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光刻膠（如液晶平板顯示器光刻膠） 液晶平板顯示器制造：在液晶平板顯示器（LCD）的生產過程中，光刻膠用于制作液晶盒內的各種精細圖案，包括像素電極、公共電極、取向層圖案等。這些圖案的精度和質量直接影響液晶顯示器的顯示效果，如分辨率、對比度、視角...

依托自主研發(fā)與國產供應鏈，吉田半導體 LCD 光刻膠市占率達 15%，躋身國內前段企業(yè)。吉田半導體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產樹脂與單體，實現 100% 國產化替代。其分辨率 0.35μm，附著力 > 3N/cm，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-...

按厚度劃分的通用規(guī)格 超薄錫片 ? 0.03~0.1mm： 典型應用于電子焊接（如BGA錫球、精密芯片封裝）、科研材料或特殊電子元件，要求高純度（99.99%以上）、低氧化率，確保焊接精度和導電性。 ...

吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導體芯片前道工藝...

操作細節(jié)與工藝優(yōu)化 無鉛錫片焊接操作 有鉛錫片焊接操作 預熱步驟 必須執(zhí)行階梯式預熱（如分低溫100℃→中溫150℃→高溫200℃），確保板材水分揮發(fā)和助焊劑激發(fā)，減少爆板風險。 可簡化預熱（甚至不預熱），直接進入焊接溫度。 焊點...

成分與環(huán)保性

感光機制 ? 重氮型（雙液型）：需混合光敏劑（如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉），曝光后通過交聯反應固化，適用于精細圖案（如PCB電路線寬≤0.15mm）。 ? SBQ型（單液型）：預混光敏劑，無需調配，感光度高（曝光時間...

應用場景 領域 無鉛錫片適用場景 有鉛錫片適用場景 電子焊接與封裝 強制要求場景：如消費電子（手機、電腦）、醫(yī)療器械、汽車電子（需滿足環(huán)保標準）、食品接觸設備（如咖啡機內部焊點）。 受限場景：只在少數允許含鉛的領域使用，如非環(huán)保要求的低端...

晶須生長的「隱患與對策」：純錫片在長期應力下可能產生「錫晶須」（直徑1-5μm，長度可達1mm），導致電路短路。通過添加0.05%的鎳或銻，可抑制晶須生長速率90%以上，保障精密儀器（如衛(wèi)星導航系統(tǒng)）10年以上無故障運行。 相圖原理的...

人才與生態(tài)：跨學科團隊的“青黃不接” 前段人才的結構性短缺 光刻膠研發(fā)需材料化學、半導體工藝、分析檢測等多領域。國內高校相關專業(yè)畢業(yè)生30%進入光刻膠行業(yè)，且缺乏具有10年以上經驗的工程師。日本企業(yè)通過“技術導師制”培養(yǎng)人才，...

合金的「性能調節(jié)器」：當錫中加入0.5%-3%的銀（如SAC305焊錫片），合金熔點從231.9℃降至217℃，同時焊點抗拉強度提升40%，這種「溫柔的強化」讓錫片能在手機芯片焊接中承受高頻振動而不斷裂。 導電性的「微米級橋梁」：在電...

錫渣回收的「零浪費哲學」：電子廠的廢料錫渣（含錫95%以上）通過真空蒸餾技術（溫度500℃，真空度＜1Pa）提純，回收率可達99.5%，在提純后的錫片雜質含量＜0.05%，重新用于偏高級方向芯片焊接，真正實現「從焊點到焊點」的閉環(huán)利用。 ...

錫渣回收的「零浪費哲學」：電子廠的廢料錫渣（含錫95%以上）通過真空蒸餾技術（溫度500℃，真空度＜1Pa）提純，回收率可達99.5%，在提純后的錫片雜質含量＜0.05%，重新用于偏高級方向芯片焊接，真正實現「從焊點到焊點」的閉環(huán)利用。 ...

根據已有信息，錫片的常見規(guī)格主要按厚度范圍和應用場景劃分 按應用場景細分的規(guī)格 錫片的分類和應用場景。天津預成型錫片報價 應用場景 常見厚度范圍 特殊要求 電子焊接與封裝 0.03~0.1mm（純錫箔） 高純度（≥99.99%）、表面無...

物理與機械性能 無鉛錫片 有鉛錫片 熔點 較高，通常在217℃~260℃之間（取決于合金成分，如SAC305熔點217℃，Sn-Cu合金熔點227℃），焊接需更高溫度（240℃~260℃）。 較低，共晶合金（63Sn-37Pb）熔點183...

作為深耕半導體材料領域二十余年的綜合性企業(yè)，廣東吉田半導體材料有限公司始終將技術創(chuàng)新與產品質量視為重要發(fā)展動力。公司位于東莞松山湖產業(yè)集群，依托區(qū)域產業(yè)鏈優(yōu)勢，持續(xù)為全球客戶提供多元化的半導體材料解決方案。 公司產品涵蓋芯片光刻膠、納米壓印...

技術優(yōu)勢：23年研發(fā)沉淀與細分領域突破 全流程自主化能力 吉田在光刻膠研發(fā)中實現了從樹脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過自主開發(fā)的樹脂體系，實現了3μm的分辨率，適用于MEMS傳感器、光學...

納米電子器件制造 ? 半導體芯片：在22nm以下制程中，EUV光刻膠（分辨率≤10nm）用于制備晶體管柵極、納米導線等關鍵結構，實現芯片集成度提升（如3nm制程的FinFET/GAA晶體管）。 ? 二維材料器件：在石墨烯、二...

技術突破與產業(yè)重構的臨界點 光刻膠技術的加速突破正在推動芯片制造行業(yè)進入“材料定義制程”的新階段。中國在政策支持和資本推動下，已在KrF/ArF領域實現局部突破，但EUV等領域仍需5-10年才能實現替代。未來3-5年，EUV光刻膠研發(fā)、...

吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導體芯片前道工藝...

依托自主研發(fā)與國產供應鏈，吉田半導體 LCD 光刻膠市占率達 15%，躋身國內前段企業(yè)。吉田半導體 YK-200 LCD 正性光刻膠采用國產樹脂與單體，實現 100% 國產化替代。其分辨率 0.35μm，附著力 > 3N/cm，性能優(yōu)于 JSR 的 AR-...

吉田半導體厚板光刻膠 JT-3001：國產技術助力 PCB 行業(yè)升級 JT-3001 厚板光刻膠支持 500nm/min 深蝕刻，成為國產 PCB 電路板制造推薦材料。 吉田半導體自主研發(fā)的 JT-3001 厚板光刻膠，分辨率 1.5μm，抗深蝕刻...

市場拓展 ? 短期目標：2025年前實現LCD光刻膠國內市占率10%，半導體負性膠進入中芯國際、華虹供應鏈，納米壓印膠完成臺積電驗證。 ? 長期愿景：成為全球的半導體材料方案提供商，2030年芯片光刻膠營收占比超40...

吉田半導體 YK-300 正性光刻膠：半導體芯片制造的材料 YK-300 正性光刻膠以高分辨率與耐蝕刻性，成為 45nm 及以上制程的理想選擇。 YK-300 正性光刻膠分辨率達 0.35μm，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，適用于半導體芯片前道工藝...

“設備-材料-工藝”閉環(huán)驗證 吉田半導體與中芯國際、華虹半導體等晶圓廠建立了聯合研發(fā)機制，針對28nm及以上成熟制程開發(fā)專門使用光刻膠，例如其KrF光刻膠已通過中芯國際北京廠的產線驗證，良率達95%以上。此外，公司參與國家重大專項（如02專項），與中...

應用場景 半導體集成電路（IC）制造： ? 邏輯芯片（CPU/GPU）：在28nm以下制程中，正性DUV/EUV膠用于晶體管、互連布線的精細圖案化（如10nm節(jié)點線寬只有100nm）。 ? 存儲...

技術研發(fā)：從配方到工藝的經驗壁壘 配方設計的“黑箱效應” 光刻膠配方涉及成百上千種成分的排列組合，需通過數萬次實驗優(yōu)化。例如，ArF光刻膠需在193nm波長下實現0.1μm分辨率，其光酸產率、熱穩(wěn)定性等參數需精確匹配光刻機性能...

光刻膠系列： 厚板光刻膠 JT - 3001，具備優(yōu)異分辨率、感光度和抗深蝕刻性能，符合歐盟 ROHS 標準，保質期 1 年； 水油光刻膠 SR - 3308，容量 5L；SU - 3 負性光刻膠，分辨率優(yōu)異，對比度良好，曝光靈敏度高，光源適應...

研發(fā)投入 ? 擁有自己實驗室和研發(fā)團隊，研發(fā)費用占比超15%，聚焦EUV光刻膠前驅體、低缺陷納米壓印膠等前沿領域，與中山大學、華南理工大學建立產學研合作。 ? 專項布局：累計申請光刻膠相關的項目30余項，涵蓋樹脂合成...

定義與特性 負性光刻膠是一種在曝光后，未曝光區(qū)域會溶解于顯影液的光敏材料，形成與掩膜版（Mask）圖案相反的圖形。與正性光刻膠相比，其主要特點是耐蝕刻性強、工藝簡單、成本低，但分辨率較低（通?！?μm），主要應用于對精度要求相對較低、需...