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二氧化碳標(biāo)準(zhǔn)氣體廠家供應(yīng)而使有光刻膠掩蔽的區(qū)域保存下來,這樣便在基片表面得到所需要的成像圖形。蝕刻的基本要求是,圖形邊緣整齊,線條清晰,圖形變換差小,且對光刻膠膜及其掩蔽保護的表面無損傷和鉆蝕。蝕刻方式有濕法化學(xué)蝕刻和干法化學(xué)蝕刻。干法蝕刻所用氣體稱蝕刻氣體,通常多為氟化物氣體,例如四氟化碳、三氟化氮、六氟乙烷、全氟丙烷、三氟甲烷等。干法蝕刻由于蝕刻方向性強、工藝控制精確、方便、無脫膠現(xiàn)象、無基片損傷和沾污,所以其應(yīng)用范圍日益***。1.特種氣體(Specialtygases)：指那些在特定領(lǐng)域中應(yīng)用的,對氣體有特殊要求的純氣、高純氣或由高純單質(zhì)氣體配制的二元或多元混合氣。特種氣體門類繁多,通?？蓞^(qū)分為電子氣...
2024-09-21