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        奧地利光刻機售后服務
        
                    
        
                        來源：
                        發(fā)布時間：2021-02-03
                    
        
                    
        
                        
        
	HERCULES 光刻軌道系統(tǒng)技術數(shù)據(jù)：

        

        
	對準方式：

        

        
	上側對準：≤±0.5 μm；

        

        
	底側對準：≤±1,0 μm；

        

        
	紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材

        

        
	
        

        

        
	先進的對準功能：

        

        
	手動對準；

        

        
	自動對準；

        

        
	動態(tài)對準。

        

        
	
        

        

        
	對準偏移校正：

        

        
	自動交叉校正/手動交叉校正；

        

        
	大間隙對準。

        

        
	
        

        

        
	工業(yè)自動化功能：盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲，翹曲，邊緣晶圓處理

        

        
	曝光源：汞光源/紫外線LED光源

        

        
	曝光設定：真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

        

        
	
        

        

        
	楔形補償：全自動軟件控制；非接觸式

        

        
	曝光選項：

        

        
	間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

        

        
	
        

        

        
	系統(tǒng)控制

        

        
	操作系統(tǒng)：Windows

        

        
	文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數(shù)

        

        
	多語言用戶GUI和支持：CN，DE，F(xiàn)R，IT，JP，KR

        

        
	實時遠程訪問，診斷和故障排除
岱美是EVG光刻機在中國的代理商，提供本地化的質量服務。奧地利光刻機售后服務
        
	EVG ® 610曝光源：

        

        
	汞光源/紫外線LED光源

        

        
	楔形補償

        

        
	全自動軟件控制

        

        
	晶圓直徑（基板尺寸）

        

        
	高達100/150/200毫米

        

        
	
        

        

        
	曝光設定：

        

        
	真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式

        

        
	曝光選項：

        

        
	間隔曝光/洪水曝光/扇區(qū)曝光

        

        
	先進的對準功能：

        

        
	手動對準/原位對準驗證

        

        
	手動交叉校正

        

        
	大間隙對準

        

        
	
        

        

        
	EVG ® 610光刻機系統(tǒng)控制：

        

        
	操作系統(tǒng)：Windows

        

        
	文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)

        

        
	多語言用戶GUI和支持：CN，DE，F(xiàn)R，IT，JP，KR

        

        
	實時遠程訪問，診斷和故障排除

        

        
	使用的納米壓印光刻技術為“無紫外線”
奧地利光刻機售后服務HERCULES對準精度：上側對準：≤±0.5 μm；底側對準：≤±1,0 μm；紅外校準：≤±2,0 μm /具體取決于基材。
        
	EVG120特征：

        

        
	晶圓尺寸可達200毫米

        

        
	超緊湊設計，占用空間**小

        

        
	**多2個涂布/顯影室和10個加熱/冷卻板

        

        
	用于旋涂和噴涂，顯影，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領域提供了巨大的機會

        

        
	化學柜，用于化學品的外部存儲

        

        
	EV集團專有的OmniSpray ®超聲波霧化技術提供了****的處理結果，當涉及到極端地形的保形涂層

        

        
	CoverSpin TM旋轉蓋可降低光刻膠消耗并優(yōu)化光刻膠涂層的均勻性

        

        
	Megasonic技術用于清潔，聲波化學處理和顯影，可提高處理效率并將處理時間從數(shù)小時縮短至數(shù)分鐘

        

        
	
        

        EVG增強對準：全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時，大間隙，晶圓平面或紅外對準，在可編程位置自動定位。確保**/佳圖形對比度，并對明場和暗場照明進行程序控制。先進的模式識別算法，自動原點功能，合成對準鍵模式導入和培訓可確保高度可重復的對準結果。

        
	曝光光學：提供不同配置的曝光光學系統(tǒng)，旨在實現(xiàn)任何應用的**/大靈活性。汞燈曝光光學系統(tǒng)針對150，200和300 mm基片進行了優(yōu)化，可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求，例如i-，g-和h-線濾光片，甚至還有深紫外線。
EVG的掩模對準目標是適用于高達300 mm的不同的厚度，尺寸，形狀的晶圓和基片。
        
	EVG ® 150特征2：

        

        
	先進且經過現(xiàn)場驗證的機器人具有雙末端執(zhí)行器功能，可確保連續(xù)的高產量

        

        
	處理厚或超薄，易碎，彎曲或小直徑的晶圓

        

        
	用于旋涂和噴涂，顯影，烘烤和冷卻的多功能模塊的多功能組合為許多應用領域提供了巨大的機會

        

        
	EFEM（設備前端模塊）和可選的FSS（FOUP存儲系統(tǒng)）

        

        
	
        

        

        
	工藝技術卓/越和開發(fā)服務：

        

        
	多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

        

        
	智能過程控制和數(shù)據(jù)分析功能[Framework SW Platform]

        

        
	用于過程和機器控制的集成分析功能

        

        
	設備和過程性能跟/蹤功能

        

        
	并行/排隊任務處理功能

        

        
	智能處理功能

        

        
	發(fā)生和警報分析

        

        
	智能維護管理和跟/蹤

        

        
	
        
EVG在要求苛刻的應用中積累了多年的光刻膠旋涂和噴涂經驗。功率器件光刻機質保期多久
        EVG100系列光刻膠處理系統(tǒng)為光刻膠涂層和顯影建立了質量和靈活性方面的新的標準。奧地利光刻機售后服務
        
	EVG620 NT特征2：

        

        
	自動原點功能，用于對準鍵的精確居中

        

        
	具有實時偏移校正功能的動態(tài)對準功能

        

        
	支持**/新的UV-LED技術

        

        
	返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統(tǒng)

        

        
	自動化系統(tǒng)上的手動基板裝載功能

        

        
	可以從半自動版本升級到全自動版本

        

        
	**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

        

        
	多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

        

        
	先進的軟件功能以及研發(fā)與全/面生產之間的兼容性

        

        
	便捷處理和轉換重組

        

        
	遠程技術支持和SECS / GEM兼容性

        

        
	
        

        

        
	EVG620 NT附加功能：

        

        
	鍵對準

        

        
	紅外對準

        

        
	納米壓印光刻（NIL）
奧地利光刻機售后服務
        岱美儀器技術服務（上海）有限公司總部位于中國(上海)自由貿易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，是一家磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】的公司。公司自創(chuàng)立以來，投身于磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發(fā)，是儀器儀表的主力軍。岱美儀器技術服務始終以本分踏實的精神和必勝的信念，影響并帶動團隊取得成功。岱美儀器技術服務始終關注自身，在風云變化的時代，對自身的建設毫不懈怠，高度的專注與執(zhí)著使岱美儀器技術服務在行業(yè)的從容而自信。