發(fā)貨地點(diǎn):上海市浦東新區(qū)
發(fā)布時(shí)間:2025-09-13
某智能機(jī)器人實(shí)驗(yàn)室采用 Polos 光刻機(jī)制造了磁控微納機(jī)器人。其激光直寫技術(shù)在鎳鈦合金薄膜上刻制出 10μm 的螺旋槳結(jié)構(gòu),機(jī)器人在旋轉(zhuǎn)磁場(chǎng)下的推進(jìn)速度達(dá) 50μm/s,轉(zhuǎn)向精度小于 5°。通過(guò)自定義三維運(yùn)動(dòng)軌跡,該機(jī)器人在微流控芯片中成功實(shí)現(xiàn)了單個(gè)紅細(xì)胞的捕獲與轉(zhuǎn)運(yùn),操作成功率從傳統(tǒng)方法的 40% 提升至 85%。其輕量化設(shè)計(jì)(質(zhì)量 < 1μg)還支持在活細(xì)胞表面進(jìn)行納米級(jí)手術(shù),相關(guān)成果入選《Science Robotics》年度創(chuàng)新技術(shù)。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。POLOS 光刻機(jī):桌面級(jí)設(shè)計(jì),2-23μm 可調(diào)分辨率,兼容 4 英寸晶圓,微機(jī)電系統(tǒng)加工誤差 < 5μm。遼寧BEAM-XL光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)
某生物力學(xué)實(shí)驗(yàn)室通過(guò) Polos 光刻機(jī),在單一芯片上集成了壓阻式和電容式細(xì)胞力傳感器。其多材料曝光技術(shù)在 20μm 的懸臂梁上同時(shí)制備金屬電極與硅基壓阻元件,傳感器的力分辨率達(dá) 5pN,位移檢測(cè)精度達(dá) 1nm。在心肌細(xì)胞收縮力檢測(cè)中,該集成傳感器實(shí)現(xiàn)了力 - 電信號(hào)的同步采集,發(fā)現(xiàn)收縮力峰值與動(dòng)作電位時(shí)程的相關(guān)性達(dá) 0.92,為心臟電機(jī)械耦合機(jī)制研究提供了全新工具,相關(guān)論文發(fā)表于《Biophysical Journal》。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。上海POLOSBEAM-XL光刻機(jī)分辨率1.5微米工業(yè)4.0協(xié)同創(chuàng)新:與弗勞恩霍夫ILT合作優(yōu)化激光能量分布,提升制造精度。
在科研領(lǐng)域,設(shè)備的先進(jìn)程度往往決定了研究的深度與廣度。德國(guó)的 Polos - BESM、Polos - BESM XL、SPS 光刻機(jī) POLOS 帶來(lái)了革新之光。它們運(yùn)用無(wú)掩模激光光刻技術(shù),摒棄了傳統(tǒng)光刻中昂貴且制作周期長(zhǎng)的掩模,極大降低了成本。這些光刻機(jī)可輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光,在微流體、電子學(xué)和納 / 微機(jī)械系統(tǒng)等領(lǐng)域大顯身手。例如在微流體研究中,能precise制造復(fù)雜的微通道網(wǎng)絡(luò),助力藥物傳輸、細(xì)胞培養(yǎng)等研究。在電子學(xué)方面,可實(shí)現(xiàn)高精度的電路圖案曝光,為芯片研發(fā)提供有力支持。其占用空間小,對(duì)于空間有限的研究實(shí)驗(yàn)室來(lái)說(shuō)堪稱完美。憑借出色特性,它們已助力眾多科研團(tuán)隊(duì)取得成果,成為科研創(chuàng)新的得力助手 。
一家專注于再生醫(yī)學(xué)的科研公司在組織工程支架的研究上,使用德國(guó) Polos 光刻機(jī)取得remarkable成果。組織工程支架需要具備特定的三維結(jié)構(gòu),以促進(jìn)細(xì)胞的生長(zhǎng)和組織的修復(fù)。Polos 光刻機(jī)能夠根據(jù)預(yù)先設(shè)計(jì)的三維模型,在生物可降解材料上精確制造出復(fù)雜的孔隙結(jié)構(gòu)和表面圖案。通過(guò)該光刻機(jī)制造的支架,在動(dòng)物實(shí)驗(yàn)中表現(xiàn)出優(yōu)異的細(xì)胞黏附和組織生長(zhǎng)引導(dǎo)能力。與傳統(tǒng)制造方法相比,使用 Polos 光刻機(jī)生產(chǎn)的支架,細(xì)胞在其上的增殖速度提高了 50%,為組織工程和再生醫(yī)學(xué)的臨床應(yīng)用提供了有力支持。6英寸晶圓兼容:Polos-BESM XL Mk2支持155×155 mm大尺寸加工,工業(yè)級(jí)重復(fù)精度0.1 m。
德國(guó) Polos 光刻機(jī)系列以其緊湊的設(shè)計(jì),在有限的空間內(nèi)發(fā)揮著巨大作用。對(duì)于研究實(shí)驗(yàn)室,尤其是空間資源緊張的高校和初創(chuàng)科研機(jī)構(gòu)來(lái)說(shuō),設(shè)備的空間占用是重要考量因素。Polos 光刻機(jī)占用空間小的特點(diǎn),使其能夠輕松融入各類實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。 盡管體積小巧,但它的性能卻毫不遜色。無(wú)掩模激光光刻技術(shù)保障了高精度的圖案制作,低成本的優(yōu)勢(shì)降低了科研投入門檻。在小型實(shí)驗(yàn)室中,科研人員使用 Polos 光刻機(jī),在微流體、電子學(xué)等領(lǐng)域開(kāi)展研究,成功取得多項(xiàng)成果。從微納結(jié)構(gòu)制造到新型器件研發(fā),Polos 光刻機(jī)證明了小空間也能蘊(yùn)藏大能量,為科研創(chuàng)新提供有力支持?蒲谐晒D(zhuǎn)化:中科院利用同類技術(shù)制備跨尺度微盤陣列,研究細(xì)胞浸潤(rùn)機(jī)制。吉林光刻機(jī)光源波長(zhǎng)405微米
成本效益:?jiǎn)未纹毓獬杀镜陀趥鹘y(tǒng)光刻 1/3,小批量研發(fā)更經(jīng)濟(jì)。遼寧BEAM-XL光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)
Polos光刻機(jī)與德國(guó)Lab14集團(tuán)、弗勞恩霍夫研究所等機(jī)構(gòu)合作,推動(dòng)光子集成與半導(dǎo)體封裝技術(shù)發(fā)展。例如,Quantum X align系統(tǒng)的高對(duì)準(zhǔn)精度(100 nm)為光通信芯片提供可靠解決方案,彰顯德國(guó)精密制造與全球產(chǎn)業(yè)鏈整合的優(yōu)勢(shì)。無(wú)掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術(shù),用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復(fù)雜圖案。一個(gè)新加坡研究團(tuán)隊(duì)通過(guò)無(wú)縫集成硬件和軟件組件,開(kāi)發(fā)出一款緊湊且經(jīng)濟(jì)高效的 MLL 系統(tǒng)。通過(guò)與計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)軟件無(wú)縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進(jìn)行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實(shí)驗(yàn)室,并broad應(yīng)用于微流體、電子學(xué)和納/微機(jī)械系統(tǒng)等各個(gè)領(lǐng)域。該系統(tǒng)的經(jīng)濟(jì)高效性使其優(yōu)勢(shì)擴(kuò)展到大學(xué)研究實(shí)驗(yàn)室以外的領(lǐng)域,為半導(dǎo)體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機(jī)會(huì)。遼寧BEAM-XL光刻機(jī)可以自動(dòng)聚焦波長(zhǎng)
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