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        掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)微流控應(yīng)用

        來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2020-05-09

        EVG ® 620 NT 掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(半自動(dòng)/自動(dòng))

        特色:EVG ® 620 NT提供國(guó)家的本領(lǐng)域掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在**小化的占位面積,支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸。

        技術(shù)數(shù)據(jù):EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱(chēng),在**小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和**/優(yōu)化的總體擁有成本,提供了**/先進(jìn)的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具,可提供半自動(dòng)或自動(dòng)配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿(mǎn)足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn)。擁有操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時(shí)間以及高/效的全球服務(wù)和支持,使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。 HERCULES以**小的占地面積結(jié)合了EVG精密對(duì)準(zhǔn)和光刻膠處理系統(tǒng)的所有優(yōu)勢(shì)。掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)微流控應(yīng)用

        IQ Aligner工業(yè)自動(dòng)化功能:盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄,彎曲,翹曲,邊緣晶圓處理

        晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)200毫米

        對(duì)準(zhǔn)方式:

        上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5 μm

        底側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±1,0 μm

        紅外校準(zhǔn):≤±2,0 μm /具體取決于基板材料


        曝光設(shè)定:真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

        曝光選項(xiàng):間隔曝光/洪水曝光


        系統(tǒng)控制

        操作系統(tǒng):Windows

        文件共享和備份解決方案/無(wú)限制 程序和參數(shù)

        多語(yǔ)言用戶(hù)GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR

        實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問(wèn),診斷和故障排除


        產(chǎn)能

        全自動(dòng):第/一批生產(chǎn)量:每小時(shí)85片

        全自動(dòng):吞吐量對(duì)準(zhǔn):每小時(shí)80片 官方光刻機(jī)原理HERCULES 全電動(dòng)頂部和底部分離場(chǎng)顯微鏡支持實(shí)時(shí)、大間隙、晶圓平面或紅外對(duì)準(zhǔn),在可編程位置自動(dòng)定位。

        EVG增強(qiáng)對(duì)準(zhǔn):全電動(dòng)頂部和底部分離場(chǎng)顯微鏡支持實(shí)時(shí),大間隙,晶圓平面或紅外對(duì)準(zhǔn),在可編程位置自動(dòng)定位。確保**/佳圖形對(duì)比度,并對(duì)明場(chǎng)和暗場(chǎng)照明進(jìn)行程序控制。先進(jìn)的模式識(shí)別算法,自動(dòng)原點(diǎn)功能,合成對(duì)準(zhǔn)鍵模式導(dǎo)入和培訓(xùn)可確保高度可重復(fù)的對(duì)準(zhǔn)結(jié)果。

        曝光光學(xué):提供不同配置的曝光光學(xué)系統(tǒng),旨在實(shí)現(xiàn)任何應(yīng)用的**/大靈活性。汞燈曝光光學(xué)系統(tǒng)針對(duì)150,200和300 mm基片進(jìn)行了優(yōu)化,可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,例如i-,g-和h-線(xiàn)濾光片,甚至還有深紫外線(xiàn)。

        EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的特征:

        晶圓尺寸可達(dá)300毫米;

        自動(dòng)旋轉(zhuǎn)或噴涂或通過(guò)手動(dòng)晶圓加載/卸載進(jìn)行顯影;

        利用成熟的模塊化設(shè)計(jì)和標(biāo)準(zhǔn)化軟件,快速輕松地將過(guò)程從研究轉(zhuǎn)移到生產(chǎn);

        注射器分配系統(tǒng),用于利用小體積的光刻膠,包括高粘度光刻膠;

        占地面積小,同時(shí)保持較高的人身和流程安全性;

        多用戶(hù)概念(無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言)。


        選項(xiàng)功能:

        使用OmniSpray®涂層技術(shù)對(duì)高形晶圓表面進(jìn)行均勻涂層;

        蠟和環(huán)氧涂層,用于后續(xù)粘合工藝;


        玻璃旋涂(SOG)涂層。


        IQ Aligner光刻機(jī)支持的晶圓尺寸高達(dá)200 mm / 300 mm。

        EVG也提供量產(chǎn)型掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。對(duì)于在微米范圍內(nèi)的光刻圖形,掩模對(duì)準(zhǔn)器是**/具成本效益的技術(shù),與其他解決方案相比,每層可節(jié)省30%以上的成本,這對(duì)用戶(hù)來(lái)說(shuō)是至關(guān)重要的。EVG的大批量制造系統(tǒng)旨在以**/佳的成本效率與**/高的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)相結(jié)合,并由卓/越的全球服務(wù)基礎(chǔ)設(shè)施提供支持。**重要的是,大焦深曝光光學(xué)系統(tǒng)完美匹配大批量生產(chǎn)中的厚抗蝕劑,表面形貌和非平面基片的圖形。在全球范圍內(nèi),我們?yōu)樵S多客戶(hù)提供了量產(chǎn)型的光刻機(jī)系統(tǒng),得到了他們的無(wú)數(shù)好評(píng)。EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過(guò)35年,能夠深入了解他們的獨(dú)特需求。上海EVG620 NT光刻機(jī)

        EVG101光刻膠處理機(jī)可支持**/大300 mm的晶圓。掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)微流控應(yīng)用

        儀器儀表行業(yè)飛速發(fā)展一是因?yàn)槲覈?guó)的經(jīng)濟(jì)高速穩(wěn)定發(fā)展的運(yùn)行;按照過(guò)去的經(jīng)驗(yàn),如果GDP的增長(zhǎng)在10%以上時(shí),儀表行業(yè)的增長(zhǎng)率則在26%~30%之間。二是因?yàn)槲覈?guó)宏觀調(diào)控對(duì)儀表行業(yè)的影響有一個(gè)滯后期,儀表往往在工程的后期才交付使用,因此,因宏觀調(diào)控政策而減少的收入對(duì)儀表行業(yè)的影響不會(huì)太大。進(jìn)一步提升我國(guó)儀器儀表技術(shù)和水平,有限責(zé)任公司企業(yè)要順應(yīng)產(chǎn)業(yè)發(fā)展潮流,在穩(wěn)固常規(guī)品種的同時(shí),進(jìn)一步發(fā)展智能儀器儀表,提升產(chǎn)業(yè)數(shù)字化、智能化、集成化水平。隨著手機(jī)移動(dòng)網(wǎng)絡(luò)的消費(fèi)潛力不斷隱現(xiàn),消費(fèi)者利用手機(jī)消費(fèi)的頻率和份額逐年遞增。移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)所隱藏的商業(yè)價(jià)值被更多地挖掘出來(lái)之后,各種傳統(tǒng)行業(yè)(包括磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā)行業(yè))的移動(dòng)網(wǎng)上平臺(tái)相繼誕生。中國(guó)其他型正面臨百年未有之大變局,行業(yè)行家認(rèn)為,中美貿(mào)易戰(zhàn)不會(huì)有終點(diǎn),中美關(guān)系時(shí)好時(shí)壞將成為常態(tài),儀器儀表行業(yè)無(wú)法排除大局勢(shì)的影響,且不要把問(wèn)題聚焦在關(guān)稅上。中國(guó)經(jīng)濟(jì)的高速發(fā)展得益于WTO框架下的全球化分工;現(xiàn)在中國(guó)制造的競(jìng)爭(zhēng)力在于工業(yè)門(mén)類(lèi)齊全、供應(yīng)鏈完整、供應(yīng)鏈的高度專(zhuān)業(yè)和細(xì)分。掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)微流控應(yīng)用

        岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司一直專(zhuān)注于磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢(xún)服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢(xún)服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】,是一家儀器儀表的企業(yè),擁有自己**的技術(shù)體系。公司目前擁有專(zhuān)業(yè)的技術(shù)員工,為員工提供廣闊的發(fā)展平臺(tái)與成長(zhǎng)空間,為客戶(hù)提供高質(zhì)的產(chǎn)品服務(wù),深受員工與客戶(hù)好評(píng)。誠(chéng)實(shí)、守信是對(duì)企業(yè)的經(jīng)營(yíng)要求,也是我們做人的基本準(zhǔn)則。公司致力于打造***的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā)。公司憑著雄厚的技術(shù)力量、飽滿(mǎn)的工作態(tài)度、扎實(shí)的工作作風(fēng)、良好的職業(yè)道德,樹(shù)立了良好的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā)形象,贏得了社會(huì)各界的信任和認(rèn)可。