔn)<10ppb)。 ? 光引發(fā)劑:久日新材攻克EUV光刻膠原料光致產(chǎn)酸劑,累計形成噸級訂單;威邁芯材合肥基地建成100噸/年ArF/KrF光刻膠主材料產(chǎn)線。 ? 溶劑:怡達(dá)股份電子級PM溶劑全球市占率超40%,與南大光電合作開發(fā)配套溶劑,技術(shù)指標(biāo)達(dá)SEMI G5標(biāo)準(zhǔn)。 設(shè)備與驗證: ? 上海新陽與上海微電子聯(lián)合開發(fā)光刻機(jī)適配參數(shù),驗證周期較國際廠商縮短6個月;徐州博康實現(xiàn)“單體-樹脂...
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢,適用于不同領(lǐng)域。 厚板光刻膠 JT - 3001:具有優(yōu)異的分辨率和感光度,抗深蝕刻性能良好。符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn),保質(zhì)期 1 年,適用于對光刻精度和抗蝕刻要求較高的厚板加工場景,如一些特殊的電路板制造。 SU - 3 負(fù)性光刻膠:分辨率優(yōu)異,對比度良好,曝光靈敏度高,光源適應(yīng)。重量為 100g,常用于對曝光精度和光源適應(yīng)性要求較高的微納加工、半導(dǎo)體制造等領(lǐng)域。 液晶平板顯示器負(fù)性光刻膠 JT - 1000:有 1L 和 100g 兩種規(guī)格,具有優(yōu)異的分辨率,準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性好。主要應(yīng)用于液晶平板顯示器的制造,能...
主要應(yīng)用場景 印刷電路板(PCB): ? 通孔/線路加工:負(fù)性膠厚度可達(dá)20-50μm,耐堿性蝕刻液(如氯化鐵、堿性氯化銅),適合制作大尺寸線路(線寬/線距≥50μm),如雙面板、多層板的外層電路。 ? 阻焊層:作為絕緣保護(hù)層,覆蓋非焊盤區(qū)域,需厚膠(50-100μm)和高耐焊接溫度(260℃以上),負(fù)性膠因工藝簡單、成本低而廣泛應(yīng)用。 微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS): ? 深硅蝕刻(DRIE):負(fù)性膠作為蝕刻掩膜,厚度可達(dá)100μm以上,耐SF?等強(qiáng)腐蝕性氣體,用于制作加速度計、陀螺儀的高深寬...
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司,坐落于松山湖經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū),是半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的一顆璀璨明珠。公司注冊資本 2000 萬元,專注于半導(dǎo)體材料的研發(fā)、生產(chǎn)與銷售,是國家高新技術(shù)企業(yè)、廣東省專精特新企業(yè)以及廣東省創(chuàng)新型中小企業(yè)。 強(qiáng)大的產(chǎn)品陣容:吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品豐富且實力強(qiáng)勁。芯片光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠精細(xì)滿足芯片制造、微納加工等關(guān)鍵環(huán)節(jié)需求;半導(dǎo)體錫膏、焊片在電子焊接領(lǐng)域性能;靶材更是在材料濺射沉積工藝中發(fā)揮關(guān)鍵作用。這些產(chǎn)品遠(yuǎn)銷全球,與眾多世界 500 強(qiáng)企業(yè)及電子加工企業(yè)建立了長期穩(wěn)固的合作關(guān)系。 雄厚的研發(fā)生產(chǎn)實力:作為一家擁有 23 年研發(fā)與生產(chǎn)經(jīng)驗的綜合性企...
主要應(yīng)用場景 印刷電路板(PCB): ? 通孔/線路加工:負(fù)性膠厚度可達(dá)20-50μm,耐堿性蝕刻液(如氯化鐵、堿性氯化銅),適合制作大尺寸線路(線寬/線距≥50μm),如雙面板、多層板的外層電路。 ? 阻焊層:作為絕緣保護(hù)層,覆蓋非焊盤區(qū)域,需厚膠(50-100μm)和高耐焊接溫度(260℃以上),負(fù)性膠因工藝簡單、成本低而廣泛應(yīng)用。 微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS): ? 深硅蝕刻(DRIE):負(fù)性膠作為蝕刻掩膜,厚度可達(dá)100μm以上,耐SF?等強(qiáng)腐蝕性氣體,用于制作加速度計、陀螺儀的高深寬...
公司遵循國際質(zhì)量管理標(biāo)準(zhǔn),通過 ISO9001:2008 認(rèn)證,并在生產(chǎn)過程中執(zhí)行 8S 現(xiàn)場管理,從原料入庫到成品出庫實現(xiàn)全流程監(jiān)控。以錫膏產(chǎn)品為例,其無鹵無鉛配方符合環(huán)保要求,同時具備低飛濺、高潤濕性等特點,適用于電子產(chǎn)品組裝。此外,公司建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化實驗室,配備先進(jìn)檢測設(shè)備,確保產(chǎn)品性能達(dá)到國際同類水平。 憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線。在焊接材料方面,不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,還針對特殊場景開發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,滿足精密電子組裝的多樣化需求。同時,感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性兩類,兼具耐潮性與易操作性,廣...
吉田半導(dǎo)體 JT-3001 厚板光刻膠:歐盟 RoHS 認(rèn)證,PCB 電路板制造 憑借抗深蝕刻性能與環(huán)保特性,吉田 JT-3001 厚板光刻膠成為 PCB 行業(yè)材料。 吉田半導(dǎo)體推出的 JT-3001 厚板光刻膠,分辨率達(dá) 1.5μm,抗深蝕刻速率 > 500nm/min,適用于高密度電路板制造。產(chǎn)品通過歐盟 RoHS 認(rèn)證,采用無鹵無鉛配方,符合環(huán)保要求。其優(yōu)異的感光度與留膜率,確保復(fù)雜線路圖形的成型,已應(yīng)用于華為 5G 基站主板量產(chǎn)。公司提供從材料選型到工藝優(yōu)化的全流程支持,助力客戶提升生產(chǎn)效率與良率。 PCB廠商必看!這款G-line光刻膠讓生產(chǎn)成本直降30%。珠海水油光刻膠...
吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題,提升行業(yè)生產(chǎn)效率,通過優(yōu)化材料配方與工藝,吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問題,助力客戶降本增效。 針對傳統(tǒng)光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴(yán)重等問題,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類產(chǎn)品高 8%,密集圖形側(cè)壁垂直度達(dá)標(biāo)率提升 15%。其納米壓印光刻膠采用特殊交聯(lián)技術(shù),在顯影過程中減少有機(jī)溶劑對有機(jī)半導(dǎo)體的損傷,使芯片良率提升至 99.8%。這些技術(shù)突破有效降低客戶生產(chǎn)成本,推動行業(yè)生產(chǎn)效率提升。光刻膠技術(shù)突破加速,對芯片制造行業(yè)有哪些影響?大連水性光刻膠國產(chǎn)廠商以無鹵無鉛配方與低 VOC 工藝為,吉田半導(dǎo)體打造環(huán)保光刻膠,助力電子產(chǎn)業(yè)...
LCD 正性光刻膠(YK-200)應(yīng)用場景:LCD 面板的電極圖案化(如 TFT-LCD 的柵極、源漏極)、彩色濾光片制造。特點:高感光度與均勻涂布性,確保顯示面板的高對比度和色彩還原度。 厚膜光刻膠(JT-3001)應(yīng)用場景:Mini LED/Micro LED 顯示基板的巨量轉(zhuǎn)移技術(shù),以及 OLED 面板的封裝工藝。特點:膜厚可控(可達(dá)數(shù)十微米),滿足高密度像素陣列的精細(xì)加工需求。 PCB 光刻膠(如 SU-3 負(fù)性光刻膠)應(yīng)用場景:高多層 PCB、HDI(高密度互連)板的線路成像,以及 IC 載板的精細(xì)線路制作。特點:抗電鍍性能優(yōu)異,支持細(xì)至 50μm 以下的線寬 / 線距,適應(yīng) 5...
光刻膠(如液晶平板顯示器光刻膠) 液晶平板顯示器制造:在液晶平板顯示器(LCD)的生產(chǎn)過程中,光刻膠用于制作液晶盒內(nèi)的各種精細(xì)圖案,包括像素電極、公共電極、取向?qū)訄D案等。這些圖案的精度和質(zhì)量直接影響液晶顯示器的顯示效果,如分辨率、對比度、視角等。 有機(jī)發(fā)光二極管顯示器(OLED)制造:OLED 顯示器的制造同樣需要光刻膠來制作電極、像素定義層等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)。OLED 顯示器具有自發(fā)光、響應(yīng)速度快等優(yōu)點,而光刻膠能保障其精細(xì)的像素結(jié)構(gòu)制作,提升顯示器的發(fā)光效率和顯示質(zhì)量 。 半導(dǎo)體材料選吉田,歐盟認(rèn)證,支持定制化解決方案!濟(jì)南光刻膠供應(yīng)商 技術(shù)挑戰(zhàn)...
“設(shè)備-材料-工藝”閉環(huán)驗證 吉田半導(dǎo)體與中芯國際、華虹半導(dǎo)體等晶圓廠建立了聯(lián)合研發(fā)機(jī)制,針對28nm及以上成熟制程開發(fā)專門使用光刻膠,例如其KrF光刻膠已通過中芯國際北京廠的產(chǎn)線驗證,良率達(dá)95%以上。此外,公司參與國家重大專項(如02專項),與中科院微電子所合作開發(fā)EUV光刻膠基礎(chǔ)材料,雖未實現(xiàn)量產(chǎn),但在酸擴(kuò)散控制和靈敏度優(yōu)化方面取得階段性突破。 政策支持與成本優(yōu)勢 作為廣東省專精特新企業(yè),吉田半導(dǎo)體享受稅收優(yōu)惠(如15%企業(yè)所得稅)和研發(fā)補(bǔ)貼(2023年獲得國家補(bǔ)助超2000萬元),比較明顯降低產(chǎn)品研發(fā)成本。同時,其本地化生產(chǎn)(東莞松山湖基地)可將物...
感光機(jī)制 ? 重氮型(雙液型):需混合光敏劑(如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉),曝光后通過交聯(lián)反應(yīng)固化,適用于精細(xì)圖案(如PCB電路線寬≤0.15mm)。 ? SBQ型(單液型):預(yù)混光敏劑,無需調(diào)配,感光度高(曝光時間縮短30%),適合快速制版(如服裝印花)。 ? 環(huán)保型:采用無鉻配方(如CN10243143A),通過多元固化體系(熱固化+光固化)實現(xiàn)12-15mJ/cm2快速曝光,分辨率達(dá)2μm,符合歐盟REACH標(biāo)準(zhǔn)。 功能細(xì)分 ? 耐溶劑型:如日本村上AD20,耐酒精、甲苯等溶劑,適用...
定義與特性 正性光刻膠是一種在曝光后,曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料,形成與掩膜版(Mask)圖案一致的圖形。與負(fù)性光刻膠(未曝光區(qū)域溶解)相比,其優(yōu)勢是分辨率高、圖案邊緣清晰,是半導(dǎo)體制造(尤其是制程)的主流選擇。 化學(xué)組成與工作原理 主要成分 ? 樹脂(成膜劑): ? 傳統(tǒng)正性膠:采用**酚醛樹脂(Novolak)與重氮萘醌(DNQ,光敏劑)**的復(fù)合體系(PAC體系),占比約80%-90%。 ? 化學(xué)增幅型(用于DUV/EUV):含環(huán)化烯烴樹脂或含氟聚合物,搭配...
國產(chǎn)替代進(jìn)程加速 日本信越化學(xué)因地震導(dǎo)致KrF光刻膠產(chǎn)能受限后,國內(nèi)企業(yè)加速驗證本土產(chǎn)品。鼎龍股份潛江工廠的KrF/ArF產(chǎn)線2024年12月獲兩家大廠百萬大單,二期300噸生產(chǎn)線在建。武漢太紫微的T150A光刻膠性能參數(shù)接近日本UV1610,已通過中芯國際14nm工藝驗證。預(yù)計到2025年,國內(nèi)KrF/ArF光刻膠國產(chǎn)化率將從不足5%提升至10%。 原材料國產(chǎn)化突破 光刻膠樹脂占成本50%-60%,八億時空的光刻膠樹脂產(chǎn)線預(yù)計2025年實現(xiàn)百噸級量產(chǎn),其產(chǎn)品純度達(dá)到99.999%,金屬雜質(zhì)含量低于1ppb。怡達(dá)股份作為全球電子級PM溶劑前段(市占率超...
原料準(zhǔn)備 ? 主要成分:樹脂(成膜劑,如酚醛樹脂、聚酰亞胺等)、感光劑(光引發(fā)劑或光敏化合物,如重氮萘醌、光刻膠單體)、溶劑(溶解成分,如丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA))、添加劑(調(diào)節(jié)粘度、感光度、穩(wěn)定性等,如表面活性劑、穩(wěn)定劑)。 ? 原料提純:對樹脂、感光劑等進(jìn)行高純度精制(純度通常要求99.9%以上),避免雜質(zhì)影響光刻精度。 配料與混合 ? 按配方比例精確稱量各組分,在潔凈環(huán)境,如萬中通過攪拌機(jī)均勻混合,形成膠狀溶液。 ? 控制溫度(通常20-30℃)和攪拌速度,避免氣泡產(chǎn)生或成分分...
吉田半導(dǎo)體納米壓印光刻膠 JT-2000:國產(chǎn)技術(shù)突破耐高溫極限 自主研發(fā) JT-2000 納米壓印光刻膠耐受 250℃高溫,為國產(chǎn)納米器件制造提供關(guān)鍵材料。吉田半導(dǎo)體 JT-2000 納米壓印光刻膠采用國產(chǎn)交聯(lián)樹脂,在 250℃高溫下仍保持圖形保真度 > 95%。產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與全自動化工藝,其高粘接強(qiáng)度與耐強(qiáng)酸強(qiáng)堿特性,適用于光學(xué)元件、傳感器等精密器件。產(chǎn)品已通過國內(nèi)科研機(jī)構(gòu)驗證,應(yīng)用于國產(chǎn) EUV 光刻機(jī)前道工藝,幫助客戶實現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)加工自主化。 松山湖光刻膠廠家吉田,23 年經(jīng)驗 + 全自動化產(chǎn)線,支持納米壓印光刻膠定制!四川高溫光刻膠品牌 廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司...