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        EVG610光刻機(jī)研發(fā)生產(chǎn)

        來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-06-23

        EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)

        轉(zhuǎn)速:**/高10 k rpm

        加速速度:**/高10 k rpm

        噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生

        超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴

        開發(fā)模塊-分配選項(xiàng)

        水坑顯影/噴霧顯影


        EVG101光刻膠處理系統(tǒng)附加模塊選項(xiàng):

        預(yù)對(duì)準(zhǔn):機(jī)械


        系統(tǒng)控制參數(shù):

        操作系統(tǒng):Windows

        文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器

        靈活的流程定義/易于拖放的程序編程

        并行處理多個(gè)作業(yè)/實(shí)時(shí)遠(yuǎn)程訪問,診斷和故障排除


        多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR


        HERCULES的橋接工具系統(tǒng)可對(duì)多種尺寸的晶圓進(jìn)行易碎,薄或翹曲的晶圓處理。EVG610光刻機(jī)研發(fā)生產(chǎn)

        EVG光刻機(jī)簡(jiǎn)介

        EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個(gè)底部對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),可以在頂部和雙面光刻,對(duì)準(zhǔn)晶圓鍵合和納米壓印光刻技術(shù)方面開創(chuàng)并建立了行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。EVG通過不斷開發(fā)掩模對(duì)準(zhǔn)器來為這些領(lǐng)域做出貢獻(xiàn),以增強(qiáng)**重要的光刻技術(shù)。EVG的掩模對(duì)準(zhǔn)目標(biāo)是容納高達(dá)300 mm的不同的尺寸,形狀和厚度的晶圓和基片,同時(shí)為高級(jí)應(yīng)用提供高科技含量的有效解決方案,并為研發(fā)提供充分的靈活可選性。EVG光刻機(jī)的掩模對(duì)準(zhǔn)器和工藝能力經(jīng)過現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)證,安裝并完美集成在全球各地的用戶系統(tǒng)中,可在眾多應(yīng)用場(chǎng)景中找到,包括高級(jí)封裝,化合物半導(dǎo)體,功率器件,LED,傳感器和MEMS。 高校光刻機(jī)質(zhì)保期多久EVG同樣為客戶提供量產(chǎn)型掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。

        集成化光刻系統(tǒng)


        HERCULES光刻量產(chǎn)軌道系統(tǒng)通過完全集成的生產(chǎn)系統(tǒng)和結(jié)合了掩模對(duì)準(zhǔn)和曝光以及集成的預(yù)處理和后處理功能的高度自動(dòng)化,完善了EVG光刻產(chǎn)品系列。HERCULES光刻軌道系統(tǒng)基于模塊化平臺(tái),將EVG已建立的光學(xué)掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)與集成的清潔,光刻膠涂層,烘烤和光刻膠顯影模塊相結(jié)合。這使HERCULES平臺(tái)變成了“一站式服務(wù)”,在這里將經(jīng)過預(yù)處理的晶圓裝載到工具中,然后返回完全結(jié)構(gòu)化的經(jīng)過處理的晶圓。目前可以預(yù)定的型號(hào)為:HERCULES。請(qǐng)?jiān)L問官網(wǎng)獲取更多的信息。


        HERCULES®

        ■   全自動(dòng)光刻跟/蹤系統(tǒng),模塊化設(shè)計(jì),用于掩模和曝光,集成了預(yù)處理和后處理能力

        ■   高產(chǎn)量的晶圓加工

        ■   **多8個(gè)濕法處理模塊以及多達(dá)24個(gè)額外烘烤,冷卻和蒸汽填料板

        ■   基于EVG的IQ Aligner® 或者EVG®6200

        NT技術(shù)進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)和曝光

        ■   **的柜內(nèi)化學(xué)處理

        ■   支持連續(xù)操作模式(CMO)

        EVG光刻機(jī)可選項(xiàng)有:

        手動(dòng)和自動(dòng)處理

        我們所有的自動(dòng)化系統(tǒng)還支持手動(dòng)基片和掩模加載功能,以便進(jìn)行過程評(píng)估。此外,該系統(tǒng)可以配置成處理彎曲,翹曲,變薄或非SEMI標(biāo)準(zhǔn)形狀的晶片和基片。各種晶圓卡盤設(shè)計(jì)毫無任何妥協(xié),帶來**/大的工藝靈活性和基片處理能力。我們的掩模對(duì)準(zhǔn)器配有機(jī)械或非接觸式光學(xué)預(yù)對(duì)準(zhǔn)器,以確保**/佳的工藝能力和產(chǎn)量。Load&Go選項(xiàng)可在自動(dòng)化系統(tǒng)上提供超快的流程啟動(dòng)。 HERCULES對(duì)準(zhǔn)精度:上側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±0.5 μm;底側(cè)對(duì)準(zhǔn):≤±1,0 μm;紅外校準(zhǔn):≤±2,0 μm /具體取決于基材。

        EVG620 NT特征2:

        自動(dòng)原點(diǎn)功能,用于對(duì)準(zhǔn)鍵的精確居中

        具有實(shí)時(shí)偏移校正功能的動(dòng)態(tài)對(duì)準(zhǔn)功能

        支持**/新的UV-LED技術(shù)

        返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)

        自動(dòng)化系統(tǒng)上的手動(dòng)基板裝載功能

        可以從半自動(dòng)版本升級(jí)到全自動(dòng)版本

        **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求

        多用戶概念(無限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問權(quán)限,不同的用戶界面語言)

        先進(jìn)的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產(chǎn)之間的兼容性

        便捷處理和轉(zhuǎn)換重組

        遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性


        EVG620 NT附加功能:

        鍵對(duì)準(zhǔn)

        紅外對(duì)準(zhǔn)

        納米壓印光刻(NIL) EVG在1985年發(fā)明了世界上第/一個(gè)底部對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),可以在頂部和雙面光刻。天津光刻機(jī)可以試用嗎

        EVG光刻機(jī)關(guān)注未來市場(chǎng)趨勢(shì) - 例如光子學(xué) 、光學(xué)3D傳感- 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案。EVG610光刻機(jī)研發(fā)生產(chǎn)

        儀器儀表行業(yè)飛速發(fā)展一是因?yàn)槲覈慕?jīng)濟(jì)高速穩(wěn)定發(fā)展的運(yùn)行;按照過去的經(jīng)驗(yàn),如果GDP的增長在10%以上時(shí),儀表行業(yè)的增長率則在26%~30%之間。二是因?yàn)槲覈暧^調(diào)控對(duì)儀表行業(yè)的影響有一個(gè)滯后期,儀表往往在工程的后期才交付使用,因此,因宏觀調(diào)控政策而減少的收入對(duì)儀表行業(yè)的影響不會(huì)太大。我國現(xiàn)有有限責(zé)任公司企業(yè)數(shù)千多家,已經(jīng)形成門類品種比較齊全,具有一定技術(shù)基礎(chǔ)和生產(chǎn)規(guī)模的產(chǎn)業(yè)體系。但同時(shí)業(yè)內(nèi)行家也指出,雖然我國測(cè)試儀器產(chǎn)業(yè)有了一定的發(fā)展,但遠(yuǎn)遠(yuǎn)不能滿足國民經(jīng)濟(jì)各行各業(yè)日益增長的迫切需求。伴隨移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)的爆發(fā)式增長,如今,它已經(jīng)漸漸取代電子商務(wù)成為了整個(gè)互聯(lián)網(wǎng)產(chǎn)業(yè)增速**快的領(lǐng)域,而移動(dòng)終端的入口也隨即成為了傳統(tǒng)行業(yè)的必爭(zhēng)之地。磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā)行業(yè)進(jìn)軍移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)實(shí)現(xiàn)線上發(fā)展勢(shì)在必行。中國其他型正面臨百年未有之大變局,行業(yè)行家認(rèn)為,中美貿(mào)易戰(zhàn)不會(huì)有終點(diǎn),中美關(guān)系時(shí)好時(shí)壞將成為常態(tài),儀器儀表行業(yè)無法排除大局勢(shì)的影響,且不要把問題聚焦在關(guān)稅上。中國經(jīng)濟(jì)的高速發(fā)展得益于WTO框架下的全球化分工;現(xiàn)在中國制造的競(jìng)爭(zhēng)力在于工業(yè)門類齊全、供應(yīng)鏈完整、供應(yīng)鏈的高度專業(yè)和細(xì)分。EVG610光刻機(jī)研發(fā)生產(chǎn)

        岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司致力于儀器儀表,以科技創(chuàng)新實(shí)現(xiàn)***管理的追求。岱美儀器技術(shù)服務(wù)擁有一支經(jīng)驗(yàn)豐富、技術(shù)創(chuàng)新的專業(yè)研發(fā)團(tuán)隊(duì),以高度的專注和執(zhí)著為客戶提供磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)不斷開拓創(chuàng)新,追求出色,以技術(shù)為先導(dǎo),以產(chǎn)品為平臺(tái),以應(yīng)用為重點(diǎn),以服務(wù)為保證,不斷為客戶創(chuàng)造更高價(jià)值,提供更優(yōu)服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注自身,在風(fēng)云變化的時(shí)代,對(duì)自身的建設(shè)毫不懈怠,高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術(shù)服務(wù)在行業(yè)的從容而自信。