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        陜西納米壓印微流控應(yīng)用

        來源: 發(fā)布時間:2021-07-29

        IQ Aligner®:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

        ■用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

        ■用于全場納米壓印應(yīng)用

        ■三個**控制的Z軸,用于控制壓印光刻膠的總厚度變化(TTV),并在壓模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償

        ■粘合對準(zhǔn)和紫外線粘合功能


        紫外線壓印_紫外線固化


        印章

        防紫外線基材

        附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記

        用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。

        μ-接觸印刷

        軟印章

        基板上的材料

        領(lǐng)取物料,物料轉(zhuǎn)移,刪除印章


        IQ Aligner UV-NIL是自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng),是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統(tǒng)。陜西納米壓印微流控應(yīng)用

        EVG ® 6200 NT是SmartNIL

        UV納米壓印光刻系統(tǒng)。


        用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專有SmartNIL通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)®技術(shù)范圍達(dá)150m。這些系統(tǒng)以其自動化的靈活性和可靠性而著稱,以**小的占地面積提供了**

        新的掩模對準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時間以及高 效的全球服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外,半自動和全自動系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNIL技術(shù)。


        安徽納米壓印技術(shù)支持EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

        SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),可對小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢,同時保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。

        *分辨率取決于過程和模板


        如果需要詳細(xì)的信息,請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。

        SmartNIL技術(shù)簡介

        SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。


        EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng),大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。

        EVG ® 520 HE特征:

        用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用

        自動化壓花工藝

        EVG專有的**對準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印

        氣動壓花選項(xiàng)

        軟件控制的流程執(zhí)行


        EVG ® 520 HE技術(shù)數(shù)據(jù)

        加熱器尺寸:150毫米,200毫米

        比較大基板尺寸:150毫米,200毫米

        **小基板尺寸:單芯片,100毫米

        比較大接觸力:10、20、60、100 kN

        比較高溫度:標(biāo)準(zhǔn):350°C;可選:550°C

        粘合卡盤系統(tǒng)/對準(zhǔn)系統(tǒng)

        150毫米加熱器:EVG ® 610,EVG ® 620,EVG ® 6200

        200毫米加熱器:EVG ® 6200,MBA300,的Smart View ® NT

        真空:

        標(biāo)準(zhǔn):0.1毫巴

        可選:0.00001 mbar SmartNIL 非常適合對具有復(fù)雜納米結(jié)構(gòu)微流控芯片進(jìn)行高精度圖案化,用在下一代藥 物研究和醫(yī)學(xué)診斷設(shè)備生產(chǎn)。山西納米壓印有哪些應(yīng)用

        分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。陜西納米壓印微流控應(yīng)用

        HERCULES®NIL:完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn)

        ■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸(分辨率取決于過程和模板)

        ■結(jié)合了預(yù)處理(清潔/涂布/烘烤/冷卻)和SmartNIL®技術(shù)

        ■全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復(fù)使用工作印章

        ■具備工作印章制造能力


        EVG®770:連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作

        ■用于晶圓級光學(xué)器件的微透鏡的高 效母模制造,直至SmartNIL®的納米結(jié)構(gòu)

        ■不同類型的母版的簡單實(shí)現(xiàn)

        ■可變的光刻膠分配模式

        ■分配,壓印和脫模過程中的實(shí)時圖像

        ■用于壓印和脫模的原位力控制


        陜西納米壓印微流控應(yīng)用

        岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司致力于儀器儀表,是一家其他型公司。公司業(yè)務(wù)分為磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)等,目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn),為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司將不斷增強(qiáng)企業(yè)重點(diǎn)競爭力,努力學(xué)習(xí)行業(yè)知識,遵守行業(yè)規(guī)范,植根于儀器儀表行業(yè)的發(fā)展。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營理念,全力打造公司的重點(diǎn)競爭力。