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        晶片納米壓印現(xiàn)場服務
        
                    
        
                        來源：
                        發(fā)布時間：2020-06-13
                    
        
                    
        
                        
        
	EVG ® 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

        

        
	具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng)，從碎片到比較大150毫米。

        

        
	該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間*為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到**級別的所有需求，因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。

        

        
	
        
EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。晶片納米壓印現(xiàn)場服務
        
	EVG ® 6200 NT特征：

        

        
	頂部和底部對準能力

        

        
	高精度對準臺

        

        
	自動楔形補償序列

        

        
	電動和程序控制的曝光間隙

        

        
	支持***的UV-LED技術

        

        
	**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

        

        
	分步流程指導

        

        
	遠程技術支持

        

        
	多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

        

        
	敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

        

        
	臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

        

        
	
        

        

        
	EVG ® 6200 NT附加功能：

        

        
	鍵對準

        

        
	紅外對準

        

        
	智能NIL ®

        

        
	μ接觸印刷技術數(shù)據(jù)

        

        
	晶圓直徑（基板尺寸）

        

        
	標準光刻：75至200 mm

        

        
	柔軟的UV-NIL：75至200毫米

        

        
	SmartNIL ®：**多至150mm

        

        
	解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

        

        
	支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

        

        
	®

        

        
	
        

        

        
	曝光源：汞光源或紫外線LED光源

        

        
	對準：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米

        

        
	自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

        

        
	®：支持

        

        
	
        

        

        
	工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持

        

        
	
        
上海碳化硅納米壓印HERCULES NIL 300 mm提供市場上**納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速高功率曝光和平滑壓模分離。
        
	       EVG公司技術開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補充說：“我們開發(fā)新技術和工藝以應對*復雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo客戶IP的強大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴展的解決方案?！?
        

        
	      EVG的NILPhotonics®能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費者等所有主要市場領域釋放AR在大眾市場的應用，并遵循公司模塊計劃的推出。

        
	HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

        

        
	®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。

        

        
	
        

        

        
	EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列

        

        
	HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

        

        
	® UV-NIL系統(tǒng)達200毫米

        

        
	對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術

        

        
	
        

        

        
	HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES

        

        
	NIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技術與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結(jié)合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務”，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構晶圓退回。
EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。
        
	EVG ® 520 HE特征：

        

        
	用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應用

        

        
	自動化壓花工藝

        

        
	EVG專有的**對準工藝，用于光學對準的壓印和壓印

        

        
	氣動壓花選項

        

        
	軟件控制的流程執(zhí)行

        

        
	
        

        

        
	EVG ® 520 HE技術數(shù)據(jù)

        

        
	加熱器尺寸：150毫米，200毫米

        

        
	比較大基板尺寸：150毫米，200毫米

        

        
	**小基板尺寸：單芯片，100毫米

        

        
	比較大接觸力：10、20、60、100 kN

        

        
	比較高溫度：標準：350°C；可選：550°C

        

        
	粘合卡盤系統(tǒng)/對準系統(tǒng)

        

        
	150毫米加熱器：EVG ® 610，EVG ® 620，EVG ® 6200

        

        
	200毫米加熱器：EVG ® 6200，MBA300，的Smart View ® NT

        

        
	真空：

        

        
	標準：0.1毫巴

        

        
	可選：0.00001 mbar
IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。臺積電納米壓印有誰在用
        分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。晶片納米壓印現(xiàn)場服務
        
	EVG ® 770分步重復納米壓印光刻系統(tǒng)

        

        
	分步重復納米壓印光刻技術，可進行有效的母版制作

        

        
	
        

        

        
	EVG770是用于步進式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進行母版制作或?qū)迳系膹碗s結(jié)構進行直接圖案化。這種方法允許從**

        

        
	大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復刻印通常用于有效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。

        

        
	EVG770的主要功能包括精確的對準功能，完整的過程控制以及可滿足各種設備和應用需求的靈活性。
晶片納米壓印現(xiàn)場服務
        岱美儀器技術服務（上海）有限公司致力于儀器儀表，以科技創(chuàng)新實現(xiàn)***管理的追求。岱美儀器技術服務深耕行業(yè)多年，始終以客戶的需求為向?qū)?，為客戶提?**的磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術服務不斷開拓創(chuàng)新，追求出色，以技術為先導，以產(chǎn)品為平臺，以應用為重點，以服務為保證，不斷為客戶創(chuàng)造更高價值，提供更優(yōu)服務。岱美儀器技術服務始終關注儀器儀表行業(yè)。滿足市場需求，提高產(chǎn)品價值，是我們前行的力量。